CN216871908U - 具有水平调节模组的x射线探测器贴合设备 - Google Patents

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黄志明
孙建军
袁冉
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本实用新型提供一种具有水平调节模组的X射线探测器贴合设备,包括承载台、上模吸附模组、下模载具、旋转模组及位移调节组件;承载台的表面设有水平仪,底部设有调节式安装脚,通过调节式安装脚,为下模载具提供水平面;上模吸附模组包括上模载具、上模吸附部件及第一倾斜凸起部件,通过上模吸附部件吸附或释放第一基板;下模载具承载第二基板;旋转模组活动连接上模载具及下模载具的一端;位移调节组件包括位移调节部件及与第一倾斜凸起部件对应设置的第二倾斜凸起部件,通过调节第二倾斜凸起部件的位置,改变上模载具与下模载具之间的夹角。本实用新型可制备无气泡、胶层分布均匀、高质量的X射线探测器。

Description

具有水平调节模组的X射线探测器贴合设备
技术领域
本实用新型涉及X射线探测技术领域,涉及一种具有水平调节模组的X射线探测器贴合设备。
背景技术
数字化X射线摄影(Digital Radio Graphy,简称DR),是上世纪90年代发展起来的X射线摄影新技术,以其更快的成像速度、更便捷的操作、更高的成像分辨率等显著优点,成为数字化X射线摄影技术的主导方向,并得到世界各国的临床机构和影像学专家的认可。其在医疗影像诊断成像、工业探伤、安检等领域的应用越来越广泛。
X射线探测器概括的说是一种采用半导体技术将X射线能量转换为电信号,产生X射线图像的检测器。
现有的X射线探测器从能量转换的方式可以分为两种:间接转换型X射线探测器和直接转换型X射线探测器。其中,间接转换型X射线探测器应用较为广泛,其主要包括闪烁体及感光器阵列。在制备过程中,通常将闪烁体先制备在第一基底上以形成硬性的闪烁体结构,或称光纤面板(Fiber Optic Plates,FOP),以及在第二基底上制备薄膜晶体管TFT及光电二极管PD,以形成硬性的感光结构,或称CMOS晶体管结构,而后再将制备好的闪烁体结构与感光结构进行贴合,制备X射线探测器。
然而,在现有的X射线探测器贴合设备中,通常采用平面压合的方式,以将均为硬性材质的闪烁体结构与感光结构进行贴合,但该设备在贴合的过程中,常常会在液态胶水中产生胶层气泡的问题,使得闪烁体结构与感光结构不能紧密贴合,影响产品质量,使得制备的X射线探测器存在图像失真的问题。
因此,提供一种具有水平调节模组的X射线探测器贴合设备,实属必要。
实用新型内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种具有水平调节模组的X射线探测器贴合设备,用于解决现有技术中X射线探测器在进行贴合时产生胶层气泡的问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供一种具有水平调节模组的X射线探测器贴合设备,所述X射线探测器贴合设备包括:
承载台,所述承载台的表面设置有水平仪,且所述承载台的底部设有调节式安装脚;
上模吸附模组,所述上模吸附模组包括上模载具、上模吸附部件及第一倾斜凸起部件,所述第一倾斜凸起部件设置于所述上模载具的侧边,通过所述上模吸附部件吸附或释放待贴合的第一基板;
下模载具,所述下模载具固定于所述承载台上,通过所述下模载具承载待贴合的第二基板;
旋转模组,所述旋转模组固定于所述承载台上,连接所述上模载具及所述下模载具的一端,且所述上模载具通过所述旋转模组与所述下模载具活动连接;
位移调节组件,所述位移调节组件固定于所述承载台上,且所述位移调节组件设置于所述下模载具的侧边,所述位移调节组件包括位移调节部件及第二倾斜凸起部件,且所述第二倾斜凸起部件与所述第一倾斜凸起部件对应设置,通过所述位移调节部件调节所述第二倾斜凸起部件的位置,以改变所述上模载具与所述下模载具之间的夹角。
可选地,所述水平仪包括气泡式水平仪或电子式水平仪,且所述水平仪的个数N包括N≥1个。
可选地,所述第一基板包括闪烁体基板或感光基板,所述第二基板包括与所述第一基板对应设置的闪烁体基板或感光基板。
可选地,所述上模载具还设置有与所述上模载具相连接的手柄。
可选地,所述位移调节部件包括手轮、导向柱、丝杆及防尘罩,所述手轮与所述导向柱相连接,所述导向柱与所述丝杆相连接,所述丝杆与所述第二倾斜凸起部件相连接,通过所述手轮调节所述第二倾斜凸起部件的位移。
可选地,所述上模吸附部件包括真空式上模吸附部件或静电式上模吸附部件。
可选地,当所述上模吸附部件为真空式上模吸附部件时,所述上模载具的内表面设置有多个真空吸盘,通过所述真空吸盘吸附待贴合的所述第一基板。
可选地,所述下模载具还设置有下膜吸附部件,所述下膜吸附部件包括真空式下膜吸附部件或静电式下膜吸附部件。
可选地,当所述上模吸附部件为真空式上模吸附部件时,所述上模载具的内表面设置有多个真空吸盘,通过所述真空吸盘吸附待贴合的所述第二基板。
可选地,所述下模载具的表面设置有限位槽,通过所述限位槽对待贴合的所述第二基板进行限位。
如上所述,本实用新型的具有水平调节模组的X射线探测器贴合设备,包括承载台、上模吸附模组、下模载具、旋转模组及位移调节组件,其中,所述承载台的表面设置有水平仪,且所述承载台的底部设有调节式安装脚;所述上模吸附模组包括上模载具、上模吸附部件及第一倾斜凸起部件,所述第一倾斜凸起部件设置于所述上模载具的侧边,通过所述上模吸附部件吸附或释放待贴合的第一基板;所述下模载具固定于所述承载台上,承载待贴合的第二基板;所述旋转模组固定于所述承载台上,连接所述上模载具及所述下模载具的一端,且所述上模载具通过所述旋转模组与所述下模载具活动连接;所述位移调节组件固定于所述承载台上,且设置于所述下模载具的侧边,所述位移调节组件包括位移调节部件及第二倾斜凸起部件,且所述第二倾斜凸起部件与所述第一倾斜凸起部件对应设置,通过所述位移调节部件调节所述第二倾斜凸起部件的位置,以改变所述上模载具与所述下模载具之间的夹角。
本实用新型的具有水平调节模组的所述X射线探测器贴合设备,通过所述承载台表面设置的所述水平仪,可观测所述承载台表面的水平度,且通过所述承载台的底部的所述调节式安装脚,可对所述承载台表面的水平度进行调整,以使得位于所述承载台上的所述下模载具可具有水平面,避免后续的胶水因流动性造成的分布不均匀的问题;通过位于所述下模载具侧边的所述位移调节组件,可使所述第一倾斜凸起部件与所述第二倾斜凸起部件相接触,在所述上模载具及所述下模载之间形成一定夹角,从而在后续对所述第一基板及所述第二基板进行贴合操作时,可使得贴合胶层无气泡,且胶层分布均匀,所述第一基板及所述第二基板可紧密贴合,以提高产品质量,制备高质量的X射线探测器。
附图说明
图1显示为本实用新型中的X射线探测器贴合设备在打开状态下的结构示意图。
图2显示为本实用新型中的X射线探测器贴合设备在合拢状态下的结构示意图。
图3显示为本实用新型中的上模吸附模组的结构示意图。
图4显示为本实用新型中的位移调节组件的结构示意图。
元件标号说明
100 上模吸附模组
101 上模载具
1021 真空吸盘
1022 真空值显示窗
1023 真空触发按钮
103 第一倾斜凸起部件
104 手柄
200 下模载具
300 旋转模组
400 位移调节组件
401 第二倾斜凸起部件
402 手轮
403 导向柱
404 丝杆
405 防尘罩
500 承载台
501 水平仪
502 调节式安装脚
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。
请参阅图1-图4。需要说明的是,本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想,遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局型态也可能更为复杂。
参阅图1,本实施例提供一种具有水平调节模组的X射线探测器贴合设备,所述X射线探测器贴合设备包括:
承载台500,所述承载台500的表面设置有水平仪501,且所述承载台500的底部设有调节式安装脚502;
上模吸附模组100,所述上模吸附模组100包括上模载具101、上模吸附部件及第一倾斜凸起部件103,所述第一倾斜凸起部件103设置于所述上模载具101的侧边,通过所述上模吸附部件吸附或释放待贴合的第一基板(未图示);
下模载具200,所述下模载具200固定于所述承载台500上,通过所述下模载具200承载待贴合的第二基板(未图示);
旋转模组300,所述旋转模组300固定于所述承载台500上,连接所述上模载具101及所述下模载具200的一端,且所述上模载具101通过所述旋转模组300与所述下模载具200活动连接;
位移调节组件400,所述位移调节组件400固定于所述承载台500上,且所述位移调节组件400设置于所述下模载具200的侧边,所述位移调节组件400包括位移调节部件及第二倾斜凸起部件401,且所述第二倾斜凸起部件401与所述第一倾斜凸起部件103对应设置,通过所述位移调节部件调节所述第二倾斜凸起部件401的位置,以改变所述上模载具101与所述下模载具200之间的夹角。
本实施例中的具有水平调节模组的所述X射线探测器贴合设备,通过所述承载台500表面设置的所述水平仪501,可观测所述承载台500表面的水平度,且通过所述承载台500的底部的所述调节式安装脚502,可对所述承载台500表面的水平度进行调整,以使得位于所述承载台500上的所述下模载具200可具有水平面,避免后续的胶水因流动性造成的分布不均匀的问题;通过位于所述下模载具200侧边的所述位移调节组件400,可使所述第一倾斜凸起部件103与所述第二倾斜凸起部件401相接触,在所述上模载具101及所述下模载具200之间形成一定夹角,从而在后续对所述第一基板及所述第二基板的进行贴合操作时,可使得贴合胶层无气泡,且胶层分布均匀,所述第一基板及所述第二基板可紧密贴合,以提高产品质量,制备高质量的X射线探测器。
作为示例,所述水平仪501包括气泡式水平仪或电子式水平仪,且所述水平仪501的个数N包括N≥1个。
具体的,关于所述水平仪501的种类的选择可根据需要进行配置,此处不作过分限制,本实施例中,所述水平仪501采用操作较为便捷,带有刻度的气泡式水平仪,但并非局限于此。其中,所述水平仪501的个数N可包括N≥1个,如1个、2个、3个、4个等,当选择用多个所述水平仪501时,优选多个所述水平仪501位于所述承载台500的表面的四角位置,以提高测试精准性,但并非局限于此。
当所述水平仪501检测到所述承载台500的表面倾斜时,可通过调节所述调节式安装脚502,直至获得水平面。关于所述调节式安装脚502的种类、数量及分布此处不作过分限制。
进一步的,所述承载台500的表面上还设置有用以容纳所述水平仪501的凹槽,以收容所述水平仪501。作为示例,所述第一基板可包括闪烁体基板或感光基板,所述第二基板可包括与所述第一基板对应设置的闪烁体基板或感光基板。
具体的,所述第一基板可包括第一基底及位于所述第一基底上的闪烁体层,其中,所述第一基底可包括Al板或Cu板等;所述闪烁体层可包括CsI闪烁体层等。所述第二基板可包括第二基底,如玻璃基底等,且所述第二基底上具有感光器阵列,其中,所述感光器阵列可包括薄膜晶体管,且所述薄膜晶体管可包括底栅薄膜晶体管或顶栅薄膜晶体管等。关于所述第一基板及所述第二基板的种类及结构此处不作过分限制。
通过在所述第一基板及所述第二基板之间涂覆胶水,可通过所述X射线探测器贴合设备将所述第一基板及所述第二基板进行贴合,以制备所述X射线探测器。
作为示例,所述旋转模组300包括手动调节旋转模组或自动调节旋转模组。
具体的,如图1~图3,本实施例中,所述旋转模组300采用结构较为简单的手动调节旋转模组,即所述上模载具101还设置有与所述上模载具101相连接的手柄104,通过手持所述手柄104,使得所述上模载具101通过所述旋转模组300进行旋转,以改变所述上模载具101与所述下模载具200之间的夹角。本实施例中,所述旋转模组300采用结构较为简单的旋转轴。但并非局限于此,所述旋转模组300也可采用自动调节旋转模组,以使得所述上模载具101进行旋转即可,此处不作赘述,如可采用于所述上模载具101相连接的控制器,以制动所述旋转模组300的旋转。
作为示例,所述位移调节部件包括手轮402、导向柱403、丝杆404及防尘罩405,所述手轮402与所述导向柱403相连接,所述导向柱403与所述丝杆404相连接,所述丝杆404与所述第二倾斜凸起部件401相连接,通过所述手轮402调节所述第二倾斜凸起部件401的位移。
具体的,本实施例中,所述位移调节组件400设置于所述下模载具200的侧边,且所述第二倾斜凸起部件401与所述第一倾斜凸起部件103对应设置,当所述上模载具101与所述下模载具200调节至图2的合拢状态时,可通过调节所述位移调节组件400使得所述第一倾斜凸起部件103及所述第二倾斜凸起部件401相接触,且所述上模载具101所吸附的所述第一基板与位于所述第二基板上的胶水的倾斜坡面相接触,从而通过所述第二倾斜凸起部件401可定位所述上模载具101,停留一段时间后,可使得胶水因表面张力吸附至所述第一基板上,而后,当胶水的上下表面与所述第一基板及所述第二基板结合面积相当后,通过所述上模吸附部件可释放所述第一基板,从而胶水可在所述第一基板及所述第二基板之间缓慢自然流动,可使得贴合胶层无气泡,所述第一基板及所述第二基板可紧密贴合,以提高产品质量,制备高质量的所述X射线探测器。
作为示例,所述上模吸附部件包括真空式上模吸附部件或静电式上模吸附部件。
具体的,如图2及图3,本实施例中,所述上模吸附部件采用真空式上模吸附部件,即所述上模吸附部件包括在所述上模载具101的内表面设置的多个真空吸盘1021,与所述真空吸盘1021相关联的真空值显示器、真空值显示窗1022及真空触发按钮1023等均可设置于所述承载台500上,通过所述真空吸盘1021吸附及释放待贴合的所述第一基板,关于所述真空吸盘1021的数量及分布此处不作过分限制。但所述上模吸附部件的种类并非局限于此,根据需要所述上模吸附部件还可为静电式上模吸附部件,此处不作过分限制。
作为示例,所述下模载具200还设置有下膜吸附部件,所述下膜吸附部件包括真空式下膜吸附部件或静电式下膜吸附部件,以通过所述下膜吸附部件对所述第二基板进行限位。其中,当所述上模吸附部件为真空式上模吸附部件时,所述上模载具的内表面可设置多个真空吸盘,以通过所述真空吸盘吸附待贴合的所述第二基板,当然根据需要所述下膜吸附部件也可采用静电式下膜吸附部件,关于所述下膜吸附部件的结构及种类,均可参阅所述上模吸附部件,此处不作赘述。
作为示例,所述下模载具200的表面设置有限位槽,通过所述限位槽对待贴合的所述第二基板进行限位。
具体的,如图1所示,本实施例中,所述下模载具200采用结构较为简单的设置有限位槽的所述下模载具200,以直接通过所述限位槽对待贴合的所述第二基板进行限位,关于所述限位槽的尺寸可根据所述第二基板的尺寸的需要进行设置,此处不作赘述。
综上所述,本实用新型的具有水平调节模组的X射线探测器贴合设备,包括承载台、上模吸附模组、下模载具、旋转模组及位移调节组件,其中,所述承载台的表面设置有水平仪,且所述承载台的底部设有调节式安装脚;所述上模吸附模组包括上模载具、上模吸附部件及第一倾斜凸起部件,所述第一倾斜凸起部件设置于所述上模载具的侧边,通过所述上模吸附部件吸附或释放待贴合的第一基板;所述下模载具固定于所述承载台上,承载待贴合的第二基板;所述旋转模组固定于所述承载台上,连接所述上模载具及所述下模载具的一端,且所述上模载具通过所述旋转模组与所述下模载具活动连接;所述位移调节组件固定于所述承载台上,且设置于所述下模载具的侧边,所述位移调节组件包括位移调节部件及第二倾斜凸起部件,且所述第二倾斜凸起部件与所述第一倾斜凸起部件对应设置,通过所述位移调节部件调节所述第二倾斜凸起部件的位置,以改变所述上模载具与所述下模载具之间的夹角。
本实用新型的具有水平调节模组的所述X射线探测器贴合设备,通过所述承载台表面设置的所述水平仪,可观测所述承载台表面的水平度,且通过所述承载台的底部的所述调节式安装脚,可对所述承载台表面的水平度进行调整,以使得位于所述承载台上的所述下模载具可具有水平面,避免后续的胶水因流动性造成的分布不均匀的问题;通过位于所述下模载具侧边的所述位移调节组件,可使所述第一倾斜凸起部件与所述第二倾斜凸起部件相接触,在所述上模载具及所述下模载之间形成一定夹角,从而在后续对所述第一基板及所述第二基板进行贴合操作时,可使得贴合胶层无气泡,且胶层分布均匀,所述第一基板及所述第二基板可紧密贴合,以提高产品质量,制备高质量的X射线探测器。所以,本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效,而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

Claims (10)

1.一种具有水平调节模组的X射线探测器贴合设备,其特征在于,所述X射线探测器贴合设备包括:
承载台,所述承载台的表面设置有水平仪,且所述承载台的底部设有调节式安装脚;
上模吸附模组,所述上模吸附模组包括上模载具、上模吸附部件及第一倾斜凸起部件,所述第一倾斜凸起部件设置于所述上模载具的侧边,通过所述上模吸附部件吸附或释放待贴合的第一基板;
下模载具,所述下模载具固定于所述承载台上,通过所述下模载具承载待贴合的第二基板;
旋转模组,所述旋转模组固定于所述承载台上,连接所述上模载具及所述下模载具的一端,且所述上模载具通过所述旋转模组与所述下模载具活动连接;
位移调节组件,所述位移调节组件固定于所述承载台上,且所述位移调节组件设置于所述下模载具的侧边,所述位移调节组件包括位移调节部件及第二倾斜凸起部件,且所述第二倾斜凸起部件与所述第一倾斜凸起部件对应设置,通过所述位移调节部件调节所述第二倾斜凸起部件的位置,以改变所述上模载具与所述下模载具之间的夹角。
2.根据权利要求1所述的X射线探测器贴合设备,其特征在于:所述水平仪包括气泡式水平仪或电子式水平仪,且所述水平仪的个数N包括N≥1个。
3.根据权利要求1所述的X射线探测器贴合设备,其特征在于:所述第一基板包括闪烁体基板或感光基板,所述第二基板包括与所述第一基板对应设置的闪烁体基板或感光基板。
4.根据权利要求1所述的X射线探测器贴合设备,其特征在于:所述上模载具还设置有与所述上模载具相连接的手柄。
5.根据权利要求1所述的X射线探测器贴合设备,其特征在于:所述位移调节部件包括手轮、导向柱、丝杆及防尘罩,所述手轮与所述导向柱相连接,所述导向柱与所述丝杆相连接,所述丝杆与所述第二倾斜凸起部件相连接,通过所述手轮调节所述第二倾斜凸起部件的位移。
6.根据权利要求1所述的X射线探测器贴合设备,其特征在于:所述上模吸附部件包括真空式上模吸附部件或静电式上模吸附部件。
7.根据权利要求6所述的X射线探测器贴合设备,其特征在于:当所述上模吸附部件为真空式上模吸附部件时,所述上模载具的内表面设置有多个真空吸盘,通过所述真空吸盘吸附待贴合的所述第一基板。
8.根据权利要求1所述的X射线探测器贴合设备,其特征在于:所述下模载具还设置有下膜吸附部件,所述下膜吸附部件包括真空式下膜吸附部件或静电式下膜吸附部件。
9.根据权利要求8所述的X射线探测器贴合设备,其特征在于:当所述上模吸附部件为真空式上模吸附部件时,所述上模载具的内表面设置有多个真空吸盘,通过所述真空吸盘吸附待贴合的所述第二基板。
10.根据权利要求1所述的X射线探测器贴合设备,其特征在于:所述下模载具的表面设置有限位槽,通过所述限位槽对待贴合的所述第二基板进行限位。
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