CN215942584U - 一种加装流量监测的研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种加装流量监测的研磨装置,其包括第一流体管道、供液管道和研磨机台,其中,所述第一流体管道的出液口连接所述供液管道的首端,所述供液管道的末端为所述研磨机台提供研磨液体,并且,所述第一流体管道上设置有流量监测机构。本实用新型通过第一流体管道向研磨机台提供研磨液,可将配置好的研磨液储罐通过泵提供的动力输送至供液管道,从而使研磨机台在合适的研磨液浓度下进行研磨作业,通过在第一流体管道上加装流量监测机构,实现对第一流体管道内流量的实时监测,从而可以在第一流体管道内流体流量发生异常时及时通知作业人员。
Description
技术领域
本实用新型涉及研磨设备技术领域,尤其涉及一种加装流量监测的研磨装置。
背景技术
对于现有研磨装置,如图2所示,包含第一流体管路1和第二流体管路2两条液体管路,两条液体管路并联接入供液管道3,由供液管道输送至研磨机台4,为研磨机台提供研磨液体,对于两条液体管路,通常采用定时检查的方式对其进行检查,一般的检查时间为两天一次,导致在管道流量发生异常时无法及时发现,从而造成液体浓度异常,进而导致产品质量问题。目前,由此产生的质量问题时有发生。
基于此,现有技术仍然有待改进。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型实施例提出一种加装流量监测的研磨装置,以解决现有技术无法及时发现管道流量异常而导致的产品质量问题。
本实用新型实施例所公开的一种加装流量监测的研磨装置,包括第一流体管道、供液管道和研磨机台,其中,所述第一流体管道的出液口连接所述供液管道的首端,所述供液管道的末端为所述研磨机台提供研磨液体,并且,所述第一流体管道上设置有流量监测机构。
进一步地,所述流量监测机构为流量传感器。
进一步地,所述流量传感器为压力传感器。
进一步地,还包括控制器,所述流量传感器与所述控制器连接。
进一步地,还包括报警装置,所述控制器连接所述报警装置。
进一步地,所述第一流体管道内的流体为纯水。
进一步地,所述流量传感器的电源由研磨装置的配电箱提供。
进一步地,还包括第二流体管道,所述第二流体管道的末端连接至供液管道的首端。
进一步地,所述第二流体管道内的流体为过氧化氢。
采用上述技术方案,本实用新型至少具有如下有益效果:
本实用新型提供的加装流量监测的研磨装置,通过在第一流体管道上加装流量监测机构,可以实时的对该管道内的流量进行监测,从而有效避免由于该管道流量异常而导致的研磨机台上的研磨液浓度异常,进而避免由此产生的产品质量问题。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一实施例所公开的一种加装流量监测的研磨装置的结构示意图。
图2为现有技术的未加装流量监测的研磨装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本实用新型实施例进一步详细说明。
需要说明的是,本实用新型实施例中所有使用“第一”和“第二”的表述均是为了区分两个相同名称非相同的实体或者非相同的参量,可见“第一”“第二”仅为了表述的方便,不应理解为对本实用新型实施例的限定,后续实施例对此不再一一说明。
如图1所示,本实用新型一些实施例公开了一种加装流量监测的研磨装置,其包括第一流体管道1、供液管道3和研磨机台4,其中,所述第一流体管道1的出液口连接所述供液管道3的首端,所述供液管道3的末端为所述研磨机台4提供研磨液体,并且,所述第一流体管道1上设置有流量监测机构5。
本实施例所公开的研磨装置,通过第一流体管道1向研磨机台4提供研磨液,可将配置好的研磨液储罐通过泵提供的动力输送至供液管道3,从而使研磨机台4在合适的研磨液浓度下进行研磨作业,通过在第一流体管道1上加装流量监测机构5,实现对第一流体管道1内流量的实时监测,从而可以在第一流体管道1内流体流量发生异常时及时通知作业人员。
本实用新型一些实施例所公开的加装流量监测的研磨装置,在上述实施例的基础上,所述流量监测机构5可以为流量传感器。所述流量传感器可以为压力传感器。压力传感器可以即时感应第一流体管道1内的压力,从而获得第一流体管道1内的流体流速和流量,从而保证第一流体管道1内的流量正常供给。
为了实现对流量监测机构5的控制,本实用新型一些实施例所公开的加装流量监测的研磨装置还包括控制器(图中未示出),所述流量传感器与所述控制器连接。流量传感器即时地将流量信号发送至控制器,或者流量传感器在监测到第一流体管道1内的流量超出某一阈值范围时,向控制器发送信号,控制器根据该信号提示作业人员进行相应的作业。具体地,控制器可以通过报警装置发出报警信号,报警装置可以为声音报警,也可以为光电报警,振动报警、显示报警等多种方式。
本实用新型一些实施例所公开的加装流量监测的研磨装置,还包括第二流体管道2,所述第二流体管道2的末端连接至供液管道3的首端。所述第二流体管道2内的流体为过氧化氢。所述第一流体管道1内的流体为纯水。具体地,第一流体管道1和第二流体管道2的末端通过转接头并联地接入供液管道3的首端,进而流入研磨机台4,使用时,两管分时间段流入机台,一般通过机台程式设定,先流入过氧化氢研磨液,在流入纯水,使用中,如果研磨液即过氧化氢未流出,则芯片无法研磨,机台会发出报警,故可以不对第二流体管道2设置流量监测,而机台并不会因为纯水未流出或流量过小而进行报警,若流量过小或未流出的情况发送了,则将直接导致机台研磨液的浓度过高,研磨液浓度过高则可能导致芯片质量问题。因此,本实用新型通过对第一流体管道1设置可以实现即时监测的流量监测机构5,实现对其流量的实时监测。避免由于纯水流量异常而导致的产品质量问题。
本实用新型一些实施例所公开的加装流量监测的研磨装置,所述流量传感器的电源由研磨装置的配电箱提供。即将流量传感器接入至机台本身自带的配电箱中的空余接点,接入24V电线和地线即可实现实时监测。
需要特别指出的是,上述各个实施例中的各个组件或步骤均可以相互交叉、替换、增加、删减,因此,这些合理的排列组合变换形成的组合也应当属于本实用新型的保护范围,并且不应将本实用新型的保护范围局限在所述实施例之上。
以上是本实用新型公开的示例性实施例,上述本实用新型实施例公开的顺序仅仅为了描述,不代表实施例的优劣。但是应当注意,以上任何实施例的讨论仅为示例性的,并非旨在暗示本实用新型实施例公开的范围(包括权利要求)被限于这些例子,在不背离权利要求限定的范围的前提下,可以进行多种改变和修改。根据这里描述的公开实施例的方法权利要求的功能、步骤和/或动作不需以任何特定顺序执行。此外,尽管本实用新型实施例公开的元素可以以个体形式描述或要求,但除非明确限制为单数,也可以理解为多个。
所属领域的普通技术人员应当理解:以上任何实施例的讨论仅为示例性的,并非旨在暗示本实用新型实施例公开的范围(包括权利要求)被限于这些例子;在本实用新型实施例的思路下,以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合,并存在如上所述的本实用新型实施例的不同方面的许多其它变化,为了简明它们没有在细节中提供。因此,凡在本实用新型实施例的精神和原则之内,所做的任何省略、修改、等同替换、改进等,均应包括在本实用新型实施例的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种加装流量监测的研磨装置,其特征在于,包括第一流体管道、供液管道和研磨机台,其中,所述第一流体管道的出液口连接所述供液管道的首端,所述供液管道的末端为所述研磨机台提供研磨液体,并且,所述第一流体管道上设置有流量监测机构。
2.根据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,所述流量监测机构为流量传感器。
3.根据权利要求2所述的研磨装置,其特征在于,所述流量传感器为压力传感器。
4.根据权利要求2所述的研磨装置,其特征在于,还包括控制器,所述流量传感器与所述控制器连接。
5.根据权利要求4所述的研磨装置,其特征在于,还包括报警装置,所述控制器连接所述报警装置。
6.根据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,所述第一流体管道内的流体为纯水。
7.根据权利要求2所述的研磨装置,其特征在于,所述流量传感器的电源由研磨装置的配电箱提供。
8.根据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,还包括第二流体管道,所述第二流体管道的末端连接至供液管道的首端。
9.根据权利要求8所述的研磨装置,其特征在于,所述第二流体管道内的流体为过氧化氢。
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CN202120387133.4U CN215942584U (zh) | 2021-02-22 | 2021-02-22 | 一种加装流量监测的研磨装置 |
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CN115533734A (zh) * | 2022-11-30 | 2022-12-30 | 唐山国芯晶源电子有限公司 | 研磨机研磨液流量控制装置及方法 |
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2021
- 2021-02-22 CN CN202120387133.4U patent/CN215942584U/zh active Active
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CN115533734B (zh) * | 2022-11-30 | 2023-02-14 | 唐山国芯晶源电子有限公司 | 研磨机研磨液流量控制装置及方法 |
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