CN216247130U - 一种检测设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种检测设备，包括：光源组件，用于产生待测光束，所述待测光束包括多个波长，所述待测光束用于在检测面形成光斑；参考件，用于设置于检测面并形成出射光束，且所述参考件用于相对于所述待测光束移动，使所述待测光束完全照射至所述参考件以及完全未照射至所述参考件；探测单元，设置于所述出射光束的传输路径上，用于获取所述参考件移动过程中，所得到的所述出射光束中的各波长光束的光束强度形成光谱数据，并根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸。检测设备同时实现对于光斑尺寸的确定，降低光斑尺寸测量的成本，并可以实现对包含多种波长的光束的光斑测量。

Description

一种检测设备

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种检测设备。

背景技术

在半导体芯片制造领域，需要运用光学检测设备对硅晶材质表面的部分特性或局部细微结构例如薄膜厚度、颗粒污染、关键尺寸、缺陷等进行检测以保证产品质量。

如果光学检测设备发出的光束照射到待测结构的表面的光斑尺寸超出了待测结构的尺寸时，待测结构以外的非待测区域会对光束进行反射或散射，从而影响检测结果。

为了保证检测质量，需要对光束的光斑尺寸进行精确的测量，然而，现有的光斑测量设备，不仅成本较高，而且无法实现对包含多种波长的光束的光斑测量。

发明内容

本实用新型解决的问题是提供一种检测设备，能够降低光斑尺寸测量的成本，并实现对包含多种波长的光束的光斑测量。

本实用新型技术方案提供一种检测设备，包括：

光源组件，用于产生待测光束，所述待测光束包括多个波长，所述待测光束用于在检测面形成光斑；

参考件，用于设置于检测面并形成出射光束，且所述参考件用于相对于所述待测光束移动，使所述待测光束完全照射至所述参考件以及完全未照射至所述参考件；

探测单元，设置于所述出射光束的传输路径上，用于获取所述参考件移动过程中，所得到的所述出射光束中的各波长光束的光束强度形成光谱数据，并根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸。

可选地，所述探测单元包括光谱仪。

可选地，还包括：

第一方向移动装置，所述参考件和/或所述光源组件用于在所述第一方向移动装置的带动下沿第一方向移动，使所述待测光束在所述第一方向上，实现完全照射至所述参考件与完全未照射至所述参考件之间的移动；

第二方向移动装置，所述参考件和/或所述光源组件用于在所述第二方向移动装置的带动下沿第二方向移动，使所述待测光束在所述第二方向上，实现完全照射至所述参考件与完全未照射至所述参考件之间的移动。

可选地，所述探测单元，用于根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸，包括：

用于根据各所述波长光束的所述光束强度获取所述出射光束的总光束强度，并根据所述总光束强度的转折点所对应的所述参考件的相对位移差值，获取所述待测光束的光斑尺寸；和/或，

根据不同波长的光束强度的转折点分别获取各波长待测光束形成的光斑尺寸。

可选地，所述探测单元，用于根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸，包括：

用于获取各所述波长光束的所述光束强度获取所述出射光束的总光束强度的变化曲线，并根据所述变化曲线中的转折点所对应的所述参考件的相对位移差值，获得所述光斑尺寸；或者，

根据不同波长的光束强度的变化曲线，根据各个所述波长的变化曲线中的转折点所对应的所述参考件的相对位移差值，分别获取各波长待测光束形成的光斑尺寸。

可选地，所述探测单元，还用于探测所述待测光束经所述检测面处的待测物形成的信号光，并根据所述信号光获得所述待测物的检测信息。

可选地，还包括：

待测物检测单元，用于探测所述待测光束经所述检测面处的待测物形成的信号光，并根据所述信号光获得所述待测物的检测信息。

可选地，所述待测物检测单元还包括：成像单元，用于检测待测物的目标尺寸；

所述检测设备还包括：光斑调节组件，设置在所述待测光束的光路上，用于调节所述光斑尺寸，并根据检测得到的目标尺寸和光斑尺寸，将所述光斑尺寸调节至所述目标尺寸。

可选地，还包括：

半透半反光学器件，设置在所述探测单元和所述检测面之间，用于将所述信号光分为照射至所述探测单元的光束和照射至所述成像单元的光束；

所述待测光束包括第一光束和第二光束；

所述光源组件包括：第一光源和第二光源，所述第一光源用于产生第一光束，所述第二光源用于产生第二光束；

所述成像单元用于收集所述第二光束经待测物后形成的信号光，并根据收集的信号光测量待测目标的尺寸；

所述探测单元用于收集所述第一光束经待测物后形成的信号光，并根据收集的信号光测量光斑尺寸。

可选地，还包括：

起偏器，设置在所述光源组件和所述检测面之间，用于将所述待测光束调整为具有预设偏振态的检测光；

检偏器，设置在所述检测面和所述探测单元之间，用于调节所述出射光束的偏振态，并使所述出射光束传输至所述探测单元；

所述起偏器为可调起偏器，被配置为使所述检测光具有不同偏振态，和/ 或，所述检偏器为可调起偏器，被配置为使所述信号光具有不同偏振态。

与现有技术相比，本实用新型的技术方案具有以下优点：

本实用新型技术方案提供的检测设备中，通过设置于检测面，且能够相对于待测光束移动的参考件可以使得待测光束能够实现完全未照射至参考件以及完全照射至参考件，从而探测组件可以获取参考件移动过程中的出射光束中的各波长光束的光束强度形成光谱数据，并根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸，巧妙待测光束中各个波长的光谱数据，就可以获取多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸，实现对包含多种波长的光束的光斑测量，并且利用参考件就可以实现测量，结构简单，成本较低。

进一步，所述检测设备还包括所述第一方向移动装置和所述第二方向移动装置，可以分别带动所述参考件和/或所述光源组件沿所述第一方向移动使所述待测光束在所述第一方向上，实现完全照射至所述参考件以及完全未照射至所述参考件之间的移动，以及带动所述参考件和/或所述光源组件沿第二方向移动使所述待测光束在所述第二方向上，实现完全照射至所述参考件以及完全未照射至所述参考件之间的移动，由此可以在两个方向上对光斑尺寸进行测量，提高所得到的光斑尺寸的准确性。

附图说明

图1是本实用新型的检测设备的一实施例的结构示意图；

图2是本实用新型的检测设备的又一实施例的结构示意图；

图3是本实用新型的检测设备的再一实施例的结构示意图；

图4是本实用新型的检测设备的另一实施例的结构示意图；

图5是本实用新型的检测设备的另一实施例的结构示意图；

图6是本实用新型的检测设备的另一实施例的结构示意图；

图7是本实用新型的检测设备的另一实施例的结构示意图；

图8是本实用新型的检测设备的又一实施例的结构示意图；

图9是本实用新型的检测设备的再一实施例的结构示意图；

图10是本实用新型的检测设备的另一实施例的结构示意图。

具体实施方式

现有检测设备存在诸多问题，例如：检测设备的成本过高，或者检测设备无法对包含多种波长的光束进行测量。

以下结合附图对本实用新型的技术方案进行详细说明。

图1是本实用新型的检测设备一实施例的结构示意图，所述检测设备包括：

光源组件110,用于产生待光斑检测的待测光束；

参考件100，用于对所述待测光束进行反射，形成出射光束，且所述参考件100能够相对于所述待测光束移动，使所述待测光束完全照射至所述参考件100以及完全未照射至所述参考件100；

探测组件120，设置于所述出射光束的传输路径上，用于获取所述参考件 100移动过程中，所得到的所述出射光束中的各波长光束的光束强度形成光谱数据，并根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸。

容易理解的是，本文所述的光源组件110所产生的待测光束可以为光源产生的原始光束，也可以为经过光束处理后的光束，但所述待测光束为在待测物检测过程中所使用的光束。

参考件100能够相对于所述待测光束移动，既可以为参考件100移动，也可以为待测光束110(即光源组件110)移动，本实施例中，以参考件100 移动进行说明。

本实施例中，参考件100可以为刀口组件，在其他实施例中，参考件也可以为其他能够满足光束处理要求的部件。

其中，所述待测光束完全照射至所述参考件100以及完全未照射至所述参考件100，是指随着参考件100的移动，从待测光束最后一次完全未照射至所述参考件100，逐渐变为待测光束第一次完全照射至所述参考件100；也可以为，从待测光束最后一次完全照射至所述参考件100，逐渐变为待测光束第一次完全未照射至所述参考件100。

通过设置能够相对于待测光束移动的参考件100，可以使得待测光束能够实现完全未照射至参考件100以及完全照射至参考件100，从而探测组件120 可以获取参考件100移动过程中的出射光束中的各波长光束的光束强度，形成光谱数据，并根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸。

在一种具体实施方式中，探测组件120可以根据各所述波长光束的所述光束强度获取所述出射光束的总光束强度，并根据所述总光束强度的转折点所对应的所述参考件的相对位移差值，获取所述待测光束的光斑尺寸；和/或，根据不同波长的光束强度的转折点分别获取各波长待测光束形成的光斑尺寸。

容易理解的是，总光束强度的转折点是指总光束强度在参考件100的移动过程中，总光束强度一直不变到产生变化的第一点，以及在参考件100的移动过程中，总光束强度一直变化到总光束强度停止变化的第二点，而两个位置所对应的位置的差值就是相对位移差值。同理可以得到不同波长的光束强度的转折点，以及此转折点的相对位移差值。

这样，利用了各个波长光束的光束强度获取总光束强度，就可以获取待测光束的整体的光斑尺寸，而利用各个波长单独的光束强度，就可以获取各个波长的光束的光斑尺寸，很方便地实现了包含多个波长的光束的待测光束的光斑尺寸的获取。

可见，本实用新型所提供的检测设备，巧妙待测光束中各个波长的光谱数据，就可以获取多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸，实现对包含多种波长的光束的光斑测量，并且利用参考件就可以实现测量，结构简单，成本较低。

并且，当将参考件100替换为待测物品后，可以直接利用检测设备实现对于待测物品的检测。

在一种具体实施方式中，探测单元120，还用于探测所述待测光束经所述检测面处的待测物形成的信号光，并根据所述信号光获得所述待测物的检测信息。

这样，可以利用探测单元120实现光斑尺寸检测，确定光斑尺寸满足尺寸要求时，直接进行待测物的检测，提高设备的利用率的同时，降低调整难度。

在另一实施例中，检测设备还可以包括待测物检测单元，用于探测所述待测光束经所述检测面处的待测物形成的信号光，并根据所述信号光获得所述待测物的检测信息。

即待测物检测单元与探测单元120不同，是单独设置的用于获取待测物的检测信息的元件。

本实施例中，所述探测组件120可以包括光谱仪，所述光谱仪可以获取所述出射光束中的各波长光束的光束强度，并且可以利用原有检测设备中的光谱仪，无需重新设置新的设备，降低光斑尺寸测量的成本的同时，提高检测的方便性。

当然，光谱仪既可以实现对光斑尺寸的检测，又可以实现对于待测物的检测信息的获取。

在本实施例中，所述检测设备还包括第一方向移动装置和第二方向移动装置，所述参考件100在所述第一方向移动装置的带动下沿第一方向移动，使所述待测光束在所述第一方向上，实现完全照射至所述参考件100，以及完全未照射至所述参考件100。

具体地，在第一方向上，假设所述探测组件120获取到的第一转折点的总光束强度为Ix1，而此时所述参考件100的位置坐标可以为X1，那么，在第一方向上，完全照射至所述参考件100时，参考件100的位置坐标即为X1，同时，在第一方向上，假设所述探测组件120获取到的第二转折点的总光束强度为0，而此时所述参考件100的位置坐标可以为X0，那么，在第一方向上，完全未照射至所述参考件100时，参考件100的位置坐标即为X0，基于 X1、X0计算得到所述待测光束的光斑在第一方向X上的尺寸Dx。

类似的，所述参考件100还可以在所述第二方向移动装置的带动下沿第二方向移动，使所述待测光束在所述第二方向上，实现完全照射至所述参考件100和完全未照射至所述参考件100并分别获取对应状态下的位置坐标值Y1，Y0，计算得到所述待测光束的光斑在Y方向上的尺寸Dy，由于光斑形状一般为圆形或者椭圆形，由此可以得到所述待测光束的完整光斑尺寸。

当然，如果光斑形状为圆形，那么参考件100只在一个方向移动，也可以实现对于光斑尺寸的获取。

为了进一步简化获取方式，探测组件120，可以用于获取各所述波长光束的所述光束强度获取所述出射光束的总光束强度的变化曲线，并根据所述变化曲线中的转折点所对应的所述参考件的相对位移差值，获得所述光斑尺寸；或者，根据不同波长的光束强度的变化曲线，根据各个所述波长的变化曲线中的转折点所对应的所述参考件的相对位移差值，分别获取各波长待测光束形成的光斑尺寸。

变化曲线的使用，使得光束强度的变化规律更容易获取，同时，转折点所对应的位置也更容易获取，从而更容易实现光斑尺寸的获取。

具体的，请参考图2，图2是本实用新型的检测设备的又一实施例的结构示意图。

在一种具体实施方式中，为了实现对于优化处理后的待测光束光斑尺寸的确定，所述光源组件110包括：

光源111，用于产生原始光束；

光束优化器件112，设置于所述原始光束的传输路径上，用于对所述原始光束进行优化处理，得到所述待测光束。

这里所述光束优化器件112设置于所述光源111和所述参考件100之间，即所述待测光束照射到所述参考件100上得到的所述出射光束直接传输至所述探测组件120上。

容易理解的是，光束优化器件112可以是单个光学器件，也可以是多个一种或多种光学器件的组合。

通过所述光束优化器件112对所述原始光束的优化处理，可以减小光束在传输过程中的散射而产生的强度损失或特征损失，提高光斑尺寸确定的精度。

当然，为了保证探测组件120所接收到的光束的质量，本实用新型还提供另一实施例，如图3所示，图3是本实用新型的检测设备的再一实施例的结构示意图。

如图3所示，所述光源组件110包括：

光源111，用于产生原始光束；

光束优化器件112，设置于所述原始光束和所述反射光束的传输路径上，用于对所述原始光束进行优化处理，得到所述待测光束，还用于对所述出射光束进行优化处理，得到优化后的出射光束并将其传输至所述探测组件120 上。

具体的，在一实施例中，如图4所示，图4是本实用新型的检测设备的另一实施例的结构示意图。

所述光束优化器件112具体可以包括：

第一光束准直器件1121，设置于所述原始光束的传输路径上，用于对所述原始光束进行准直处理，得到准直原始光束。

第一光束准直器件1121的设置，可以减少所述原始光束在传输过程中由于散射带来的光束强度和特征损失。

为了确保通过所述参考件100相对于所述待测光束的移动测量光斑具有较高的精度，在一种实施方式中，所述光束优化器件还可以设置有透镜组件 1122，具体的，请继续参考图4，如图所示，所述光束优化器件112具体还可以包括：

透镜组件1122，设置于所述原始光束的传输路径上，用于对经过所述第一光束准直器件1121准直处理的所述准直原始光束进行汇聚处理，得到照射到所述参考件100上的待测光束。

在本实施例中，如前所述，第一光束准直器件1121可以减少所述原始光束在传输过程中由于散射带来的光束强度和特征损失，而所述透镜组件1122 的设置使照射到所述参考件100上的待测光束是经过汇聚的光束，这样可以确保所述待测光束照射到所述参考件100上形成的光斑的尺寸远小于所述参考件100的尺寸，可以确保通过所述参考件100相对于所述待测光束的移动测量光斑具有较高的精度。

在另一实施例中，请参考图5，图5是本实用新型的检测设备的另一实施例的结构示意图，如图所示，所述光束优化器件112还可以包括：

第一半透半反光学器件1123，设置于所述准直原始光束的传输路径上，以便经过所述第一光束准直器件准直处理的所述准直原始光束经过所述第一半透半反光学器件反射后，照射至所述透镜组件1123；

同时，所述透镜组件1122，还用于对从所述参考件100出射的所述出射光束进行准直处理，得到照射至所述第一半透半反光学器件1123的准直光束，所述准直光束经所述第一半透半反光学器件1123透射后照射至所述探测组件 120。

这样，第一半透半反光学器件1123的设置可以使所述待测光束照射到所述参考件100反射得到的出射光束再次照射值透镜组件，从而利用一组透镜组件同时满足对不同光束的汇聚和准直处理，减小了所使用的透镜组件的数量，并且使用同一光路，减少设备的尺寸。

当然，在另一种具体实施方式中，上述各器件，还可以采用另一种布局方式，请参考图6，图6是本实用新型的检测设备的另一实施例的结构示意图，如图所示，所述光束优化器件112具体包括：

第一光束准直器件1121，设置于所述原始光束的传输路径上，用于对所述原始光束进行准直处理，得到准直原始光束；

透镜组件1122，设置于所述准直原始光束的传输路径上，用于对经过所述第一半透半反光学器件1123透射后的所述准直原始光束进行汇聚处理，得到照射到所述参考件100上的待测光束；

第一半透半反光学器件1123，设置于所述准直原始光束的传输路径上，以便经过所述第一光束准直器件1121准直处理的所述准直原始光束经过所述第一半透半反光学器件1123透射后，照射至所述透镜组件1122；

同时，所述透镜组件1122，还用于对所述参考件100射出的出射光束进行准直处理，得到照射至所述第一半透半反光学器件1123的准直光束，所述准直光束经所述第一半透半反光学器件1123反射后照射至所述探测组件120。

容易理解的是，所述第一半透半反光学器件1123可以为半透半反镜，第一光束准直器件1121和透镜组件1122可以分别为单个会聚透镜，也可以为其他类型的透镜组成的透镜组，本实施例在此不做限定。

可见，通过第一光束准直器件1121和透镜组件1122对光束的准直和会聚，尽可能减少了光束在传输过程中可能产生的散射以及光束在参考件100 上反射可能产生的漫反射带来的强度损失或特征损失，提高了光斑检测的精度，同时，第一光束准直器件1121，透镜组件1122和第一半透半反光学器件 1123都是简单的透镜或半透半反镜，并未引入其他复杂的光学或电子专用设备，成本较低，并且第一半透半反光学器件1123的设置，可以减小所使用器件，共用部分光路，减小所占用的空间，从而减小设备尺寸。

具体的，在一些实施例中，为了进一步减少光束在传播过程中可能产生的散射以及光束在参考件100上反射可能产生的漫反射，可以在所述光源组件100中的所述光束优化器件112中进一步引入用于光束范围控制的器件以消除散射或漫反射产生的杂光或杂散光，如图7所示，图7是本实用新型的检测设备的另一实施例的结构示意图。

如图所示，在所述第一光束准直器件1121与所述第一半透半反光学器件1123之间放置有第一光斑调节组件1124，所述第一光斑调节组件1124可以用于对经过所述第一光束准直器件1121准直处理的所述准直原始光束进行光束范围控制，以消除所述准直原始光束中可能存在的杂光或杂散光；

同时，在所述透镜组件1122与所述第一半透半反光学器件1123之间放置有第二光斑调节组件1125，所述第二光斑调节组件1125可以用于对经过所述透镜组件1122准直处理的所述准直出射光束进行光束范围控制，以消除所述准直出射光束中可能存在的杂光或杂散光；

所述第一光斑调节组件1124与所述第二光斑调节组件1125可以分别为单独的消杂光光阑或视场光阑，也可以是若干种不同光阑器件的组合，本实施例在此不做限定。当然，基于图6所示的本实用新型的检测设备一实施例的光源组件110的另一结构中也可以基于同样的位置和放置方式放置相应的用于光束范围控制的器件，在此不再赘述。

由此可见，通过在所述光源组件110中的光束优化器件112中设置用于光束范围控制的器件，可以有效的进一步消除光束在传播过程中可能产生的散射以及光束在参考件100上反射可能产生的漫反射带来的杂光或杂散光，进一步降低光束的强度损失或特征损失，提高光斑检测的精度。

具体的，在一些实施例中，所述检测设备还可以获取所述待测光束照射到的被待测物的目标尺寸，如图8所示，图8是本实用新型的检测设备的又一实施例的结构示意图。

如图所示，所述检测设备还包括：

所述待测物检测单元还包括：成像单元140，用于检测待测物的目标尺寸；

所述检测设备还包括：光斑调节组件(可以包括前述第一光斑调节组件 1124和第二光斑调节组件1125)，设置在所述待测光束的光路上，用于调节所述光斑尺寸，并根据检测得到的目标尺寸和光斑尺寸，将所述光斑尺寸调节至所述目标尺寸。

可选地，光斑调节组件可以为可调光阑。光斑调节组件通过调节光阑透光孔的孔径，调节光斑的尺寸。

如图中所示，还包括第二半透半反光学器件1128。

如图中所示，工作过程中，检测设备的光源111产生原始光束，第一光束准直器件1121，对所述原始光束进行准直处理，得到准直原始光束，第一光斑调节组件1124，对准直原始光束进行光束范围控制，然后照射至第一半透半反光学器件1123，将所述准直原始光束反射至第二光斑调节组件1125，第二光斑调节组件1125对经过所述第一半透半反光学器件1123反射的所述准直原始光束进行光束范围控制并照射至第二半透半反光学器件1128，第二半透半反光学器件1128将准直原始光束透视至透镜组件1122，经过透镜组件 1122的汇聚作用得到待测光束，并照射至参考件100，参考件100反射的出射光束照射至第二半透半反光学器件1128，部分光束被第二半透半反光学器件1128透射后照射至第二光斑调节组件1125，并经过第一光束汇聚器件1127 进行汇聚处理后，将汇聚后的准直出射光束照射至探测组件120获取所述待测光束的光斑尺寸；另一部分光束被第二半透半反光学器件1128反射后照射至第二光束汇聚器件1126，将汇聚后的准直出射光束照射至成像器件140，检测待测物的目标尺寸。

在本实施例中，所述第一光束准直器件1121，所述透镜组件1122，所述第一光束汇聚器件1127，所述第二光束汇聚器件1126可以分别为单个会聚透镜，也可以分别为多个不同类型透镜的组合；所述第一半透半反光学器件1123，所述第二半透半反光学器件1128可以分别为单个半透半反镜，也可以分别为多个相同或不同类型的棱镜组成的镜组；所述第一光斑调节组件1124，所述第二光斑调节组件1125可以分别为单独的消杂光光阑或视场光阑，也可以是其他类型的光阑器件或光阑器件的组合；上述光学器件的类型和组合，本实施例在此均不做限制。

在另一种具体实施方式中，如图9所示，图9是本实用新型的检测设备的再一实施例的结构示意图。

如图中所示，本实用新型所提供的检测设备还包括：半透半反光学器件 1129，设置在所述探测单元和所述检测面之间，用于将所述信号光分为照射至所述探测单元的光束和照射至所述成像单元的光束；

所述待测光束包括第一光束和第二光束；

所述光源组件110包括：第一光源1101和第二光源1102，所述第一光源 1101用于产生第一光束，所述第二光源1102用于产生第二光束；

所述成像单元140用于收集所述第二光束经待测物后形成的信号光，并根据收集的信号光测量待测目标的尺寸；

所述探测单元120用于收集所述第一光束经待测物后形成的信号光，并根据收集的信号光测量光斑尺寸。

容易理解的是，上述两光束并非同时照射至待测物。

这样，可以利用成像单元140收集所述第二光束经待测物后形成的信号光，并根据收集的信号光测量待测目标的尺寸后，进行路径的规划，再通过探测单元120和成像单元140实现对于待测物的检测，提高检测的效率。

由此可见，本实施例所公开的检测设备，通过各种光学器件的灵活搭配，减少了光束传输和反射过程中可能产生的散射和漫反射带来的强度损失或特征损失，进而带来的对光斑尺寸测量的精度的影响。同时，通过选用不同的光束特征检测组件和参考件结构特征获取单元，所述检测设备可以实现待测物结构测量与分析，材质分析等功能并进一步提升光斑尺寸测量的精度，具有良好的可扩展性和适用性，而且成本低廉。

具体的，在另一些实施例中，还可以对所述原始光束进行光束特征过滤，消除无需进行光斑尺寸确定的光束，以进一步提高光斑尺寸确定的精度，如图10所示，图10是本实用新型的检测设备另一实施例的结构示意图。

如图所示，所述检测设备还可以包括：

起偏器113，设置在所述光源11和所述检测面之间，用于将所述待测光束调整为具有预设偏振态的检测光；

检偏器114，设置在所述检测面和所述探测单元120之间，用于调节所述出射光束的偏振态，并使所述出射光束传输至所述探测单元；

所述起偏器113为可调起偏器，被配置为使所述检测光具有不同偏振态，和/或，所述检偏器114为可调起偏器，被配置为使所述信号光具有不同偏振态。

其中，起偏器113用于将检测光调整为具有预设偏振态的检测光。检偏器114用于调节信号光的偏振态，并使信号光传输至探测单元120。探测单元 120用于探测信号光中不同波长成分的光强。其中，起偏器113为可调起偏器，被配置为使检测光具有不同偏振态，和/或，检偏器114为可调起偏器，被配置为使信号光具有不同偏振态。

虽然本实用新型披露如上，但本实用新型并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本实用新型的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (10)

1.一种检测设备，其特征在于，包括：

光源组件，用于产生待测光束，所述待测光束包括多个波长，所述待测光束用于在检测面形成光斑；

参考件，用于设置于检测面并形成出射光束，且所述参考件用于相对于所述待测光束移动，使所述待测光束完全照射至所述参考件以及完全未照射至所述参考件；

探测单元，设置于所述出射光束的传输路径上，用于获取所述参考件移动过程中，所得到的所述出射光束中的各波长光束的光束强度形成光谱数据，并根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸。

2.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述探测单元包括光谱仪。

3.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，还包括：

第一方向移动装置，所述参考件和/或所述光源组件用于在所述第一方向移动装置的带动下沿第一方向移动，使所述待测光束在所述第一方向上，实现完全照射至所述参考件与完全未照射至所述参考件之间的移动；

第二方向移动装置，所述参考件和/或所述光源组件用于在所述第二方向移动装置的带动下沿第二方向移动，使所述待测光束在所述第二方向上，实现完全照射至所述参考件与完全未照射至所述参考件之间的移动。

4.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述探测单元，用于根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸，包括：

用于根据各所述波长光束的所述光束强度获取所述出射光束的总光束强度，并根据所述总光束强度的转折点所对应的所述参考件的相对位移差值，获取所述待测光束的光斑尺寸；和/或，

根据不同波长的光束强度的转折点分别获取各波长待测光束形成的光斑尺寸。

5.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述探测单元，用于根据所述光谱数据获取待测光束的多个波长中的一者或多者组合在检测面形成的光斑尺寸，包括：

用于获取各所述波长光束的所述光束强度获取所述出射光束的总光束强度的变化曲线，并根据所述变化曲线中的转折点所对应的所述参考件的相对位移差值，获得所述光斑尺寸；或者，

根据不同波长的光束强度的变化曲线，根据各个所述波长的变化曲线中的转折点所对应的所述参考件的相对位移差值，分别获取各波长待测光束形成的光斑尺寸。

6.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述探测单元，还用于探测所述待测光束经所述检测面处的待测物形成的信号光，并根据所述信号光获得所述待测物的检测信息。

7.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，还包括：

待测物检测单元，用于探测所述待测光束经所述检测面处的待测物形成的信号光，并根据所述信号光获得所述待测物的检测信息。

8.根据权利要求7所述的检测设备，其特征在于，所述待测物检测单元还包括：成像单元，用于检测待测物的目标尺寸；

所述检测设备还包括：光斑调节组件，设置在所述待测光束的光路上，用于调节所述光斑尺寸，并根据检测得到的目标尺寸和光斑尺寸，将所述光斑尺寸调节至所述目标尺寸。

9.根据权利要求8所述的检测设备，其特征在于，还包括：

半透半反光学器件，设置在所述探测单元和所述检测面之间，用于将所述信号光分为照射至所述探测单元的光束和照射至所述成像单元的光束；

所述待测光束包括第一光束和第二光束；

所述光源组件包括：第一光源和第二光源，所述第一光源用于产生第一光束，所述第二光源用于产生第二光束；

所述成像单元用于收集所述第二光束经待测物后形成的信号光，并根据收集的信号光测量待测目标的尺寸；

所述探测单元用于收集所述第一光束经待测物后形成的信号光，并根据收集的信号光测量光斑尺寸。

10.根据权利要求6-9任意一项所述的检测设备，其特征在于，还包括：

起偏器，设置在所述光源组件和所述检测面之间，用于将所述待测光束调整为具有预设偏振态的检测光；

检偏器，设置在所述检测面和所述探测单元之间，用于调节所述出射光束的偏振态，并使所述出射光束传输至所述探测单元；

所述起偏器为可调起偏器，被配置为使所述检测光具有不同偏振态，和/或，所述检偏器为可调起偏器，被配置为使所述信号光具有不同偏振态。

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