CN216956423U - 偏振片、显示模组及电子设备 - Google Patents

偏振片、显示模组及电子设备 Download PDF

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CN216956423U CN202122915917.2U CN202122915917U CN216956423U CN 216956423 U CN216956423 U CN 216956423U CN 202122915917 U CN202122915917 U CN 202122915917U CN 216956423 U CN216956423 U CN 216956423U
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林佑昇
陈坤霖
文遥
杨柏儒
秦宗
桂许春
刘俊彦
刘至哲
陈英杰
吴欣凯
程泰
刘云飞
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Abstract

本申请提供了一种偏振片、显示模组及电子设备,偏振片包括透明衬底和光栅结构,所述光栅结构设置于所述透明衬底的表面;所述光栅结构包括多个金属栅线,所述金属栅线沿第一方向延伸,多个所述金属栅线沿第二方向周期性排列,所述第二方向与所述第一方向相垂直;所述金属栅线的周期长度为100nm~250nm,所述金属栅线的宽度为30nm~100nm,所述金属栅线的高度为80nm~200nm。本申请可以提供一种能够适应可拉伸场景的偏振片,提高柔性显示模组的显示品质。

Description

偏振片、显示模组及电子设备
技术领域
本申请涉及光学器件技术领域,尤其涉及一种偏振片、显示模组及电子设备。
背景技术
偏振片是最早出现也是最常用的一种光学器件,能够实现偏振、相位调控匹配与色散等功能。其中亚波长(纳米级尺度)金属光栅结构常用来实现高消光比的偏振片,具有偏振特性优良、可见光全光谱偏振特性、光透射率高等优越特性,使其能够与其他亚波长光学器件(如:彩色滤光片、光探测器、传感器等)结合产生高性能的光学器件,广泛应用于显示屏技术领域。
如图1所示,偏振片的偏振原理如下:设定入射光电场方向垂直于金属光栅结构时为TE(Transverse Electric,横向电场)波,该入射条件下的光栅相当于近乎完美透过的介质层;当电场方向平行样金属光栅结构时为TM(Transverse Magnetic,横向磁场)波,该入射条件下的光栅结构面相当于全金属膜,对入射光具有吸收损耗与高反射,入射光实现近乎完美的全吸收不透射。这两种不同的电场方向产生的不同光透射效应也说明了光的偏振方向对光的衍射上的影响,也是偏振特性的产生原因。
柔性显示模组可以分为具有高耐久性的不易破损的柔性显示模组、可弯曲柔性显示模组、可卷曲柔性显示模组、可折叠柔性显示模组等,这样的柔性显示模组可以在空间利用和室内装饰和设计方面具有优势,并且可以用于各种应用领域。现有的偏振片的可拉伸性不足或者拉伸后无法保持高消光比特性,也就是说,现有的偏振片难以适应可拉伸场景,导致柔性显示模组的显示品质较差。
实用新型内容
本申请提供了一种偏振片、显示模组及电子设备,以提供一种能够适应可拉伸场景的偏振片,提高柔性显示模组的显示品质。
本申请第一方面提供了一种偏振片,所述偏振片包括:透明衬底;光栅结构,设置于所述透明衬底的表面;所述光栅结构包括多个金属栅线,所述金属栅线沿第一方向延伸,多个所述金属栅线沿第二方向周期性排列,所述第二方向与所述第一方向相垂直;所述金属栅线的周期长度为100nm~250nm,所述金属栅线的宽度为30nm~100nm,所述金属栅线的高度为80nm~200nm。
上述偏振片包括透明衬底和光栅结构,光栅结构设置于透明衬底的表面,光栅结构包括多个金属栅线,金属栅线沿第一方向延伸,多个金属栅线沿第二方向周期性排列,第二方向与第一方向相垂直;金属栅线的周期长度为100nm~250nm,宽度为30nm~100nm,高度为80nm~200nm,采用该尺寸的偏振片能够在全可见光范围均具有高消光比,消光比可以达到最高27dB以上,并且能够使周期长度在较大的范围内均保持高消光比,也就是说,即使在偏振片发生拉伸变形,导致偏振片的周期长度发生变化时,偏振片仍然能够保持其高消光比的特性,从而能够满足拉伸场景下的显示模组的使用需求。
可选地,所述金属栅线为金膜层、金合金膜层、银膜层、银合金膜层、铜膜层、铜合金膜层、镍膜层、镍合金膜层、铬膜层、铬合金膜层、钛膜层、钛合金膜层、铝膜层或铝合金膜层中的任意一种,也就是说,金属栅线的材质可以为金、银、铜、镍、铬、钛或铝等元素的单一金属或合金,具有多种材料选择。
可选地,所述金属栅线为银膜层,也就是说,金属栅线的材质为银,使偏振片具有更优异的透过性及消光特性,并且银具有优良的附着性,从而使金属栅线不易磨损脱落,可以延长偏振片的使用寿命。
可选地,所述金属栅线的周期长度为90nm~130nm,所述金属栅线的宽度为30nm~70nm,所述金属栅线的高度为100nm~140nm,采用该尺寸的偏振片能够在全可见光范围均具有高消光比,消光比可以达到最高27dB以上,并且能够使周期长度在较大的范围内均保持高消光比,也就是说,即使在偏振片发生拉伸变形,导致偏振片的周期长度发生变化时,偏振片仍然能够保持其高消光比的特性,从而能够满足拉伸场景下的显示模组的使用需求。
可选地,所述金属栅线为铝膜层,也就是说,金属栅线的材质为铝,使偏振片具有更优异的透过性及消光特性,并且铝的成本较低且工艺成熟,因此可以降低偏振片的生产成本。
可选地,所述金属栅线的周期长度为90nm~130nm,所述金属栅线的宽度为20nm~60nm,所述金属栅线的高度为60nm~100nm,采用该尺寸的偏振片能够在全可见光范围均具有高消光比,消光比可以达到最高55dB以上,并且能够使周期长度在较大的范围内均保持高消光比,也就是说,即使在偏振片发生拉伸变形,导致偏振片的周期长度发生变化时,偏振片仍然能够保持其高消光比的特性,从而能够满足拉伸场景下的显示模组的使用需求。
可选地,所述透明衬底为柔性透明衬底,所述透明衬底至少能够沿所述第二方向拉伸,以使偏振片能够沿第二方向拉伸或折弯,并且在施加拉伸力的过程中,由于光栅结构的线条结构,金属栅线能够得以完好地保持形状,从而使偏振片保持高消光比的特性。
可选地,所述透明衬底的杨氏模量范围为1MPa~100MPa,拉伸强度为50MPa~100MPa,弯曲强度为100MPa~150MPa,以避免拉伸或折弯过程中,透明衬底发生不可恢复的损坏,影响偏振片的消光比。
可选地,所述透明衬底采用PDMS材料制成,也就是说,透明衬底为PDMS膜层,透明性高,且具有优良的拉伸回弹性能,从而可以使偏振片多次反复拉伸或折弯而不产生变形。
可选地,所述透明衬底为刚性透明衬底。
本申请的第二方面提供了一种显示模组,其包括柔性屏主体和本申请提供的任意一种偏振片,所述偏振片设置于所述柔性屏主体的表面。
本申请的第三方面提供了一种电子设备,其包括本申请提供的任意一种显示模组。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的,并不能限制本申请。
附图说明
图1为光栅偏振片的原理示意图;
图2为本申请实施例提供的显示模组的结构示意图;
图3为图2中柔性屏与偏振片的叠层结构示意图;
图4为本申请所提供的偏振片的剖面结构示意图;
图5为本申请所提供的偏振片在不同衬底上的TM模式、TE模式光的透过率光谱;
图6为本申请所提供的偏振片在不同衬底上的消光比光谱;
图7为本申请所提供的偏振片使用不同金属的TM模式、TE模式光的透过率光谱;
图8为本申请所提供的偏振片使用不同金属的消光比光谱;
图9为本申请所提供的一种偏振片在不同周期长度下的TM模式、TE模式光的透过率光谱;
图10为本申请所提供的一种偏振片在不同周期长度下的消光比光谱;
图11为本申请所提供的另一种偏振片在不同周期长度下的TM模式、TE模式光的透过率光谱;
图12为本申请所提供的另一种偏振片在不同周期长度下的消光比光谱;
图13为本申请所提供的偏振片的制备流程图。
附图标记:
100-显示模组;
1-柔性屏主体;
11-可拉伸衬底层;
12-反射电极层;
13-发光二极管层;
14-顶电极层;
15-薄膜封装层;
16-相位调制层;
2-背膜;
3-支撑组件;
4-偏振片;
40-透明衬底;
42-金属栅线;
5-屏幕盖板。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本申请的实施例,并与说明书一起用于解释本申请的原理。
具体实施方式
为了更好的理解本申请的技术方案,下面结合附图对本申请实施例进行详细描述。
在一种具体实施例中,下面通过具体的实施例并结合附图对本申请做进一步的详细描述。
本申请实施例提供了一种电子设备,其包括显示模组,该电子设备可以为移动通讯设备、可拉伸显示设备或光学成像系统等。
如图2所示,本申请实施例提供的显示模组100包括柔性屏主体1、背膜2、支撑组件3、偏振片4和屏幕盖板5。柔性屏主体1具有可弯折的特性,柔性屏主体1能够显示图像;背膜2和支撑组件3依次设置于柔性屏主体1的背面,背膜2对柔性屏主体1起到保护作用,支撑组件3对柔性屏主体1起到支撑作用;偏振片4和屏幕盖板5依次设置于柔性屏主体1的正面,偏振片4与柔性屏主体1共同实现显影,屏幕盖板5形成柔性屏的保护层,提高柔性屏的抗冲击能力。当柔性屏主体1发生折弯时,柔性屏主体1上的偏振片4需要能够随着偏振片4一起发生折弯。相关技术中,在可见光波段实现的偏振效果不够优越或无法实现可见光全光谱的偏振特性,可见光波段的偏振片的可拉伸性不足或拉伸后无法保持高消光比特性。
如图3所示,柔性屏主体1自下而上包括可拉伸衬底层11、反射电极层12、发光二极管层13、顶电极层14、薄膜封装层15和相位调制层16。其中,柔性屏主体1的延伸方向形成xy平面,柔性屏主体1的厚度方向形成z向,反射电极层12、发光二极管层13、顶电极层14、封装层15和相位调制层16中的任意一层可为在xy平面内连续的薄膜,也可为在xy平面内呈现一定图案的薄膜,也可为在xy平面内不连续而分割为若干区域的薄膜(例如,不连续而被分割为的若干区域可与显示像素区域一一对应,发光二极管层13被分割为的若干区域可设计为发出不同颜色的光)。通过可拉伸衬底层11、反射电极层12、发光二极管层13、顶电极层14、薄膜封装层15和相位调制层16中的任意一层在xy平面内设计为不连续结构,可以使柔性屏主体1的整体在xy方向被拉伸时更不容易发生失效。
其中,可拉伸衬底层11与反射电极层12之间可包含具备一定驱动电路阵列,例如,在可拉伸衬底层11与反射电极层12之间可以设置有多个薄膜晶体管,多个薄膜晶体管在xy平面内规则排布,各薄膜晶体管之间相互电连接。反射电极层12为一导电的,并在可见光范围内具备高度光反射性的薄膜,其材质优选为金属。发光二极管层13包含至少一发光层,其材质可以为有机荧光材料、有机磷光材料、有机热激发延迟荧光材料、量子点材料或钙钛矿型材料等中的一种或几种;发光二极管层13除发光层外,还可包含若干其他子层,其他子层可为干空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层中的一种或几种。顶电极层14为一对发光层的发光有一定透过率的导电层。相位调制层16对在xy平面内偏振方向不同的可见光有不同的折射率,且其厚度使得延z方向传播的某一波长的线偏振可见光在穿过其时,转化为圆偏振光。
继续参考图3,偏振片4设置于相位调制层16的表面,偏振片4与相位调制层16的协同作用,当环境光从偏振片射入显示组件,并被反射电极层12反射时,反射光将难以射出偏振片4,以此起到减小环境光反射的作用。由于柔性屏主体1在使用时能够被拉伸,因此要求偏振片4在一定拉伸比下仍然对全可见光区有较高的偏振比,从而使得柔性屏主体1在被拉伸状态下,仍然能保持较低的环境光反射率,进而保证其对比度。
如图3和图4所示,本申请实施例提供了一种偏振片4,其能够实现全可见光光谱高消光比,并且拉伸后能够保持高消光比,因此在可拉伸的场景下有突出的应用潜力。该偏振片4可以结合彩色滤光片、显示模组等设计等实现一个可拉伸的光学系统方案,在照明、成像等光学领域都有广泛的潜在应用。
本申请实施例提供的偏振片4包括透明衬底40和光栅结构,光栅结构设置于透明衬底40背离柔性屏主体1的表面;光栅结构包括多个金属栅线42,金属栅线42沿第一方向延伸,多个金属栅线42沿第二方向周期性排列,第二方向与第一方向相垂直。
其中,金属栅线的周期长度P为100nm~250nm,例如,金属栅线的周期长度P可以为100nm、105nm、110nm、115nm、120nm、125nm、130nm、135nm、140nm、145nm、150nm、155nm、160nm、165nm、170nm、175nm、180nm、185nm、190nm、195nm、200nm、205nm、210nm、215nm、220nm、225nm、230nm、235nm、240nm、245nm或250nm等;金属栅线42的宽度W(金属栅线42沿第二方向的尺寸)为30nm~100nm,例如,金属栅线42的宽度W可以为30nm、32nm、35nm、38nm、40nm、42nm、45nm、48nm、50nm、52nm、55nm、58nm、60nm、62nm、65nm、68nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm或100nm等;金属栅线42的高度H(金属栅线42沿垂直于透明衬底40的方向的尺寸)为80nm~200nm,例如,金属栅线42的高度H可以为80nm、85nm、90nm、95nm、100nm、105nm、110nm、115nm、120nm、125nm、130nm、135nm、140nm、145nm、150nm、155nm、160nm、165nm、170nm、175nm、180nm、185nm、190nm、195nm或200nm等。采用该尺寸的偏振片4能够在全可见光范围(波长400nm~800nm范围)均具有高消光比,消光比可以达到最高27dB以上,并且能够使周期长度P在较大的范围内均保持高消光比,也就是说,即使在偏振片4发生拉伸变形,导致偏振片4的周期长度P发生变化时,偏振片4仍然能够保持其高消光比的特性,从而能够满足拉伸场景下的显示模组的使用需求。
具体地,当偏振片4受到沿第一方向的拉伸作用力时,透明衬底40沿第一方向产生拉伸变形,周期长度P不会发生改变;当偏振片4受到沿第二方向的拉伸作用力时,透明衬底40沿第二方向产生拉伸变形,导致相邻金属栅线42之间的间隙增大,从而导致周期长度P增大,拉伸之后的周期长度记为P1,周期长度变化的比例记为A,则A=(P1-P)/P。本申请实施例提供的偏振片4,在周期长度变化比例A不超过50%时,例如,偏振片4的周期长度P发生2%、5%、7%、10%、12%、15%、17%、20%、22%、25%、27%、30%、32%、35%、37%、40%、42%、45%、47%或50%的变化时,偏振片4均能够保持较高的消光比。
另外,本申请实施例提供的偏振片4对透明衬底40的折射率敏感性很低,在多种不同透明衬底40上均能够表现出相似的性能,因此,透明衬底40可以采用任意适当的透明材质制成,例如PC(Polycarbonate,聚碳酸酯)、SiO2(二氧化硅)、PDMS(Polydimethylsiloxane,聚二甲基硅氧烷)、PET(Polyethylene terephthalate,聚乙烯对苯二甲酸脂)或PMMA(Polymethyl methacrylate,聚甲基丙烯酸甲酯)等,透明衬底40可以为刚性透明衬底,也可以为柔性透明衬底。当透明衬底40为刚性透明衬底时,使用过程中偏振片4不可拉伸或折弯,偏振片4的周期长度保持不变;当透明衬底40为柔性透明衬底时,使用过程中偏振片4可以拉伸或折弯,从而使偏振片4能够应用于拉伸场景下的显示模组。
进一步地,当透明衬底40为柔性透明衬底时,透明衬底40至少能够沿第二方向拉伸,以使偏振片4能够沿第二方向拉伸或折弯,并且在施加拉伸力的过程中,由于光栅结构的线条结构,金属栅线42能够得以完好地保持形状,从而使偏振片保持高消光比的特性。
进一步地,当透明衬底40为柔性透明衬底时,透明衬底40的杨氏模量范围为1MPa~100MPa,拉伸强度为50MPa~100MPa,弯曲强度为100MPa~150MPa,例如,透明衬底40可以采用PDMS、PMMA或PVDF(Polyvinylidene fluoride,聚偏氟乙烯)等柔性材料制成,以避免拉伸或折弯过程中,透明衬底40发生不可恢复的损坏,影响偏振片4的消光比。
优选地,透明衬底40采用PDMS(即聚二甲基硅氧烷)材料制成,也就是说,透明衬底40为PDMS膜层,透明性高,且具有优良的拉伸回弹性能,从而可以使偏振片4多次反复拉伸或折弯而不产生变形。
为说明本申请实施例提供的偏振片采用不同透明衬底的偏振效果,将光栅结构相同、透明衬底不同的多种偏振片进行对比实验,实验中所采用的光栅结构的尺寸设计为P=110nm、W=50nm、H=120nm,金属栅线材质为银,透明衬底的材质分别为PC、SiO2、PDMS、PET和PMMA。实验方式采用FDTD(Finite-difference time-domain method,有限元差分法)光学仿真,对比实验结果参见图5和图6。其中,图5为偏振片在不同透明衬底上的TM模式、TE模式光的透过率光谱,图6为偏振片在不同透明衬底上的消光比光谱(TE/TM透过率比值)。
根据图5和图6可知,本申请实施例提供的偏振片,在不同的透明衬底上,TM模式透过率相差不大,TE模式透过率相差不大,消光比相差不大,也就是说,采用本申请实施例提供的光栅结构尺寸设计,在常见的透明衬底上均能够获得相近的偏振效果,具有广泛的适用性。
进一步地,本申请实施例提供的偏振片4的金属栅线42可以采用多种不同的金属制备。例如,金属栅线42为金膜层、金合金膜层、银膜层、银合金膜层、铜膜层、铜合金膜层、镍膜层、镍合金膜层、铬膜层、铬合金膜层、钛膜层或、合金膜层、铝膜层或铝合金膜层中的任意一种,也就是说,金属栅线42的材质为金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、镍(Ni)、铬(Cr)、钛(Ti)或铝(Al)等元素的单一金属或合金。
在一些实施例中,金属栅线42为银膜层,也就是说,金属栅线42的材质为银,当金属栅线42的材质采用银时,能够使偏振片4具有更优异的透过性及消光特性,并且银具有优良的附着性,从而使金属栅线42不易磨损脱落,可以延长偏振片4的使用寿命。
进一步地,当金属栅线42为银膜层时,金属栅线42的周期长度P为90nm~130nm,金属栅线42的宽度W为30nm~70nm,金属栅线42的高度H为100nm~140nm。采用该尺寸的偏振片4能够在全可见光范围(波长400nm~800nm范围)均具有高消光比,消光比可以达到最高27dB以上,并且能够使周期长度P在较大的范围内均保持高消光比,也就是说,即使在偏振片4发生拉伸变形,导致偏振片4的周期长度P发生变化时,偏振片4仍然能够保持其高消光比的特性,从而能够满足拉伸场景下的显示模组的使用需求。
在另一些实施例中,金属栅线42为铝膜层,也就是说,金属栅线42的材质为铝,当金属栅线42的材质采用铝时,能够使偏振片4具有更优异的透过性及消光特性,并且铝的成本较低且工艺成熟,因此可以降低偏振片4的生产成本。
进一步地,当金属栅线42为铝膜层时,金属栅线42的周期长度P为90nm~130nm,金属栅线42的宽度为20nm~60nm,金属栅线42的高度为60nm~100nm。采用该尺寸的偏振片4能够在全可见光范围(波长400nm~800nm范围)均具有高消光比,消光比可以达到最高55dB以上,并且能够使周期长度P在较大的范围内均保持高消光比,也就是说,即使在偏振片4发生拉伸变形,导致偏振片4的周期长度P发生变化时,偏振片4仍然能够保持其高消光比的特性,从而能够满足拉伸场景下的显示模组的使用需求。
为说明本申请实施例提供的偏振片采用不同金属栅线的偏振效果,将光栅结构相同、透明衬底不同的多种偏振片进行对比实验,实验中所采用的光栅结构的尺寸设计为P=110nm、W=50nm、H=120nm,金属栅线材质分别为Ag、Al、Au、Cu、Cr、Ni和Ti,透明衬底的材质为PDMS。实验方式采用FDTD光学仿真,对比实验结果参见图7和图8。其中,图7为偏振片在不同金属栅线上的TM模式、TE模式光的透过率光谱,图8为偏振片在不同金属栅线上的消光比光谱(TE/TM透过率比值)。
根据图7和图8可知,本申请实施例提供的偏振片,采用不同的金属栅线,均能够获得较高的透过率和消光比。特别是,当金属栅线的材质为Ag时,透过率明显高于其他金属,且具有较高的消光比;当金属栅线的材质为Al时,透过率和消光比均明显高于其他金属;由此可知,当金属栅线的材质选用Ag或Al时,偏振片具有更优异的透过和消光特性。
为说明本申请实施例提供的偏振片在拉伸之后的偏振效果,将采用不同周期长度P的偏振片进行对比实验,实验方式采用FDTD光学仿真。
第一组实验中所采用的光栅结构的尺寸设计为P=110nm、W=50nm、H=120nm,金属栅线材质为Ag,透明衬底的材质为PDMS,周期长度变化比例A(记为拉伸比)分别为0、10%、20%、30%、40%和50%。对比实验结果参见图9和图10。其中,图9为偏振片在不同拉伸比时的TM模式、TE模式光的透过率光谱,图10为偏振片在不同拉伸比时的消光比光谱(TE/TM透过率比值)。
第二组实验中所采用的光栅结构的尺寸设计为P=110nm、W=40nm、H=80nm,金属栅线材质为Al,透明衬底的材质为PDMS,周期长度变化比例A(记为拉伸比)分别为0、10%、20%、30%、40%和50%。对比实验结果参见图11和图12,图11为偏振片在不同拉伸比时的TM模式、TE模式光的透过率光谱,图12为偏振片在不同拉伸比时的消光比光谱(TE/TM透过率比值)。
根据图9和图11可知,本申请实施例提供的偏振片,在光栅结构的周期长度P发生变化时,TM模式透过率相差不大,TE模式透过率相差不大,由此,消光比相差不大,根据图10和图12进一步证明在光栅结构的周期长度发生变化时,消光比不会发生明显变化,因此,本申请实施例提供的偏振片在光栅结构的周期长度P产生一定变化的情况下,仍然能够保持较高的消光比,从而使本申请实施例提供的光栅结构能够制备在可拉伸的透明衬底上,使得偏振片在一定的拉伸量下仍然能够保证较高的偏振效果。
本申请实施例提供的偏振片通过对光栅结构尺寸参数及金属材料的设计,利用简单的单层光栅结构实现了全可见光范围的高消光比,简化了偏振片4的结构;由于偏振片4结构简单、形状规整且透明衬底40和光栅结构均只需单层材料,因此,可以通过纳米压印等转印技术完成其他亚波长器件所不能实现的大面积、小尺度(纳米级别)、批量制造等工艺挑战,可以实现偏振片4的高效率生产。
具体地,本申请实施例提供的偏振片4可以采用电子束直写装置、液相成膜装置(刮涂机,旋涂机,喷墨打印机等)、压印装置、金属薄膜沉积设备(真空镀膜机,磁控溅射机等)和洗胶显影装置等进行制备,具体可以采用纳米压印法进行制备。
如图13所示,纳米压印工艺制备本申请实施例中的偏振片4可以包括以下步骤:
步骤S1、首先制备用于纳米压印的母模板,其尺寸参数要与光栅的尺寸参数反向对称;母模板是用硅片然后通过电子束直写设备(EBL)进行光栅结构的光刻形成纳米压印所需的母模板。
步骤S2、在透明衬底上旋涂纳米压印对应的压印胶;其中,对于刚性透明衬底(如SiO2等),可以直接由半导体厂商的材料提供;对于柔性透明衬底(如PDMS等),可以通过旋涂甩胶的形式去制备衬底。
步骤S3、利用步骤S1制备的母模板,在步骤S2形成的透明衬底上进行纳米压印压,形成光栅结构的图案;
步骤S4、对纳米压印之后的透明衬底,使用磁控溅射或真空蒸镀的方法沉积目标金属的薄膜到目标厚度。
步骤S5、在可溶解压印胶的显影液中浸泡显影,使压印胶上的金属薄膜部分脱落(lift-off),完成偏振片的制备。
由此可见,本申请实施例提供的偏振片可通过一次纳米压印完成图案化,相对于需借助多道光罩和多次对位的紫外光刻工艺,纳米压印工艺更加简单,易于操作,并且纳米压印所用母模可以保证量产型,这将保证光栅偏振片的低生产成本。

Claims (12)

1.一种偏振片,其特征在于,所述偏振片包括:
透明衬底;
光栅结构,设置于所述透明衬底的表面;
所述光栅结构包括多个金属栅线,所述金属栅线沿第一方向延伸,多个所述金属栅线沿第二方向周期性排列,所述第二方向与所述第一方向相垂直;
所述金属栅线的周期长度为100nm~250nm,所述金属栅线的宽度为30nm~100nm,所述金属栅线的高度为80nm~200nm。
2.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于,所述金属栅线为金膜层、金合金膜层、银膜层、银合金膜层、铜膜层、铜合金膜层、镍膜层、镍合金膜层、铬膜层、铬合金膜层、钛膜层、钛合金膜层、铝膜层或铝合金膜层中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于,所述金属栅线为银膜层。
4.根据权利要求3所述的偏振片,其特征在于,所述金属栅线的周期长度为90nm~130nm,所述金属栅线的宽度为30nm~70nm,所述金属栅线的高度为100nm~140nm。
5.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于,所述金属栅线为铝膜层。
6.根据权利要求5所述的偏振片,其特征在于,所述金属栅线的周期长度为90nm~130nm,所述金属栅线的宽度为20nm~60nm,所述金属栅线的高度为60nm~100nm。
7.根据权利要求1-6任一项所述的偏振片,其特征在于,所述透明衬底为柔性透明衬底,所述透明衬底至少能够沿所述第二方向拉伸。
8.根据权利要求7所述的偏振片,其特征在于,所述透明衬底的杨氏模量范围为1MPa~100MPa,拉伸强度为50MPa~100MPa,弯曲强度为100MPa~150MPa。
9.根据权利要求7所述的偏振片,其特征在于,所述透明衬底采用PDMS材料制成。
10.根据权利要求1-6任一项所述的偏振片,其特征在于,所述透明衬底为刚性透明衬底。
11.一种显示模组,其特征在于,所述显示模组包括柔性屏主体和权利要求1-10任一项所述的偏振片,所述偏振片设置于所述柔性屏主体的表面。
12.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求11所述的显示模组。
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