CN216389256U - 一种料盒式晶圆等离子清洗结构 - Google Patents

一种料盒式晶圆等离子清洗结构 Download PDF

Info

Publication number
CN216389256U
CN216389256U CN202123094849.4U CN202123094849U CN216389256U CN 216389256 U CN216389256 U CN 216389256U CN 202123094849 U CN202123094849 U CN 202123094849U CN 216389256 U CN216389256 U CN 216389256U
Authority
CN
China
Prior art keywords
electrode
vertical plate
cleaning structure
plasma cleaning
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202123094849.4U
Other languages
English (en)
Inventor
郭峰
王宇
陈晓明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kunshan Plaux Electronics Technology Co ltd
Original Assignee
Kunshan Plaux Electronics Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kunshan Plaux Electronics Technology Co ltd filed Critical Kunshan Plaux Electronics Technology Co ltd
Priority to CN202123094849.4U priority Critical patent/CN216389256U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN216389256U publication Critical patent/CN216389256U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种料盒式晶圆等离子清洗结构,包括:真空腔体,所述真空腔体底部设有屏蔽盒,所述屏蔽盒连接有射频等离子发生器;所述真空腔体包括右立板和左立板;所述真空腔体内设有气管;所述右立板和左立板一侧之间设有电极正极,另一侧之间设有电极负极;所述电极正极与电极负极之间设有两个电极板,所述电极板上设有等距的圆孔;所述屏蔽盒通过铜柱与电极板连接,所述电极板底部设有电极屏蔽块,所述电极屏蔽块设有多个与电极板安装的固定槽。

Description

一种料盒式晶圆等离子清洗结构
技术领域
本实用新型涉及一种料盒式晶圆等离子清洗结构,属于晶圆等离子清洗技术领域。
背景技术
等离子清洗机常用于去除晶圆表面处理上的微粒、彻底去除光刻胶和其他有机物、活化及粗化晶圆表面、提高晶圆表面浸润性等,等离子清洗机在晶圆表面处理上的处理效果明显,目前在晶圆加工中普遍使用;
由于目前晶圆都是放在料盒内放置,在清洗时,需要将单个进行清洗,清洗完之后还要一个个的放回料盒,这样费时费力,降低了工作效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中的不足,提供一种料盒式晶圆等离子清洗结构。
一种料盒式晶圆等离子清洗结构,包括:
真空腔体,所述真空腔体底部设有屏蔽盒,所述屏蔽盒连接有射频等离子发生器;所述真空腔体包括右立板和左立板;所述真空腔体内设有气管;
所述右立板和左立板一侧之间设有电极正极,另一侧之间设有电极负极;所述电极正极与电极负极之间设有两个电极板,所述电极板上设有等距的圆孔;所述屏蔽盒通过铜柱与电极板连接,
所述电极板底部设有电极屏蔽块,所述电极屏蔽块设有多个与电极板安装的固定槽。
进一步地,所述电极负极设有一层石英玻璃。
进一步地,所述真空腔体顶部设有真空门,所述真空门一端与真空腔体通过铰链连接,另一端设有门把手,所述真空腔体设有与门把手匹配的门把手固定块。
进一步地,所述真空门上设有观察玻璃。
进一步地,所述电极板四周设有绝缘条。
进一步地,所述铜柱与电极屏蔽块连接处套设有绝缘管。
进一步地,所述真空腔体设有破空法兰。
进一步地,所述屏蔽盒内设有与铜柱连接的导电铜板。
与现有技术相比,本实用新型所达到的有益效果:本实用新型通过设置多个电极屏蔽块,电极板通过设在对应的电极屏蔽块上实现两个电极板之间的距离,满足不同大小的料盒;
本实用新型在电极板上开设等距圆形孔,使得清洗更加均匀;在电极负极设有一层石英玻璃形成等离子均匀,对料盒内的工件清洗更加干净。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图;
图2为本实用新型底部示意图;
图3为本实用新型俯视示意图;
图4为本实用新型底部具体结构示意图;
图中:1、射频等离子发生器;2、屏蔽盒;3、真空腔体;4、铰链;5、真空门;6、观察玻璃;7、门把手;8、门把手固定块;9、电极屏蔽块;10、右立板;11、导电铜板;12、绝缘条;13、绝缘管;14、电极负极;15、电极板;16、电极正极;17、左立板;18、进气接头;19、气管;20、铜柱;21、电极屏蔽块。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案,而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、 “底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
如图1-图4所示,公开了一种料盒式晶圆等离子清洗结构,包括:
真空腔体3,所述真空腔体3底部设有屏蔽盒2,所述屏蔽盒2连接有射频等离子发生器1;所述真空腔体3包括右立板10和左立板17;右立板10和左立板17都开设竖向的槽,用于安装电极正极16与电极负极14,采用这种安装方式便于拆卸;所述真空腔体3内设有气管19,气管19采用口子型均匀布设;
所述右立板10和左立板17一侧之间设有电极正极16,另一侧之间设有电极负极14;所述电极正极16与电极负极14之间设有两个电极板15,所述电极板15上设有等距的圆孔,等距的圆孔使得清洗更加均匀;所述屏蔽盒2通过铜柱20与电极板15连接,所述屏蔽盒2内设有与铜柱20连接的导电铜板11。
所述电极板15底部设有电极屏蔽块21,所述电极屏蔽块21设有多个与电极板15安装的固定槽,固定槽可以调节电极板15之间的距离,方便根据料盒大小进行调整间距,适应不同大小的料盒;所述电极板15四周设有绝缘条12,为了使整个真空腔体等离子均匀,在所述电极负极14上设有一层石英玻璃。
在本实施例中,所述真空腔体3顶部设有真空门5,所述真空门5一端与真空腔体3通过铰链4连接,另一端设有门把手7,所述真空腔体3设有与门把手7匹配的门把手固定块8。
如图1所示,所述真空门5上设有观察玻璃6,通过观察玻璃6方便时刻观察腔体内的情况。
如图2所示,所述铜柱20与电极屏蔽块21连接处套设有绝缘管13,保证电极屏蔽块21的绝缘性。
如图1,所述真空腔体3设有破空法兰9,工作的里面是真空状态,如果不需要真空,通过这个法兰与外面空气相通,达到破空,或者往里面通氮气达到正常大气压。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变形,这些改进和变形也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (8)

1.一种料盒式晶圆等离子清洗结构,其特征是,包括:
真空腔体(3),所述真空腔体(3)底部设有屏蔽盒(2),所述屏蔽盒(2)连接有射频等离子发生器(1);所述真空腔体(3)包括右立板(10)和左立板(17);所述真空腔体(3)内设有气管(19);
所述右立板(10)和左立板(17)一侧之间设有电极正极(16),另一侧之间设有电极负极(14);所述电极正极(16)与电极负极(14)之间设有两个电极板(15),所述电极板(15)上设有等距的圆孔;所述屏蔽盒(2)通过铜柱(20)与电极板(15)连接,
所述电极板(15)底部设有电极屏蔽块(21),所述电极屏蔽块(21)设有多个与电极板(15)安装的固定槽。
2.根据权利要求1所述的料盒式晶圆等离子清洗结构,其特征是,所述电极负极(14)设有一层石英玻璃。
3.根据权利要求1所述的料盒式晶圆等离子清洗结构,其特征是,所述真空腔体(3)顶部设有真空门(5),所述真空门(5)一端与真空腔体(3)通过铰链(4)连接,另一端设有门把手(7),所述真空腔体(3)设有与门把手(7)匹配的门把手固定块(8)。
4.根据权利要求3所述的料盒式晶圆等离子清洗结构,其特征是,所述真空门(5)上设有观察玻璃(6)。
5.根据权利要求1所述的料盒式晶圆等离子清洗结构,其特征是,所述电极板(15)四周设有绝缘条(12)。
6.根据权利要求1所述的料盒式晶圆等离子清洗结构,其特征是,所述铜柱与电极屏蔽块(21)连接处套设有绝缘管(13)。
7.根据权利要求1所述的料盒式晶圆等离子清洗结构,其特征是,所述真空腔体(3)设有破空法兰(9)。
8.根据权利要求1所述的料盒式晶圆等离子清洗结构,其特征是,所述屏蔽盒(2)内设有与铜柱(20)连接的导电铜板(11)。
CN202123094849.4U 2021-12-10 2021-12-10 一种料盒式晶圆等离子清洗结构 Active CN216389256U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202123094849.4U CN216389256U (zh) 2021-12-10 2021-12-10 一种料盒式晶圆等离子清洗结构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202123094849.4U CN216389256U (zh) 2021-12-10 2021-12-10 一种料盒式晶圆等离子清洗结构

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN216389256U true CN216389256U (zh) 2022-04-26

Family

ID=81224931

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202123094849.4U Active CN216389256U (zh) 2021-12-10 2021-12-10 一种料盒式晶圆等离子清洗结构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN216389256U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1152414C (zh) 一种用于半导体制造的处理室和用于半导体处理室的室衬
CN100397589C (zh) 等离子腐蚀室及使用其的等离子腐蚀系统
EP1537596A1 (en) Plasma processing apparatus and plasma processing method
EP4216257A1 (en) Collection assembly and semiconductor precleaning chamber
US20040107911A1 (en) Substrate support member for use in FPD manufacturing apparatus
CN102082063A (zh) 一种用于中、低频等离子体加工设备的电极板和反应腔室
CN216389256U (zh) 一种料盒式晶圆等离子清洗结构
CN107180782B (zh) 一种基座和反应腔室
WO2007029949A1 (en) Portable die cleaning apparatus and method thereof
JPH08260157A (ja) プラズマcvd装置
CN216574617U (zh) 一种表面清洁装置
CN214068685U (zh) 一种用于等离子清洗机或蚀刻机的真空清洗结构
CN216655622U (zh) 一种等离子清洗自加热型腔体
CN210701513U (zh) 等离子清洗机的清洗腔体结构
US20180358212A1 (en) System configured for sputter deposition on a substrate, shielding device for a sputter deposition chamber, and method for providing an electrical shielding in a sputter deposition chamber
CN216404198U (zh) 一种防吸附式快速分离玻璃基板的风刀
CN217616509U (zh) 清洗设备
CN217595401U (zh) 离子束清洗设备
CN216671553U (zh) 一种针对柔性材料等离子清洗腔体结构
CN218299746U (zh) 干蚀刻装置
CN217616344U (zh) 一种具有防静电控制功能的旋转冲洗设备
JP3595433B2 (ja) プラズマドライクリーナー
CN218039092U (zh) 真空镀膜设备
JP4184814B2 (ja) 平行平板型プラズマcvd装置および成膜基板の製造方法
CN219843786U (zh) 一种具有双向水路的等离子清洗模块及等离子清洗设备

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant