CN216937370U - 一种晶片清洗干燥槽 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种晶片清洗干燥槽，属于晶片加工技术领域，包括槽体、槽盖，所述槽体内设有用于放置晶片的晶片载具，所述槽盖内设有用于晶片干燥的干燥机构，所述槽盖与槽体之间设有转动连接组件，所述干燥机构与转动连接组件连接。本实用新型结构合理、各组件之间采用可拆卸连接，便于安装维护，自动化程度高，同时晶片干燥的效果好，晶片的质量高。

Description

一种晶片清洗干燥槽

技术领域

本实用新型涉及一种晶片清洗干燥槽，属于晶片加工技术领域。

背景技术

晶片加工过程中需要进行清洗、干燥，以去除晶片表面的腐蚀液，避免腐蚀液残留在晶片表面，造成继续腐蚀，影响晶片质量。因此，晶片在进行研磨腐蚀后必须快速进行腐蚀液的清洗，去除晶片表面的腐蚀液，并且将晶片快速吹干。现有技术中，槽体结构复杂、晶片表面干燥效果差，耗时长，生产效率较低。

实用新型内容

针对上述技术问题，提供一种晶片清洗干燥槽，具体方案如下：

一种晶片清洗干燥槽，包括槽体、槽盖，所述槽体内设有用于放置晶片的晶片载具，所述槽盖内设有用于晶片干燥的干燥机构，所述槽盖与槽体之间设有转动连接组件，所述干燥机构与转动连接组件连接。

优选的所述转动连接组件包括第一转轴、用于安装第一转轴的第一安装座、第三气缸、用来与槽盖连接的第一连接件，所述第一连接件安装在槽盖的首端，所述第一安装座与槽体的槽壁固定连接，所述第三气缸与第一连接件固定连接，所述第一转轴与槽盖、第一连接件均螺栓连接；

所述干燥机构包括用于向晶片吹氮气的吹气组件、用于驱动吹气组件运动的驱动组件，所述吹气组件与槽盖连接，所述驱动组件与转动连接组件连接。

优选的，所述吹气组件包括第一进气管、用于安装第一进气管的第一安装板，所述第一安装板位于槽盖内，所述第一安装板与槽盖的底部螺栓连接，所述第一安装板与槽盖之间设有第一安装块，所述第一安装块的中部设有第一通孔，所述第一进气管的末端穿过第一通孔，所述第一安装块的顶部与槽盖螺栓连接，所述第一安装块的底部与第一安装板固定连接；

所述驱动组件包括第二气缸、推板、滑块、导轨，所述推板安装在第二气缸的输出端，所述推板与滑块的顶部螺栓连接，所述滑块与导轨滑动连接，所述推板与第一进气管连接，所述第二气缸、导轨均与第一连接件螺栓连接。

优选的，所述第一进气管设有多个喷嘴，所述第一安装板、槽盖的底部均设有用于吹气的长条孔；

所述第一连接件包括第二安装板、安装在第二安装板上的第一L型板，所述第一L型板为两个，两个第一L型板之间设有第一销轴，所述第一销轴与第三气缸的活塞杆连接，所述第二安装板、槽盖均与第一转轴螺栓连接；

所述第二安装板的末端设有第二安装块，所述第二安装块的顶部设有用于安装第一进气管的第四凹槽，所述推板的底面连接有第一卡箍，所述推板、第一进气管通过第一卡箍连接。

优选的，所述槽体还包括用于安装晶片载具的支撑组件、用于驱动晶片载具摆动的摆动机构，所述晶片载具位于支撑组件上方，所述支撑组件与槽体的底部连接，所述摆动机构与晶片载具、槽体均连接。

优选的，所述摆动机构包括用来与晶片载具连接的摆动组件、用来驱动摆动组件运动的动力组件，所述动力组件与槽体的侧壁连接，所述动力组件包括第一气缸、齿条、齿轮、小轴，所述小轴穿过槽体的槽壁，所述第一气缸、齿条、齿轮均位于槽体的外部，所述摆动组件位于槽体的内部，所述齿轮、摆动组件均安装在小轴上，所述第一气缸的输出端安装齿条，所述齿轮、齿条啮合；

所述支撑组件包括第一支撑杆、第二卡箍、用于安装支撑杆的支撑座，所述第二卡箍套第一支撑杆外，所述第二卡箍与晶片载具螺栓连接，所述支撑座与槽体的槽底螺栓连接。

优选的，所述摆动组件包括用来与槽体连接的圆杆、摆杆、转盘，所述转盘的外周设有连接杆，所述连接杆与摆杆的下部连接，所述圆杆与摆杆的上部连接。

优选的，所述槽体的槽底中部设有向上凸起的第三凹槽，所述支撑座与第三凹槽的槽底连接，所述支撑座的顶部设有用于放置支撑杆的第二凹槽。

本实用新型的有益效果：

本实用新型结构巧妙，能够实现对槽盖的自动化控制，晶片干燥的效果好，能够有效避免废液残留，提高晶片质量。本实用新型结构合理，各组件之间采用可拆卸连接，便于安装维护。

附图说明

图1为所述一种晶片清洗干燥槽的示意图；

图2为所述槽体、干燥机构、转动连接组件的连接示意图；

图3为图2中A处局部放大图；

图4为所述晶片载具、支撑组件、摆动机构的连接示意图；

图5为所述晶片载具、摆动机构的连接示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

术语“外”、“内”、“左侧”、“右侧”、“前”、“后”等指示的方位、或位置关系为基于附图1所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

实施例一

如图1-3所示的一种晶片清洗干燥槽，包括槽体1、槽盖2、晶片载具3、干燥机构4、转动连接组件5，干燥机构4用于向槽体1内的吹热氮气对晶片进行干燥，转动连接组件5安装在槽盖2与槽体1之间，转动连接组件5用于控制槽盖2自动打开和关闭，其中干燥机构4与转动连接组件5连接，槽盖2为中空结构，干燥机构4设置在槽盖2内，晶片载具3位于槽体1内，槽体1、槽盖2组成密封整体结构，本实施例中，所述槽体1的底部设有用于晶片浸泡液进出的进出口，进出口不少于1个，可以为2个、3、个甚至多个，可以根据槽体1情况设计，本实用新型对比不做限制。晶片浸泡液从该进出口进入到槽体1内，一定时间后再排出，接着对晶片进行干燥。本实施例中，晶片浸泡液为异丙醇，所述晶片载具3可以为用于放置晶片的花篮，或其他可以承载晶片的部件。

干燥时，将晶片浸泡液从进液管输送到槽体1内，并将晶片完全浸泡，浸泡一定时间后，将晶片浸泡液从出液管排出，然后，干燥机构4向槽内吹热氮气，将晶片表面的异丙醇吹干，达到晶片干燥的效果。异丙醇的高挥发性可将晶片表面水份脱水，避免水痕、微粒及金属杂质粘附于晶片表面。最后进行热氮气能够监控晶片表面的异丙醇的挥发，提高干燥效率。

所述干燥机构4包括用于向晶片吹氮气的吹气组件41、用于使吹气组件运动的驱动组件42，所述吹气组件41设置在槽盖2内，连接，所述驱动组件42与转动连接组件5连接。

所述吹气组件41包括第一进气管411、用于安装第一进气管411的第一安装板412、第一安装块413，所述第一安装板412位于槽盖2内，所述第一安装板412与槽盖2的底部螺栓连接所述第一安装块413位于第一安装板412与槽盖2之间，所述第一安装块413的中部设有第一通孔，所述第一进气管411的末端穿过第一通孔，所述第一安装块413的顶部与槽盖2螺栓连接，所述第一安装块413的底部与第一安装板412固定连接；本实施例中，所述第一进气管411设有多个喷嘴，喷嘴优选的为圆锥喷嘴，多个喷嘴呈单排、双排、三排排列，喷嘴的喷射范围较大能够覆盖整个槽体1的各个角落，所述第一安装板412、槽盖2的底部均设有用于吹气的长条孔，能够使第一进气管411有效向槽内喷气。

所述驱动组件42包括第二气缸422、推板423、滑块424、导轨425，所述推板423与第二气缸422的输出端连接，所述推板423的底面连接有卡箍，所述第一进气管411通过卡箍与推板423进行固定，所述推板423与滑块424的顶部螺栓连接，所述滑块424与导轨425滑动连接，所述第二气缸422、导轨425均与第一连接件54螺栓连接。随着第二气缸422的直线运动，推板423能够带动第一进气管411运动，通过第一进气管411的运动改变吹气角度，能够对晶片进行全方位吹气，加快干燥效率。与常规吹气管不移动的相比，本实用新型的能够使吹气更加均匀、无死角，同时对气量要求比较小，产生的噪音小，能够避免气体浪费气，实现节能、降噪的效果。

所述转动连接组件5包括第一转轴51、用于安装第一转轴51的第一安装座52、第三气缸53、第一连接件54，第一连接件54与槽盖2连接，所述第一连接件54安装在槽盖2的首端，所述第一转轴51的两端均安装有第一安装座52，第一安装座52上设有用于安装第一转轴51的第二通孔，第一转轴51能在第二通孔中转动，第一安装座52与槽体1的槽壁固定连接，所述第三气缸53的输出端与第一连接件54固定连接，所述第一转轴51与槽盖2、第一连接件54均螺栓连接，第三气缸53的下部与槽体1的槽壁连接；本实施中，第三气缸53的运动带动与第一连接件54连接的槽盖2运动，槽盖2带动第一转轴51转动，进而实现槽盖2的打开关闭，通过连接组件5实现能够实现槽盖2自动打开和关闭。

进一步的，如图3所示的第一连接件54包括第二安装板541、第一L型板542、第一销轴543、第二安装块5411，所述第二安装板541、槽盖2均与第一转轴51螺栓连接，第二安装块5411设置在第二安装板541的末端，第一L型板542安装在第二安装板541的首端，所述第一L型板542为两个并呈轴对称设置，第一销轴543位于两个第一L型板之间，第三气缸53的活塞杆与第一销轴543连接，第二安装板541的首端、槽盖2的首端均设有用于第三气缸53的活塞杆穿过的第五凹槽，通过第三气缸53的活塞杆的上下运动，为槽盖2提供打开、关闭的外力，实现槽盖2的自动化控制。

此外，所述第二安装块5411的顶部设有用于安装第一进气管411的第四凹槽，第一进气管411的首端安装有挡圈，挡圈能够限制第一进气管411向首端运动的范围，使得第一进气管411能够在有效范围内进行运动，避免氮气的浪费。

实施例二

作为一种优选的方案，槽体1还包括支撑组件6、摆动机构7，摆动机构7用于驱动晶片载具3摆动，晶片载具3安装在支撑组件6上，所述支撑组件6安装在槽体1，所述支撑组件6与槽体1的底部连接，摆动机构7与晶片载具3、槽体1均连接。

所述支撑组件6包括第一支撑杆61、第二卡箍62、支撑座63，第二卡箍62套在第一支撑杆61，第二卡箍62与镜片载具3的底部螺栓连接，第二卡箍62用来将第一支撑杆61与晶片载具3的底部连接，所述支撑座63与槽体1的槽底螺栓连接，所述支撑座63的顶部设有用于放置支撑杆的第二凹槽，第一支撑杆61穿过第二凹槽，第一支撑杆61能够在第二凹槽内转动，这样晶片载具3通过第一支撑杆61安装在支撑座63上，晶片载具3能够随着第一支撑杆61的转动进行上下摆动。

所述摆动机构7包括用来与晶片载具3连接的摆动组件70、用来驱动摆动组件运动的动力组件，所述动力组件与槽体1的侧壁连接。所述动力组件包括第一气缸71、齿条72、齿轮73、小轴74，所述小轴74穿过槽体1的槽壁，所述第一气缸71、齿条72、齿轮73均位于槽体1的外部，所述摆动组件70位于槽体1的内部，所述齿轮73、摆动组件70均安装在小轴74上，所述第一气缸71的输出端安装有第三安装板，第三安装板安装有齿条72，所述齿轮73、齿条72啮合；

所述摆动组件70包括用来与槽体连接的圆杆701、摆杆702、转盘703，所述转盘703的中部套在在小轴74上，所述转盘703的外周设有连接杆704，连接杆704在转盘703呈偏心设置(如图5所示)，所述连接杆704与摆杆702的下部连接，所述圆杆701与摆杆702的上部连接。该偏心结构能够使摆杆702做偏心摆动，进而带动带动晶片载具3上下运动，对晶片浸泡液产生搅拌的作用，增加清洗效果。

具体的，当晶片浸泡液进入到槽内后，启动第一气缸71，第一气缸71推动齿条72做直线运动，齿条72带动齿轮73转动，齿轮73有带动同轴设置的转盘703运动，转盘703圆周运动的同时，能够驱动与连接杆704连接的摆杆702摆动，摆杆702可以带动晶片载具3上下运动，晶片载具3的上下运动能够搅动晶片浸泡液，对晶片进行全方位清洗，特别是晶片载具3与晶片夹持部。与常规技术效果相比，能够避免废液残留，晶片清洗效果更好。

所述槽体1的槽底中部设有向上凸起的第三凹槽，所述支撑座63与第三凹槽的槽底连接；一方面能够使晶片载具3能够上下运动，同时第三凹槽的设计能够减小晶片浸泡液的用量，减少后端处理的压力，实现节能增效的效果。

对于本领域技术人员而言，本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其它的具体形式实现本发明。而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种晶片清洗干燥槽，包括槽体(1)、槽盖(2)，所述槽体(1)内设有用于放置晶片的晶片载具(3)，其特征在于，所述槽盖(2)内设有用于晶片干燥的干燥机构(4)，所述槽盖(2)与槽体(1)之间设有转动连接组件(5)，所述干燥机构(4)与转动连接组件(5)连接。

2.根据权利要求1所述的一种晶片清洗干燥槽，其特征在于，所述转动连接组件(5)包括第一转轴(51)、用于安装第一转轴(51)的第一安装座(52)、第三气缸(53)、用来与槽盖(2)连接的第一连接件(54)，所述第一连接件(54)安装在槽盖(2)的首端，所述第一安装座(52)与槽体(1)的槽壁固定连接，所述第三气缸(53)与第一连接件(54)固定连接，所述第一转轴(51)与槽盖(2)、第一连接件(54)均螺栓连接；

所述干燥机构(4)包括用于向晶片吹氮气的吹气组件(41)、用于驱动吹气组件(41)运动的驱动组件(42)，所述吹气组件(41)与槽盖(2)连接，所述驱动组件(42)与转动连接组件(5)连接。

3.根据权利要求2所述的一种晶片清洗干燥槽，其特征在于，所述吹气组件(41)包括第一进气管(411)、用于安装第一进气管(411)的第一安装板(412)，所述第一安装板(412)位于槽盖(2)内，所述第一安装板(412)与槽盖(2)的底部螺栓连接，所述第一安装板(412)与槽盖(2)之间设有第一安装块(413)，所述第一安装块(413)的中部设有第一通孔，所述第一进气管(411)的末端穿过第一通孔，所述第一安装块(413)的顶部与槽盖(2)螺栓连接，所述第一安装块(413)的底部与第一安装板(412)固定连接；

所述驱动组件(42)包括第二气缸(422)、推板(423)、滑块(424)、导轨(425)，所述推板(423)安装在第二气缸(422)的输出端，所述推板(423)与滑块(424) 的顶部螺栓连接，所述滑块(424)与导轨(425)滑动连接，所述推板(423)与第一进气管(411)连接，所述第二气缸(422)、导轨(425)均与第一连接件(54)螺栓连接。

4.根据权利要求3所述的一种晶片清洗干燥槽，其特征在于，

所述第一进气管(411)设有多个喷嘴，所述第一安装板(412)、槽盖(2)的底部均设有用于吹气的长条孔；

所述第一连接件(54)包括第二安装板(541)、安装在第二安装板(541)上的第一L型板(542)，所述第一L型板(542)为两个，两个第一L型板之间设有第一销轴(543)，所述第一销轴(543)与第三气缸(53)的活塞杆连接，所述第二安装板(541)、槽盖(2)均与第一转轴(51)螺栓连接；

所述第二安装板(541)的末端设有第二安装块(5411)，所述第二安装块(5411)的顶部设有用于安装第一进气管(411)的第四凹槽，所述推板(423)的底面连接有第一卡箍，所述推板(423)、第一进气管(411)通过第一卡箍连接。

5.根据权利要求1所述的一种晶片清洗干燥槽，其特征在于，所述槽体(1)还包括用于安装晶片载具(3)的支撑组件(6)、用于驱动晶片载具(3)摆动的摆动机构(7)，所述晶片载具(3)位于支撑组件(6)上方，所述支撑组件(6)与槽体(1)的底部连接，所述摆动机构(7)与晶片载具(3)、槽体(1)均连接。

6.根据权利要求5所述的一种晶片清洗干燥槽，其特征在于，

所述摆动机构(7)包括用来与晶片载具(3)连接的摆动组件(70)、用来驱动摆动组件运动的动力组件，所述动力组件与槽体(1)的侧壁连接，所述动力组件包括第一气缸(71)、齿条(72)、齿轮(73)、小轴(74)，所述小轴(74)穿过槽体(1)的槽壁，所述第一气缸(71)、齿条(72)、齿轮(73)均位于槽体(1)的外部，所述摆动组件(70)位于槽体(1)的内部，所述齿轮(73)、摆动组件(70)均安装在小轴(74)上，所述第一气缸(71)的输出端安装齿条(72)，所述齿轮(73)、齿条(72)啮合；

所述支撑组件(6)包括第一支撑杆(61)、第二卡箍(62)、用于安装支撑杆的支撑座(63)，所述第二卡箍(62)套第一支撑杆(61)外，所述第二卡箍(62)与晶片载具(3)螺栓连接，所述支撑座(63)与槽体(1)的槽底螺栓连接。

7.根据权利要求6所述的一种晶片清洗干燥槽，其特征在于，所述摆动组件(70)包括用来与槽体连接的圆杆(701)、摆杆(702)、转盘(703)，所述转盘(703)的外周设有连接杆(704)，所述连接杆(704)与摆杆(702)的下部连接，所述圆杆(701)与摆杆(702)的上部连接。

8.根据权利要求6所述的一种晶片清洗干燥槽，其特征在于，所述槽体(1)的槽底中部设有向上凸起的第三凹槽，所述支撑座(63)与第三凹槽的槽底连接，所述支撑座(63)的顶部设有用于放置支撑杆的第二凹槽。

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