CN216911252U - 一种光学元件加工用基片清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于光学元件加工装置技术领域，具体地涉及一种光学元件加工用基片清洗装置，包括箱体、清洗架、清洗框和升降机构，箱体的顶部设有顶盖，箱体的内部设有喷淋腔和超声波清洗腔，喷淋腔中设有喷淋管，喷淋管上设有喷头，超声波清洗腔的上部设有进水口、且底部设有出水口，超声波清洗腔的内部设有超声波发生器，清洗架包括底板，底板上的左右两端均固定有两根立杆，每根立杆上分别设有挂钩，清洗框的前后两侧均设有两个定位槽，清洗框的左右两侧均设有两个挂槽，清洗框中设有多根定位杆，定位杆的前后两端均设有螺纹且穿设于定位槽中，定位杆上设有夹持槽。本装置解决了由于清洗次数的增多而导致水质浑浊清洗不彻底的问题。

Description

一种光学元件加工用基片清洗装置

技术领域

本实用新型属于光学元件加工装置技术领域，具体地涉及一种光学元件加工用基片清洗装置。

背景技术

随着行业的不断发展，精密光学系统对光学薄膜的光谱控制能力和精度要求越来越高。目前，光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基片上涂镀薄膜，通过玻璃基片对入射光束的反射率和透过率进行控制，来满足不同的需要。在光学元件的加工过程中，为达到较高的表面洁净度，一般在玻璃基片镀膜前及镀膜后，都需经过清洗过程，目的是为了去除附着于这些玻璃基片表面的脏污、油渍及微粒等。然而，现有的玻璃基片在清洗过程中随着清洗次数的增加，清洗水易变的浑浊，从而导致清洗不彻底，易被清洗水二次污染。

为此，亟需加以改进。

实用新型内容

为了解决现有技术中存在的上述问题，本实用新型提供了一种光学元件加工用基片清洗装置，包括箱体、清洗架、清洗框和升降机构，所述箱体的顶部设置有顶盖，所述箱体的内部设有喷淋腔和超声波清洗腔，且喷淋腔位于超声波清洗腔的上方，所述喷淋腔中设有喷淋管，所述喷淋管的一端连接有喷头、另一端连接至外部水源，所述超声波清洗腔的上部设置有进水口、且底部设置有出水口，所述超声波清洗腔内部的左右两侧均设有超声波发生器，所述箱体的前后两侧均设有传动腔，且传动腔穿过喷淋腔和超声波清洗腔，两个所述传动腔相对一侧均开设有槽口；

所述清洗架包括底板，所述底板上的左右两端均固定有两根立杆，每根所述立杆上分别设置有挂钩，所述清洗框的前后两侧均设有两个上下平行的定位槽，所述清洗框的左右两侧均设有两个与挂钩相匹配的挂槽，所述清洗框中设有多根相互平行的定位杆，且多根定位杆上下交错设置，所述定位杆的前后两端均设有螺纹且穿设于对应的定位槽中，所述定位杆上设置有齿形的夹持槽，所述夹持槽的内部设有软垫层，所述升降机构用于驱动清洗架和清洗框上下移动。

优选的，所述升降机构包括升降板和两组结构相同的升降组件，且两组升降组件分设在箱体的前后两侧，所述升降组件包括丝杆、滑块以及固定设置在箱体外部的同步电机，所述丝杆转动连接在传动腔中，所述丝杆的顶端固定有水平锥齿轮，所述水平锥齿轮啮合连接有竖直锥齿轮，所述竖直锥齿轮固定连接有转杆，所述转杆穿过箱体侧壁且与同步电机的输出轴传动连接，所述丝杆贯穿滑块，所述滑块通过丝杆的螺母副滑动连接在丝杆上，所述升降板设置在两组升降组件之间，所述升降板的前后两端均固定连接有连接杆，且连接杆穿过传动腔的槽口并与对应侧的滑块固定连接。

优选的，所述箱体的下方设有支腿。

优选的，所述箱体的外壁上设有观察窗，便于工作人员查看箱体内的清洗情况。

本实用新型还包括能够使一种光学元件加工用基片清洗装置正常使用的其它组件，均为本领域的常规技术手段。另外，本实用新型中未加限定的装置或组件均采用本领域中的常规技术手段，如超声波发生器和同步电机等。

本实用新型的工作原理是，根据玻璃基片的尺寸大小调整各定位杆之间的间距，然后将玻璃基片逐个放入定位杆上的夹持槽中，软垫层能够为玻璃基片起到很好的保护作用，之后再用固定螺母固定好定位杆，再将清洗框放入清洗架并挂在立杆上，然后打开箱体的顶盖，同时启动两组升降组件中的同步电机，两个同步电机的输出轴同时正转，带动竖直锥齿轮转动，进而带动啮合连接的水平锥齿轮转动，水平锥齿轮又带动丝杆转动，进而使两个滑块同时上移，从而带动升降板向上移动，然后将清洗架放在升降板上并固定好，同时控制两个同步电机的输出轴反转，使升降板带动清洗架向下移动，直至移动至箱体的喷淋腔中，盖好顶盖。

将喷淋管通过管道连接至外部水源，且管道上设有水泵，打开水泵，清洗水通过喷头喷出，对清洗框中的玻璃基片进行初步冲洗，同时水落入超声波清洗腔，然后通过控制升降机构使清洗架下移至超声波清洗腔中，启动超声波发生器，对玻璃基片进行进一步的超声波精洗，如果初步冲洗的水质较脏，可从出水口排出，然后从进水口引入干净的水源再进行超声波清洗，之后再通过控制升降机构使清洗架上移至喷淋腔中，对玻璃基片进行最后的冲洗；如果玻璃基片表面的灰尘不多，则可省去初步冲洗，直接进行超声波清洗然后再喷淋冲洗即可。

本实用新型的有益效果是，结构设计合理，操作方便，通过超声波清洗和喷淋冲洗的联合使用、以及升降机构的灵活调控，解决了由于清洗次数的增多而导致水质浑浊、清洗不彻底的问题，提高了洁净度。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1为本实用新型的整体结构示意图。

图2为本实用新型的升降机构的结构示意图。

图3为本实用新型的清洗框的俯视图。

图4为本实用新型的清洗框的前视图。

图5为本实用新型的清洗框的左视图。

图中：1.箱体，2.清洗架，3.清洗框，4.顶盖，5.喷淋腔，6.超声波清洗腔，7.喷头，8.进水口，9.出水口，10.超声波发生器，11.传动腔，12.槽口，13.底板，14.立杆，15.定位槽，16.挂槽，17.定位杆，18.夹持槽，19.升降板，20.丝杆，21.滑块，22.同步电机，23.水平锥齿轮，24.竖直锥齿轮，25.支腿。

具体实施方式

下面结合本实用新型实施例中的附图以及具体实施例对本实用新型进行清楚地描述，在此处的描述仅仅用来解释本实用新型，但并不作为对本实用新型的限定。基于本实用新型中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

实施例

如图1-5所示，本实用新型提供了一种光学元件加工用基片清洗装置，包括箱体1、清洗架2、清洗框3和升降机构，所述箱体1的顶部设置有顶盖4，所述箱体1的内部设有喷淋腔5和超声波清洗腔6，且喷淋腔5位于超声波清洗腔6的上方，所述喷淋腔5中设有喷淋管，所述喷淋管的一端连接有喷头7、另一端连接至外部水源，所述超声波清洗腔6的上部设置有进水口8、且底部设置有出水口9，所述超声波清洗腔6内部的左右两侧均设有超声波发生器10，所述箱体1的前后两侧均设有传动腔11，且传动腔11穿过喷淋腔5和超声波清洗腔6，两个所述传动腔11相对一侧均开设有槽口12；

所述清洗架2包括底板13，所述底板13上的左右两端均固定有两根立杆14，每根所述立杆14上分别设置有挂钩，所述清洗框3的前后两侧均设有两个上下平行的定位槽15，所述清洗框3的左右两侧均设有两个与挂钩相匹配的挂槽16，所述清洗框3中设有多根相互平行的定位杆17，且多根定位杆17上下交错设置，所述定位杆17的前后两端均设有螺纹且穿设于对应的定位槽15中，所述定位杆17上设置有齿形的夹持槽18，所述夹持槽18的内部设有软垫层，所述升降机构用于驱动清洗架2和清洗框3上下移动。

所述升降机构包括升降板19和两组结构相同的升降组件，且两组升降组件分设在箱体1的前后两侧，所述升降组件包括丝杆20、滑块21以及固定设置在箱体1外部的同步电机22，所述丝杆20转动连接在传动腔11中，所述丝杆20的顶端固定有水平锥齿轮23，所述水平锥齿轮23啮合连接有竖直锥齿轮24，所述竖直锥齿轮24固定连接有转杆，所述转杆穿过箱体1侧壁且与同步电机22的输出轴传动连接，所述丝杆20贯穿滑块21，所述滑块21通过丝杆20的螺母副滑动连接在丝杆20上，所述升降板19设置在两组升降组件之间，所述升降板19的前后两端均固定连接有连接杆，且连接杆穿过传动腔11的槽口12并与对应侧的滑块21固定连接。

所述箱体1的下方设有支腿25。

所述箱体1的外壁上设有观察窗(图中未示出)，便于工作人员查看箱体1内的清洗情况。

本实用新型的工作原理是，根据玻璃基片的尺寸大小调整各定位杆17之间的间距，然后将玻璃基片逐个放入定位杆17上的夹持槽18中，软垫层能够为玻璃基片起到很好的保护作用，之后再用固定螺母固定好定位杆17，再将清洗框3放入清洗架2并挂在立杆14上，然后打开箱体1的顶盖4，同时启动两组升降组件中的同步电机22，两个同步电机22的输出轴同时正转，带动竖直锥齿轮24转动，进而带动啮合连接的水平锥齿轮23转动，水平锥齿轮23又带动丝杆20转动，进而使两个滑块21同时上移，从而带动升降板19向上移动，然后将清洗架2放在升降板19上并固定好，同时控制两个同步电机22的输出轴反转，使升降板19带动清洗架2向下移动，直至移动至箱体1的喷淋腔5中，盖好顶盖4。

将喷淋管通过管道连接至外部水源，且管道上设有水泵(图中未示出)，打开水泵(图中未示出)，清洗水通过喷头7喷出，对清洗框3中的玻璃基片进行初步冲洗，同时水落入超声波清洗腔6，然后通过控制升降机构使清洗架2下移至超声波清洗腔6中，启动超声波发生器10，对玻璃基片进行进一步的超声波精洗，如果初步冲洗的水质较脏，可从出水口9排出，然后从进水口8引入干净的水源再进行超声波清洗，之后再通过控制升降机构使清洗架2上移至喷淋腔5中，对玻璃基片进行最后的冲洗；如果玻璃基片表面的灰尘不多，则可省去初步冲洗，直接进行超声波清洗然后再喷淋冲洗即可。

以上已经描述了本实用新型的实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的实施例。在不偏离所说明实施例的范围和精神的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。

Claims (4)

1.一种光学元件加工用基片清洗装置，包括箱体、清洗架、清洗框和升降机构，其特征在于：所述箱体的顶部设置有顶盖，所述箱体的内部设有喷淋腔和超声波清洗腔，且喷淋腔位于超声波清洗腔的上方，所述喷淋腔中设有喷淋管，所述喷淋管的一端连接有喷头、另一端连接至外部水源，所述超声波清洗腔的上部设置有进水口、且底部设置有出水口，所述超声波清洗腔内部的左右两侧均设有超声波发生器，所述箱体的前后两侧均设有传动腔，且传动腔穿过喷淋腔和超声波清洗腔，两个所述传动腔相对一侧均开设有槽口；

所述清洗架包括底板，所述底板上的左右两端均固定有两根立杆，每根所述立杆上分别设置有挂钩，所述清洗框的前后两侧均设有两个上下平行的定位槽，所述清洗框的左右两侧均设有两个与挂钩相匹配的挂槽，所述清洗框中设有多根相互平行的定位杆，且多根定位杆上下交错设置，所述定位杆的前后两端均设有螺纹且穿设于对应的定位槽中，所述定位杆上设置有齿形的夹持槽，所述夹持槽的内部设有软垫层，所述升降机构用于驱动清洗架和清洗框上下移动。

2.根据权利要求1所述的光学元件加工用基片清洗装置，其特征在于：所述升降机构包括升降板和两组结构相同的升降组件，且两组升降组件分设在箱体的前后两侧，所述升降组件包括丝杆、滑块以及固定设置在箱体外部的同步电机，所述丝杆转动连接在传动腔中，所述丝杆的顶端固定有水平锥齿轮，所述水平锥齿轮啮合连接有竖直锥齿轮，所述竖直锥齿轮固定连接有转杆，所述转杆穿过箱体侧壁且与同步电机的输出轴传动连接，所述丝杆贯穿滑块，所述滑块通过丝杆的螺母副滑动连接在丝杆上，所述升降板设置在两组升降组件之间，所述升降板的前后两端均固定连接有连接杆，且连接杆穿过传动腔的槽口并与对应侧的滑块固定连接。

3.根据权利要求1所述的光学元件加工用基片清洗装置，其特征在于：所述箱体的下方设有支腿。

4.根据权利要求1所述的光学元件加工用基片清洗装置，其特征在于：所述箱体的外壁上设有观察窗。

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