CN215900744U - 一种偏转式皮肤光处理设备 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种偏转式皮肤光处理设备，设备包括用于获取表面组织的目标图像的摄像装置、控制系统、光源组件和光学偏转系统；光学偏转系统设有偏转支撑结构和用于接收和偏转光源组件的出射光线的偏转组件，偏转支撑结构与偏转组件相连接；光源组件与偏转组件相对设置，光学偏转系统能够通过移动偏转组件，将出射光线偏转至不同的照射方向；摄像装置、光源组件和光学偏转系统分别与控制系统通信连接；在光学偏转系统基于第一照射路径对应的第一目标偏转参数运行时，光学偏转系统通过偏转组件对出射光线进行偏转，以使出射光线基于第一照射路径移动并对待处理区域内的目标组织进行照射处理。该设备能够实现目标组织的精准定位照射。

Description

一种偏转式皮肤光处理设备

技术领域

本公开涉及医美技术领域，尤其涉及一种偏转式皮肤光处理设备。

背景技术

光可被用于表面组织的美容和治疗，如用于皮肤消融、嫩肤、祛痘、祛斑和脱毛等医美领域。在进行相关的医美过程中，需要利用光源对目标组织区域施加高能量的光。目标采用的偏转式皮肤光处理设备通常利用光源大面积发光，以同时对某一区域的表面组织进行照射处理，但大面积出光方式易引起明显痛感且散热要求较高。有现有技术通过分时点亮设置在不同位置的光源来对表面组织的进行照射处理，以降低能量消耗和散热需求，但该方式需要布设较多的光源且电路设计复杂，因此需要提供一种改进的偏转式皮肤光处理设备，以解决上述现有技术中存在的问题。

实用新型内容

本公开提供了一种偏转式皮肤光处理设备，

所述设备包括用于获取表面组织的目标图像的摄像装置、控制系统、光源组件和光学偏转系统；所述目标图像对应的待处理区域中包括待照射的目标组织；

所述光学偏转系统设有偏转支撑结构和用于接收和偏转所述光源组件的出射光线的偏转组件，所述偏转支撑结构与所述偏转组件相连接；所述光源组件与所述偏转组件相对设置，所述光学偏转系统能够通过移动所述偏转组件，将所述出射光线偏转至不同的照射方向；

所述摄像装置、所述光源组件和所述光学偏转系统分别与所述控制系统通信连接；在所述光学偏转系统基于第一照射路径对应的第一目标偏转参数运行时，所述光学偏转系统通过所述偏转组件对所述出射光线进行偏转，以使所述出射光线基于所述第一照射路径移动并对所述待处理区域内的目标组织进行照射处理；其中，所述第一照射路径为所述控制系统根据所述目标图像生成的、遍历所述目标图像对应的待照射的目标组织的路径。

本公开提供的移动式偏转式皮肤光处理设备具有如下技术效果：

本公开通过设置光学偏转系统对光源组件的出射光线进行偏转，能够将出射光线精准快速的偏转至不同的照射方向，此外，通过摄像装置获取目标图像，并通过控制系统基于目标图像生成照射路径和偏转参数，然后根据偏转参数控制光学偏转系统对出射光线的偏转，使出射光线沿照射路径对待处理区域进行光处理，不仅实现了目标组织的精准定位照射，且能够快速实现出射光线的移动，保证照射处理效率，降低光源数量、能耗和散热需求。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案和优点，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。

图1是本公开实施例提供的一种偏转式皮肤光处理设备的结构示意图；

图2是图1中光源组件与反射件的相对位置示意图；

图3是本公开实施例提供的另一种偏转式皮肤光处理设备的结构示意图；

图4是图3中光源组件与反射件的相对位置示意图；

图5是本公开实施例提供的另一种偏转式皮肤光处理设备的结构示意图；

图6是图5中光源组件与反射件的相对位置示意图；

图7是本公开实施例提供的一种偏转驱动装置和偏转组件的结构示意图；

图8是本公开实施例提供的一种第一照射路径的示意图；

图9是本公开实施例提供的另一种第一照射路径的示意图；

图10是本公开实施例提供的另一种第一照射路径的示意图；

图11是本公开实施例提供的另一种第一照射路径的示意图；

图12是图10中的第一照射路径的另一种实现方式示意图。

图中：100-摄像装置，200-光源组件，311-反射件，312-光线偏转面，313-连杆，314-旋转件，315-转动头，321-第一驱动电机，322-第二驱动电机，323-线辊，324-牵引线，330-偏转支撑结构，400-导轨机构，410-导轨本体，420-螺杆，430-滑块，500-导轨驱动装置，600-待处理区域，700-壳体。

具体实施方式

下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

需要说明的是，本公开的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本公开的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或服务器不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

以下参照附图对实施例进行说明，请参考图1-12，本公开实施例提供一种偏转式皮肤光处理设备，设备包括用于获取表面组织的目标图像的摄像装置100、控制系统、光源组件200和光学偏转系统；目标图像对应的待处理区域600中包括待照射的目标组织；光学偏转系统设有偏转支撑结构330和用于接收和偏转光源组件200的出射光线的偏转组件，偏转支撑结构330与偏转组件相连接；光源组件200与偏转组件相对设置，光学偏转系统能够通过移动偏转组件，将出射光线偏转至不同的照射方向；摄像装置100、光源组件200和光学偏转系统分别与控制系统通信连接；在光学偏转系统基于第一照射路径对应的第一目标偏转参数运行时，光学偏转系统通过偏转组件对出射光线进行偏转，以使出射光线基于第一照射路径移动并对待处理区域600内的目标组织进行照射处理；其中，第一照射路径为控制系统根据目标图像生成的、遍历目标图像对应的待照射的目标组织的路径。

本公开实施例中，控制系统用于根据目标图像生成遍历待处理区域600中的目标组织的第一照射路径和第一照射路径对应的第一目标偏转参数；基于第一目标偏转参数控制光学偏转系统对出射光线进行偏转，以使出射光线基于第一照射路径移动并对待处理区域600内的目标组织进行照射处理。

本公开实施例中，光源组件200可以包括激光光源、发光二极管光源(LightEmitting Diode,LED)、强脉冲光源(Intense Pulsed Light,IPL)和垂直共振腔面射型激光光源(Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser,VCSEL)中的一种或几种光源。进一步地，光源组件200还可以包括光学机构，用于对光源出射的光线进行调节，包括但不限于收光、光线准直、出射方向调节和出射强度调节等，以使光源照射于目标表面组织的光束为平行光束或聚焦光束。

本公开实施例中，控制系统用于控制设备整体的运行，包括但不限于接收摄像装置100获取的目标图像和对目标图像的处理，控制光源组件200中光源的照射强度、发光面积、照射单元的开闭和光学机构的参数调整，生成照射路径和用于控制光学偏转系统的偏转参数等。

本公开实施例中，光源组件200的出射光线入射至偏转组件，经偏转组件偏转后照射至待处理区域600。控制系统能够控制光学偏转系统，以使光学偏转组件运动，进而改变偏转组件对出射光线的偏转角度，使出射光线能够照射至待处理区域600的不同位置。需要说明的是，在待处理区域600的一次照射任务中，待处理区域600相对于设备整体的位置大致不会发生变化。

本公开实施例中，待照射的目标组织可以包括但不限于毛囊、皮肤斑、痤疮和疤痕等。具体地，目标图像可以是包括二维信息的平面图像，也可以是包括三维信息的深度图像。当待处理区域600的面积小于等于摄像装置100一次成像的视场范围时，可以通过摄像装置100的一次成像得到目标图像。在一些情况下，也可以通过摄像装置100对大于其视场范围的待处理区域600，进行分区多次成像，将分区多次成像得到的各图像进行图像拼接处理，得到目标图像。在分区多次成像过程中，通过设置预设重合位移量，使相邻两次拍摄所得到的图像具有预设范围的重合区域，在进行图像拼接处理时，基于相机拍摄图像时的位姿和位置信息对相邻两次拍摄所得到的图像进行相似度计算，确定两张图像间的重叠区域，然后根据该重叠区域对两张图像进行拼接，进而基于相类似的方式完成整张图像的拼接处理，得到目标图像。

本公开实施例中，第一照射路径可以是基于相机坐标系建立的行进路径，也可以是基于光处理设备的预设的世界坐标系建立的行进路径，针对后一种情况，需要根据相机坐标系与世界坐标系间的预设映射关系进行坐标转换，以生成基于世界坐标系的第一照射路径。进一步地，控制系统生成第一照射路径对应的第一目标偏转参数，基于第一目标偏转参数控制光学偏转系统对出射光线的偏转，以令出射光线经偏转后沿第一照射路径移动和对目标组织进行照射处理，在该过程中，光源组件200的光源可以处于常亮状态，或者基于预设的照射方式开启和关闭，以实现第一照射路径中目标组织的遍历照射。

综上，本公开的偏转式皮肤光处理设备通过设置光学偏转系统对光源组件200的出射光线进行偏转，能够将出射光线精准快速的偏转至不同的照射方向，此外，通过摄像装置100获取目标图像，并通过控制系统基于目标图像生成照射路径和偏转参数，然后根据偏转参数控制光学偏转系统对出射光线的偏转，使出射光线沿照射路径对待处理区域600进行光处理，不仅实现了目标组织的精准定位照射，且能够快速实现出射光线的移动，保证照射处理效率，降低光源数量、能耗和散热需求。

基于上述部分或全部实施方式，本公开实施例中，请参考图1-6，偏转组件包括用于接收和偏转出射光线的反射件311，反射件311与光源组件200相对设置。

在实际应用中，光学偏转系统还包括偏转驱动装置，偏转驱动装置与控制系统电连接，在偏转驱动装置的驱动作用下，反射件311能够相对于出射光线的方向转动，进而改变出射光线入射至反射件311的光线偏转面312的入射角度。

具体地，反射件311设有光学偏转面，控制系统能够基于偏转参数控制偏转驱动装置的运行参数，以使反射件311基于偏转参数进行转动，实现出射光线对待处理区域600中不同位置的照射处理。在一个实施例中，请参考图1、3和5，出射光线的出射方向为y方向，反射件311可以以图中的z方向为转动轴摆动，或以x方向为转动轴摆动，进而改变光学偏转面与出射方向间的夹角。

在一个实施例中，反射件311可以为反射镜，光学偏转面为反射镜的镜面。

在一些实施例中，偏转组件还包括转动块(未图示)，转动块的一侧与反射件311固定连接，转动块的另一侧与偏转驱动装置连接，转动块能够在偏转驱动装置的驱动作用下转动，进而带动反射件311转动。具体地，偏转组件可以包括多个转动块，不同的转动块用于控制反射件311在不同方向上的转动。

在一个实施例中，偏转组件可以包括至少一个第一转动块和至少一个第二转动块，第一转动块能够带动反射件311以z方向为转动轴摆动，第二转动块能够带动反射件311以x方向为转动轴摆动。

在另一些实施例中，偏转驱动装置包括偏转电机(未图示)，偏转电机与反射件311固定连接，偏转电机能够基于控制系统发送的控制指令转动，进而带动反射件311转动。具体地，反射件311可以直接与偏转电机相连；或者偏转组件还可以包括偏转连接件，偏转电机与反射件311通过偏转连接件固定连接。控制系统基于目标偏转参数控制偏转电机的摆动方向和角度，进而带动反射件311转动至目标位置。在一个实施例中，偏转电机可以是摆动电机中的一种。

在另一些实施例中，请参考图7，偏转驱动装置包括与反射件311连接的第一驱动电机321，偏转组件还包括与反射件311活动连接的连杆313；在第一驱动电机321的驱动作用下，反射件311能够相对于连杆313摆动。

具体地，偏转驱动装置可以包括多个第一驱动电机321，不同第一驱动电机321用于控制反射件311在不同方向上的摆动。在一个实施例中，请参考图7，反射件311的与光线偏转面312相对的侧面设置有转动头315，转动头315与连杆313的一端转动连接，反射件311在进行摆动时，转动头315能够相对于连杆313转动；偏转驱动装置中设有两组第一驱动电机321，一组第一驱动电机321用于控制反射件311以第一方向为第一转动轴进行摆动，另一组第一驱动电机321用于控制反射件311以第二方向为第二转动轴进行摆动。

具体地，第一驱动电机321与反射件311间连接有牵引线324，在第一驱动电机321工作时，第一驱动电机321与反射件311间的牵引线324能够伸长或缩短，各第一驱动电机321控制各自相连的牵引线324的长度变化，以实现反射件311的摆动，进而改变光线入射至光线偏转面312的入射角。

具体地，第一驱动电机321上可以设置线辊323，牵引线324的一端连接反射件311，另一端绕设在线辊323上，第一驱动电机321工作时，线辊323顺时针或逆时针转动，以使线辊323与反射件311间的牵引线324的长度发生变化。

在一些情况下，偏转驱动装置可以只包括一个或多个第一驱动电机321，在另一些情况下，偏转驱动装置还包括第二驱动电机322，偏转组件还包括旋转件314，旋转件314与连杆313固定连接，旋转件314与第二驱动电机322转动连接；在第二驱动电机322的驱动作用下，旋转件314能够带动连杆313旋转，进而使反射件311在旋转件314的带动下旋转。

具体地，第一驱动电机321也可以固定设置在旋转件314上，能够随旋转件314的旋转而转动。请参考图7，旋转件314可以包括旋转板，连杆313和第一驱动电机321固定设置在旋转板上。

具体地，第二驱动电机322设置在旋转件314与偏转支撑结构330之间，第二驱动电机322工作时，旋转件314能够相对于偏转支撑结构330旋转，进而带动连接在旋转件314上的各部件转动，以实现反射件311的旋转，在一个示例中，旋转件314能够带动反射件311以y方向为转动轴顺时针或逆时针旋转。

基于上述部分或全部实施方式，本公开实施例中，请参考图1、3和5，设备还包括壳体700，偏转支撑结构330的一端设置在壳体700的内壁上，偏转支撑结构330的另一端与偏转组件相连接。具体地，偏转支撑结构330可以为支撑杆。

在一些实施例中，偏转支撑结构330能够伸长或缩短，进而改变反射件311与光源组件200的出光口间的距离。如此，通过改变偏转支撑结构330的长度，能够改变光线偏转面312与出光口间的距离，以及反射件311在待处理区域600上方的位置，更有利于精准控制出射光线照射至待处理区域600的位置，和增加同一光源的有效照射面积。

在一些实施例中，光学偏转系统还包括位置检测装置，位置检测装置用于获取反射件311的实际偏转角度和位置信息，并将实际偏转角度和位置信息反馈至控制系统，控制系统能够根据实际偏转角度和位置信息修正第一目标偏转参数，进而实现闭环控制。具体地，位置检测装置可以包括位置传感器，例如电容式传感器或光栅尺传感器等，位置检测装置将实际偏转角度和位置信息转换为对应的电信号反馈至控制系统，以使控制系统基于对应的电信号调整第一目标偏转参数，以精准控制出射光线到达待处理区域600的位置。

在一些实施例中，设备还包括导轨机构400和导轨驱动装置500，光源组件200与导轨机构400活动连接，在导轨驱动装置500的驱动作用下，光源组件200能够沿导轨机构400做往复运动。具体地，导轨机构400固定设置在壳体700的内壁上，导轨机构400包括导轨本体410和设置在导轨本体410上的光源连接件，光源连接件与导轨驱动装置500连接，光源组件200设置在光源连接件上。在导轨驱动装置500的驱动作用下，光源组件200能够在光源连接件的带动下沿导轨的长度方向做往复运动。在一个实施例中，请参考图1-7，光源连接件包括螺杆420和套设在螺杆420上的滑块430，滑块430设有内螺纹，导轨驱动装置500提供的驱动力能够使螺杆420转动，进而使滑块430带动光源组件200在螺杆420上沿上述长度方向做往复运动。需要说明的是，导轨机构400不限于上述描述的结构，本公开在此不做限制。

基于上述部分或全部实施方式，在一些实施例中，光学偏转系统包括至少一组偏转组件，偏转组件与偏转驱动装置一一对应设置，若光学偏转系统包括两组或两组以上偏转组件，出射光线经各偏转组件的偏转后能够照射至待处理区域600。在一些情况下，光学偏转系统中的一组偏转组件与光源组件200相对设置，各偏转组件对出射光线进行多次反射，以使其照射至待处理区域600的目标位置。在一个实施例中，请参考图5-6，光学偏转系统包括第一偏转组件和第二偏转组件，第一偏转组件与光源组件200相对设置，用于直接接收光源组件200的出射光线，第二偏转组件与第一偏转组件相对设置，经第一偏转组件的反射件311反射的出射光线入射至第二偏转组件的反射件311上，第二偏转组件的反射件311对其进行二次反射，以使出射光线照射至待处理区域600的目标位置。

在一个实施例中，第二偏转组件设置在导轨机构400上，与光源组件200相类似的，第二偏转组件能够沿导轨机构400的长度方向做往复运动。在一些情况下，第二偏转组件与光源组件200能够在导轨机构400上协同运动。

基于上述部分或全部实施方式，在一些情况下，光照射设备包括两组或两组以上光源组件200，光源组件200分别与光学偏转系统和滑轨机构一一对应设置。在一个实施例中，请参考图3-4，设备包括三组光源组件200，三套光学偏转系统和三个滑轨机构，分别相隔设置在壳体700中。通过设置多组光源组件200和对应的光学偏转系统，能够调度多个光源对待处理区域600进行照射，有效减少照射处理时间，提高表面组织的照射处理效率。

基于上述部分或全部实施方式，本公开实施例中，控制系统包括；图像识别装置：用于基于目标组织的先验特征对目标图像进行目标组织特征识别，得到待处理区域600中的目标组织对应的第一待照射点集合和第一待照射点集合的特征信息；第一待照射点集合的特征信息包括第一待照射点位置信息；路径规划装置：用于根据第一待照射点位置信息进行遍历路径规划，得到遍历第一待照射点集合中的各第一待照射点的第一照射路径；控制装置：用于基于第一照射路径、第一待照射点位置信息和偏转系统运行参数生成第一目标偏转参数；基于第一目标偏转参数控制光学偏转系统对出射光线进行偏转和基于第一待照射点位置信息控制光源组件200的开闭，以使出射光线沿第一照射路径移动并对各第一待照射点进行遍历照射处理。

本公开实施例中，目标组织的先验特征可以基于目标组织的类别确定，针对特定的目标组织，该先验特征可以是现有技术中常规使用的组织特征。举例来说，当目标组织为毛囊时，上述先验特征可以包括毛囊边缘特征及中心点特征等，如包括但不限于毛囊内是否含毛发、毛囊区域色素分布和毛囊形状等。

在实际应用中，待照射点集合为需要进行照射处理的待照射点的集合，待照射点可以与目标组织一一对应，一个目标组织也可以对应于多个待照射点或一个待照射点对应于多个目标组织，例如当目标组织为毛囊时，一个待照射点可以对应于一个毛囊，或一个待照射点对应于多个毛囊。需要说明的是，目标组织与待照射点的对应关系可以根据目标组织的特征和属性确定，待照射点的面积、待照射点间的距离等可以基于光斑尺寸和设备扫描步长等参数确定。

在实际应用中，第一待照射点位置信息包括第一待照射点集合中各第一待照射点各自的坐标信息，当目标图像为二维图像时，该坐标信息为二维坐标，基于该二维坐标生成的第一照射路径包括二维信息，相应的，基于第一目标偏转参数能够控制偏转驱动装置对偏转组件进行驱动，以使偏转组件的反射件311相对于出射光线的出射方向基于预设顺序转动，以改变出射光线入射至反射件311的入射角，进而使出射光线遍历照射第一照射路径中的待照射点。当目标图像为三维图像时，该坐标信息为三维坐标，第一照射路径可以包括三维位置信息，在一些情况下，控制装置能够根据第一照射路径和第一待照射点位置信息调节光源组件200的发光强度，以光强变化补偿和适应纵向位置变化，如当某第一待照射点与待处理区域600间的纵向距离大于前一第一待照射点与待处理区域600间的纵向距离，可以增强光源组件200的发光光强，以补偿该纵向距离的增加；在另一些情况下，光源组件200能够在导轨驱动装置500的驱动作用下在导轨的长度方向上来回移动，进而增加和缩短与待处理区域600间的纵向距离，这里的纵向指附图中的z方向，通过光源组件200的纵向移动和光学偏转组件对出射光线的偏转，实现对表面组织上目标位置的精准照射。

在实际应用中，可以预先对光源组件200的扫描步长点位置和控制系统用于控制光学偏转系统的偏转参数进行标定，以生成扫描步长点位置与偏转参数间的对应关系，进而可以根据该对应关系控制偏转组件的转动。

在一些实施例中，基于目标组织的先验特征对目标图像进行目标组织特征识别，得到待处理区域600中的目标组织对应的第一待照射点集合和第一待照射点集合的特征信息可以具体包括：调用图像分割算法对目标图像进行目标组织图像分割，得到目标图像中的各目标组织区域和各目标组织区域的特征信息。根据目标组织的先验特征检验各目标组织区域是否有效，将检测结果为是的目标组织区域确定为有效目标组织区域。在实际应用中，可以采用先验特征网络对个目标组织区域进行有效性检验。然后，根据目标组织与待照射点的对应关系和检测结果为是的目标组织区域对应的特征信息，生成第一待照射点集合和第一待照射点集合的特征信息。

在一个实施例中，目标组织为毛囊，相应的，毛囊与待照射点的对应关系为一一对应或一个待照射点对应多个毛囊，则第一待照射点集合中第一待照射点的数量取决于目标图像中识别的到毛囊区域数量和毛囊分布。

需要说明的是，也可以采用训练好的图像分割模型进行目标组织图像分割，不同的目标组织可以对应不同的机器学习模型。或者，也可以基于角点检测算法等对目标图像进行目标组织特征识别，得到目标图像中的各目标组织区域和各目标组织区域的特征信息。在一些情况下，目标组织为毛囊时，相应的毛囊分割模型可以是基于边缘检测算子(如一阶梯度算子、二阶梯度算子)构建的分割模型，也可是基于深度CNN网络构建的分割模型(包括但不限于U-Net、Mask-RCNN等)，相应的，上述先验特征网络可与上述毛囊分割模型融合，通过先验知识，约束毛囊集合的生成，即约束第一待照射点集合的生成。

在一些实施例中，当目标组织与待照射点一一对应时，第一待照射点位置信息为基于目标组织中心点计算得到的中心点位置信息，如毛囊中心点位置信息。

在一些实施例中，图像识别装置还用于在基于目标组织的先验特征对目标图像进行目标组织特征识别之前，对目标图像的预处理，该预处理可以具体包括图像增强，举例来说，可以采用灰度图直方图均衡化等进行图像增强，例如频域增强或几何尺度增强等。需要说明的是，图像增强方法不限于上述描述，可以是其它能够实现本公开的目标组织特征识别的图像增强方法，本公开在此不做限制。进一步地，目标图像的预处理还可以包括但不限于图像降噪、图像旋转、尺寸调整、图像非均匀校正或灰度归一化等。

在实际应用中，路径规划装置根据第一待照射点位置信息进行遍历路径规划的方法可以具体包括：根据第一待照射点位置信息确定第一待照射点集合中的待照射起点。基于光源组件200的扫描参数信息和第一待照射点位置信息，生成自待照射起点起始的、迂回式遍历扫描第一待照射点的行进路线。然后，将迂回式遍历扫描第一待照射点的行进路线作为第一照射路径。在一些情况下，可以默认目标图像的某一拐角(如左上方拐角)上的第一待照射点的位置为带照射起点。在另一情况下，可以基于预先设置的默认起始位置和第一待照射点位置信息确定待照射起点；具体地，可以将与默认起始位置间的距离最小的第一待照射点位置作为待照射起点。

在一些实施例中，扫描参数信息可以包括光源组件200的光源的预设初始扫描方向，第一照射路径为自待照射起点起始的、沿预设初始扫描方向迂回式逐行或迂回式逐列扫描的行进路线。请参考图8，图8示出了一个实施例中的第一照射路径，图8中方框区域为目标图像的图像区域，图中的各点为第一待照射点，图中的箭头方向表征预设扫描方向，相应的，第一照射路径如图中连接各点的连线所示。

进一步地，在另一些实施例中，第一照射路径为自待照射起点起始的、沿预设初始扫描方向迂回式隔行扫描的行进路线，举例来说，相邻扫描行间可以包括一行或一行以上的第一待照射点。如此，在实现第一待照射点的遍历照射的同时，增加相邻扫描行间的间距，以降低使用者痛感。

在一些实施例中，扫描参数信息还可以包括光源组件200的扫描步长信息，该扫描步长信息由光学偏转系统中反射件311的最小偏转角度限定。相应的，基于上述的遍历路径规划方法，上述的基于第一照射路径、第一待照射点位置信息和偏转系统运行参数生成第一目标偏转参数可以具体包括：1)根据待照射起点和扫描步长信息确定光源组件200在第一照射路径上的各扫描步长点。2)根据第一待照射点位置信息检测各扫描步长点各自预设范围内的第一待照射点数量。3)若检测到预设范围内的第一待照射点数量大于预设数量，标记对应的扫描步长点为第一照射路径上的目标扫描点。4)根据各目标扫描点的位置信息和上述标定得到的扫描步长点与偏转参数间的对应关系生成第一目标偏转参数。

进一步地，根据第一目标偏转参数控制光学偏转系统中反射件311的转动，以使出射光线遍历第一照射路径中的各待照射点，光源可以是常亮状态或高频闪烁状态。或者可以控制光源在无第一待照射点的位置为关闭状态，当反射件311转动至目标扫描点对应的角度和位置时，开启光源并照射预设时长。在实际应用中，可以根据检索到的目标扫描点预先生成第一照射路径上各扫描步长点的光源通断标志，从而控制光源的通断。具体地，将目标扫描点标记为光源通电标志位。在一些实施例中，预设数量可以为1。通过控制光源的移动，能够使光源组件200的出射光线以扫描步长为单位沿第一照射路径移动，在该移动过程中，通过预先生成的光源通断标志控制光源组件200中光源的开启和关闭，以实现第一待照射点的定点照射。

在实际应用中，路径规划装置根据第一待照射点位置信息进行遍历路径规划的方法还可以具有另外一种方式，具体可以包括：根据第一待照射点位置信息确定第一待照射点集合中的待照射起点。基于第一待照射点位置信息标记待处理区域600中的非照射区域；非照射区域为不具有第一待照射点且对应的皮肤面积大于预设面积的区域，或者非照射区域为长/宽大于预设长度的区域。基于光源组件200的扫描参数信息和第一待照射点位置信息，生成自待照射起点起始的、迂回式遍历扫描第一待照射点且沿非照射区域边界绕行的行进路线。然后，将迂回式遍历扫描第一待照射点且沿非照射区域边界绕行的行进路线作为第一照射路径。

在一些实施例中，可以对非照射区域和需照射区域进行编码，如非照射区域的编码为0，需照射区域的编码为1。请参考图9，图9示出了一个实施例中的第一照射路径，图中方框区域为目标图像的图像区域，灰色矩形区域表征非照射区域，该区域内不包括待照射的目标组织，图中的各点为第一待照射点，第一照射路径如图中连接各点的连线所示，图9中的箭头表征光源组件200的扫描行进方向。

在一些实施例中，扫描参数信息可以包括光源组件200的预设初始扫描方向，第一照射路径为自待照射起点起始的、沿预设初始扫描方向迂回式逐行或迂回式逐列扫描的、且沿非照射区域边界绕行的行进路线。具体地，相邻扫描行或相邻扫描列间的间距可以是扫描步长，也可以是根据相邻两行或两列的第一待照射点间的间距确定的距离，例如等于相邻两行或两列的第一待照射点间的间距。

在实际应用中，路径规划装置根据第一待照射点位置信息进行遍历路径规划的方法还可以具有另外一种方式，具体可以包括：根据第一待照射点位置信息确定第一待照射点集合中的各第一待照射起点。调用遍历搜索算法，根据第一待照射点位置信息对第一待照射点集合中的各第一待照射点进行最短距离计算，并基于最短距离计算结果标记各第一待照射点的照射序列。然后，根据各第一待照射点的照射序列生成第一照射路径。

在一些实施例中，遍历搜索算法可以包括但不限于Dijkstra算法、SPFA算法、Floyd算法和Johnson算法等。

在一些实施例中，通过遍历搜索算法对各第一待照射点进行最短距离计算，并基于最短距离计算结果对生成的各第一待照射点进行编码，进而根据编码生成照射序列。

在一个实施例中，根据第一待照射点位置信息，默认待照射起点为目标图像左上方的第一个第一待照射点位置。用于计算最短距离的遍历搜索算法的表达式可以为：

L(m)＝g(m)+h(m)+f(m) (一)

其中，L(m)为路径估计函数，g(m)为第一待照射点m(节点m)到待照射起点的距离；h(m)为节点m到待照射终点的最小距离估计，其中f(m)表征约束函数，无约束条件时，f(m)＝0；默认情况下，第一照射路径限定为逐行扫描模式(或逐列)，f(m)与对应第一待照射点位置m(x,y)的纵轴位置强相关(如等价于毛囊位置坐标中的纵轴位置)，通过计算当前节点与下一节点之间的纵轴距离来限定光源组件200出射的光线近似逐行扫描。

具体地，建立待照射起点到其它各第一待照射点的距离信息，通过一个距离参数(如distance[n-1])记录完成一次遍历时各节点间的距离，计算出最短距离，并通过一个编码(如scan_node[n-1])标记有效的遍历位置。基于上述公式一计算待照射起点到当前节点m的距离估计函数L(m)，从待照射起点开始计算每个节点的L值，并选择最优L值，将存储该L值(如存入scan_node)，然后搜索下一节点。重复迭代上述计算过程，在迭代过程中，除去已完成的节点，从剩余节点中搜寻距离最小，直到下一节点成为新的目标点，最终完成遍历搜索过程，基于上述编码生成照射序列。请参考图10，图10示出了一个实施例中的第一照射路径，图中虚线方框区域为目标图像的图像区域，图中的各点为第一待照射点，第一照射路径如图中连接各点的连线所示，箭头表征扫描方向或行进方向，该实施例中，基于数字1-9对各第一特征点进行编码标记，数字1表征待照射起点，数字9表征待照射终点。当仅包括一个光源组件200时，控制光源组件200出射的光线自待照射起点基于照射序列顺序执行照射任务，至完成待照射终点的照射处理。

进一步地，在另一实施例中，在各第一待照射点的照射序列中，相邻的第一待照射点间的距离大于等于预设距离。实际使用过程中，对相邻的待照射点进行连续照射时，两个连续照射的待照射点太近时，存在同一皮肤区域过度照射的风险，因此需要限定连续两个待照射点的距离，即一个节点至相邻的下一节点间的距离不能小于预设距离Th。

在一种情况下，可以默认待照射起点为目标图像左上方的第一个第一待照射点位置，用于计算最短距离的遍历搜索算法的表达式同上述公式一。不同的是，上述约束条件函数中的f(m)＝a(m)+b(m)，其中，a(m)为扫描方式的约束函数(例如逐行或逐列)，b(m)为最小距离代价函数，b(m)最简洁的表达方式为:

上述约束函数计算量最小，可较好满足照射处理过程中的实时性需求，为满足更高精准的边界约束条件，约束系数a可基于反sigmoid函数确定。

具体地，基于与前述生成照射序列实施例中相类似的计算方式，对加入约束条件f(m)的距离估计函数L(m)进行遍历搜索计算，得到在扫描顺序上相邻的第一待照射点间距离大于等于预设距离Th的第一照射路径。同样以图9中各第一待照射点为例，基于本实施例的计算方法得到的第一照射路径(如图10所示)。

基于上述部分或全部实施方式，在实际应用中，当光处理设备包括一组光源组件200和对应的一套光学偏转系统时，控制系统基于第一目标偏转参数控制偏转驱动装置对偏转组件进行驱动，以使反射件311将出射光线反射至不同的照射方向并最终在待处理区域600上沿第一照射路径行进。

在一些情况下，当光处理设备包括两组或两组以上的光源组件200和对应的光学偏转系统时，控制系统还用于将待处理区域600分割为多个待处理子区域，相应的，第一照射路径包括各待处理子区域各自对应的第一照射子路径，第一目标偏转参数包括各第一照射子路径各自对应的第一子目标偏转参数，第一照射子路径分别与待处理子区域和第一子目标偏转参数一一对应；控制系统还用于根据各第一子目标偏转参数控制偏转驱动装置对偏转组件进行驱动，以使各光学偏转系统的反射件311对各自接收到的出射光线进行反射偏转，以使各出射光线沿各自对应的第一照射子路径行进，实现各第一待照射点的照射处理。

在另一些情况下，当光处理设备包括两组或两组以上的光源组件200和对应的光学偏转系统时，控制系统还用于基于第一目标偏转参数控制各光源组件200和光学偏转系统协同完成对第一照射路径的遍历。

举例来说，请参考图8和图9，在迂回式遍历路径的场景下，控制系统可以基于第一目标偏转参数控制各偏转驱动装置对各自对应的偏转组件进行驱动，以使各偏转组件对各自接收的出射光线进行反射偏转，以使各出射光线自第一照射路径中的不同位置作为待照射起点，协同遍历第一照射路径中的各第一待照射点；如将图8中的左上角的第一待照射点作为一个待照射起点，控制一组光源组件200的出射光线自该点开始沿图中的箭头方向开始扫描，将图8中右下角的第一待照射点作为另一待照射起点，控制另一组光源组件200的出射光线自该点开始沿图中的箭头反方向开始扫描，至两道出射光线协同完成图中各第一待照射点的照射处理，或者，相类似的，也可以在该区域中选取三个待照射起点，调度三组光源组件200和对应的三组光学偏转系统协同完成第一照射路径的遍历照射处理。在另一个示例中，请参考图12，一组光源组件200的出射光线可以从待照射起点1开始基于第一照射路径和照射序列，按图12中箭头的扫描方向进行顺序照射处理，另一组光源组件200的出射光线可以从待照射终点9开始基于第一照射路径，按图中箭头的逆方向和照射序列的逆序进行逆序照射处理，如此，完成各第一待照射点的协同照射。

基于上述部分或全部实施方式，本公开实施例中，摄像装置100还用于获取已照射区域的待评估图像；待处理区域600包括已照射区域；图像识别装置还用于：基于目标组织的先验特征和皮肤健康状态的先验特征对待评估图像进行目标组织特征识别和皮肤健康评估，得到已照射区域中的残留目标组织对应的第二待照射点集合和第二待照射点集合的特征信息；第二待照射点集合的特征信息包括第二待照射点位置信息和残留目标组织的健康评估结果；路径规划装置还用于：根据第二待照射点位置信息和健康评估结果进行遍历路径规划，得到遍历第二待照射点集合中需重复照射的第二待照射点的第二照射路径；控制装置还用于：基于第二照射路径、第二待照射点位置信息和偏转系统运行参数生成第二目标偏转参数；基于第二目标偏转参数控制光学偏转系统对出射光线进行偏转，以使出射光线沿第二照射路径移动；以及，基于第二待照射点位置信息控制光源组件200的开闭，并对需重复照射的第二待照射点进行遍历照射处理。

在实际应用中，已照射区域可以与待处理区域600完全重叠，也可以为待处理区域600内的某一区域；待评估图像可以在对应待处理区域600的照射处理过程中获取，也可以是在对应待处理区域600的第一次照射处理完成后获取。需要说明的是，待评估图像的获取方式与目标图像的获取方式相类似。

在实际应用中，第二待照射点集合和第二待照射点集合的特征信息与前述的第一待照射点集合和第一待照射点集合的特征信息的获取方式相类似，不同之处在于，第二待照射点集合的特征信息还包括残留目标组织的健康评估结果。皮肤健康状态的先验特征可以包括红肿特征或创口特征等，基于该皮肤健康状态的先验特征可以确定已照射区域的健康评估结果，如确定是否存在红肿和红肿位置等。

在实际应用中，根据健康评估状况和第二待照射点位置信息判断各第二待照射点是否满足被照射条件，若判断结果为是，将满足被照射条件的第二待照射点作为用于生成第二照射路径的第二目标照射点，基于各第二目标照射点的位置信息，根据前述的第二照射路径的生成方式，生成第二照射路径。具体地，被照射条件包括，第二待照射点周围的预设范围内是否存在创伤区，如红肿区或创口区，若存在，则确定第二待照射点不满足被照射条件。

在实际应用中，第二目标偏转参数的生成方式与第一目标偏转参数相类似，在此不再赘述。

在一些情况下，表面组织需要相隔一段时间后进行状态评估，以确定目标组织是否达到预设的照射处理效果，例如在脱毛场景下，评估被照射处理过的毛囊是否失活。然而，相隔一段时间后，同一皮肤区域的皮肤状态和特征可能会产生比较大的变化，单独通过图像特征匹配的方法对照射前后的图像不能很好的进行匹配，进而不能进行精准的照射效果评估。为了完成已处理区域的定位，图像识别装置还用于：对待评估图像和目标图像进行图像匹配，得到目标图像中与待评估图像相匹配的图像区域。基于第一待照射点集合的特征信息，确定第一待照射点集合中的相匹配的图像区域对应的第一目标照射点和第一目标照射点的特征信息。然后，提取第一目标照射点的特征信息和第二待照射点集合的特征信息间的差异信息，并根据差异信息生成已照射区域的照射评估结果。

在实际应用中，差异信息可以包括达到预设照射效果的照射点位置和照射点数量，如失活毛囊对应的待照射点位置和数量，以及照射处理后，皮肤中的创伤区面积、位置和数量，例如，由照射处理引起的红肿区域、面积和数量等。根据上述信息可以生成包括照射处理完成度和健康状态评估等信息的照射评估结果。在一些实施例中，可以显示该照射评估结果，改善用户体验。

在一些情况下，还可以在第一次照射处理前进行皮肤区域状态的初始评估，进而可以通过比对初始评估结果和照射处理后的评估结果，得到照射效果评估结果。相应的，摄像装置100在获取待处理区域600的目标图像之前还可以用于：获取包括待处理区域600和待处理区域600周围的肢体特征区域的第一评估图像。

在实际应用中，第一评估图像对应的皮肤区域面积大于目标图像对应的皮肤区域面积。肢体特征区域可以例如为肢体关节等具有明显的、易识别特征的肢体区域，如手肘、腕关节、踝关节等，也可以是如黑色素痣等的特异性特征。第一评估图像可以通过多次拍摄拼接而成，也可以是通过一次成像得到的。

相应的，摄像装置100在获取已照射区域的待评估图像之前还可以用于：获取包括已照射区域和肢体特征区域的第二评估图像。在实际应用中，第二评估图像与第一评估图像对应于大致相同的皮肤区域，至少包括与第一评估图像相同的两处或两处以上的肢体特征区域。

进一步地，上述对待评估图像和目标图像进行图像匹配，得到目标图像中与待评估图像相匹配的图像区域包括：获取肢体特征区域在第一评估图像中的位置信息、肢体特征区域在第二评估图像中的位置信息、目标图像在第一评估图像中的位置信息和待评估图像在第二评估图像中的位置信息。基于肢体特征区域在第一评估图像中的位置信息和肢体特征区域在第二评估图像的位置信息，构建第一评估图像和第二评估图像间图像对应关系。然后，根据目标图像在第一评估图像中的位置信息、待评估图像在第二评估图像中的位置信息和图像对应关系，对待评估图像和目标图像进行图像匹配，得到目标图像中与待评估图像相匹配的图像区域。

在实际应用中，通过对第一评估图像和第二评估图像进行图像配准，能够确定待评估图像和目标图像间的位置对应关系，进而确定目标图像中与待评估图像相匹配的图像区域。进一步地，为使相匹配的图像区域的定位更加精准，还可以进一步对目标图像中的相匹配的图像区域和待评估图像进行图像配准，以校正前述确定的相匹配的图像区域，进而更准确的定位第一目标照射点和确定对应的特征信息。

基于上述部分或全部实施方式，在一些情况下，设备所覆盖的表面组织区域的范围较大，超出摄像装置100的成像范围，可以分次完成表面组织区域的图像采集和目标组织的照射处理，相应的，若设备包括两组或两组以上光源组件200，光源组件200与光学偏转系统一一对应设置时；摄像装置100还用于获取与当前待处理区域600相邻的待处理区域600对应的相邻目标图像；控制系统还用于根据相邻目标图像生成相邻的待处理区域600对应的第三照射路径；检测两组或两组以上光源组件200中是否存在空闲光源组件200；若检测结果为是，根据空闲光源组件200对应的偏转系统运行参数，和第三照射路径生成第三目标偏转参数；以及，基于第三目标偏转参数控制空闲光源组件200对应的光学偏转系统对空闲光源组件200的出射光线进行偏转，以使空闲光源组件200的出射光线沿第三照射路径移动；若检测结果为否，挂载照射任务至检测到空闲的光源组件200时，再执行调用空闲光源组件200和光学偏转系统对第三照射路径中的待照射点进行遍历照射。

在一些情况下，可以利用摄像装置100连续获取相邻目标图像，以生成各相邻待处理区域600各自的第三照射路径和照射任务，可以基于先进先出的方式，基于多个光源组件200生成光源队列，基于光源队列中的光源排序进行照射任务分配和光源调度。举例来说，当前目标图像可由第一光源组件200、第二光源组件200、和第三光源组件200和对应的光学偏转系统协同处理，第一光源组件200最先完成当前目标图像中的照射操作，则最先进入光源队列，光源排序为1，第二光源组件200第二个进入光源对列，第三光源组件200的光源排序为3。相应的，在相邻待处理区域600的的照射路径和偏转参数生成后，即相应的照射任务生成后，基于1-3的顺序依次调度第一光源组件200、第二光源组件200和第三光源组件200对相邻待处理区域600进行照射处理。需要说明的是，生成光源队列和光源调度的方式不限于上述描述，本公开在此不做限制。

在实际应用中，图像识别装置还用于对目标图像和相邻目标图像进行相似度计算，得到相似度计算结果；根据相似度计算结果确定目标图像与相邻目标图像间的重叠区域；以及基于相邻目标图像中的重叠区域之外的非重叠区域生成第三照射路径。

需要说明的是相邻目标图像的获取方式与目标图像获取方式相类似，第三照射路径的确定方式也与前述第一照射路径的确定方式相类似，空闲的光源组件200对第三待照射点的遍历照射方式也与前述的对第一待照射点的遍历照射方式相类似，在此不再赘述。

在一些实施例中，为避免漏照，可以通过摄像参数的设置，令相邻目标图像与目标图像具有重叠区域；相应的，图像识别装置还用于对目标图像和相邻目标图像进行相似度计算，得到相似度计算结果。根据相似度计算结果确定目标图像和相邻目标图像间的重叠区域。路径规划装置还用于基于相邻目标图像中的重叠区域之外的非重叠区域确定第三照射路径。具体地，可以通过上述相似度计算，确定出两次目标图像和相邻目标图像间的重合度，进而确定重叠区域，从而完成相邻两个待处理区域600的拼接。如此，避免重复区域内的重复照射。具体地，可以通过设置摄像参数，使摄像装置100在相邻两次的拍摄过程中，利用限定摄像装置100的机械位置来限定其两次拍摄的图像之间的间距，保证两次拍摄的照片有一定位移量d(x,y)的重合，避免因两次拍摄间距过大而造成漏照。

综上，本公开通过设置光学偏转系统对光源组件200的出射光线进行偏转，能够将出射光线精准快速的偏转至不同的照射方向，此外，通过摄像装置100获取目标图像，并通过控制系统基于目标图像生成照射路径和偏转参数，然后根据偏转参数控制光学偏转系统对出射光线的偏转，使出射光线沿照射路径对待处理区域600进行光处理，不仅实现了目标组织的精准定位照射，且能够快速实现出射光线的移动，保证照射处理效率，降低光源数量、能耗和散热需求。

实施例1

请参考图1-4，本实施例提供一种移动式偏转式皮肤光处理设备，设备包括摄像装置100、控制系统、光源组件200、光学偏转系统、导轨机构400和导轨驱动装置500；光学偏转系统设有用于接收和偏转光源组件200的出射光线的偏转组件，光源组件200与偏转组件相对设置，光学偏转系统能够通过移动偏转组件，将出射光线偏转至不同的照射方向；摄像装置100用于获取表面组织的目标图像，目标图像对应的待处理区域600中包括待照射的目标组织；控制系统用于根据目标图像生成遍历待处理区域600中的目标组织的第一照射路径和第一照射路径对应的第一目标偏转参数；基于第一目标偏转参数控制光学偏转系统对出射光线进行偏转，以使出射光线基于第一照射路径移动并对待处理区域600内的目标组织进行照射处理。

在一个示例中，请参考图1-2，偏转式皮肤光处理设备设有壳体700，壳体700内设置有一组光源组件200和光学偏转系统。光学偏转系统包括一组偏转组件、用于驱动偏转组件运动的偏转驱动装置和偏转支撑结构330。其中，偏转组件包括反射件311、连杆313和旋转件314，反射件311与光学组件相对设置，设有用于反射出射光线的光线偏转面312，反射件311的与光线偏转面312相对的侧面上转动头315，转动头315与连杆313的一端转动连接，能够相对于连杆313转动，连杆313的远离转动头315的一端与旋转件314固定连接。

进一步地，偏转驱动装置与控制系统电连接，包括两组第一驱动电机321和第二驱动电机322，第一驱动电机321设置在旋转件314上。其中，一组第一驱动电机321用于控制反射件311以第一方向为第一转动轴进行摆动，另一组第一驱动电机321用于控制反射件311以第二方向为第二转动轴进行摆动，第一转动轴在xy平面内，第二转动轴在yz平面内。第一驱动电机321上设置线辊323，第一驱动电机321与反射件311间连接有牵引线324，牵引线324的一端连接反射件311，另一端绕设在线辊323上，第一驱动电机321工作时，线辊323顺时针或逆时针转动，以使线辊323与反射件311间的牵引线324的长度发生变化。

进一步地，第二驱动电机322设置在转动件与偏转支撑结构330之前，旋转件314能够相对于第二驱动电机322转动；在第二驱动电机322的驱动作用下，旋转件314能够带动连杆313旋转，进而使反射件311在旋转件314的带动下旋转。具体地，旋转件314包括旋转板，连杆313和第一驱动电机321固定设置在旋转板上。

进一步地，控制系统能够基于偏转参数控制偏转驱动装置的驱动运行参数，控制各第一驱动电机321工作，以使线辊323顺时针或逆时针转动来改变各牵引线324的长度变化，以实现反射件311的摆动，进而改变光线入射至光线偏转面312的入射角。同时，还可以基于驱动运行参数控制第二驱动电机322工作，以使旋转件314带动反射件311以y方向为转动轴顺时针或逆时针旋转。

进一步地，偏转支撑结构330的一端与第二驱动电机322相连接，偏转支撑结构330的另一端设置在壳体700的内壁上。在一些情况下，偏转支撑结构330为能够伸缩的支撑杆，通过支撑杆的伸长或缩短，能够改变反射件311与光源组件200的出光口间的距离，即改变光线偏转面312与出光口间的距离，以及反射件311在待处理区域600上方的位置，更有利于精准控制出射光线照射至待处理区域600的位置，和增加同一光源的有效照射面积。

进一步地，导轨机构400固定设置在壳体700的内壁上，导轨机构400包括导轨本体410、螺杆420和滑块430，螺杆420沿导轨本体410的长度方向设置，螺杆420的一端与导轨驱动装置500连接，滑块430套设在螺杆420上且设有内螺纹，光源组件200固定设置在该滑块430上，导轨驱动装置500与控制系统电连接，能够控制导轨驱动装置500的运行参数。螺杆420能够在导轨驱动装置500提供的驱动力作用下转动，进而使滑块430带动光源组件200在螺杆420上沿其长度方向做往复运动，进而改变光源组件200与待处理区域600间在z方向上的距离。如此，易于调整光源组件200的位置，有利于设备的装配和校准等操作，并且，在待照射点位置信息中包括三维坐标信息时，能够通过调整光源组件200在Z方向的位置，提高对待照射点定点照射处理的精准度。

在一些情况下，光学偏转系统还包括位置检测装置，位置检测装置能够获取反射件311的实际偏转角度和位置信息，并将实际偏转角度和位置信息反馈至控制系统，控制系统能够根据实际偏转角度和位置信息修正第一目标偏转参数，进而实现闭环控制。具体地，位置检测装置可以包括位置传感器，例如电容式传感器或光栅尺传感器等，位置检测装置将实际偏转角度和位置信息转换为对应的电信号反馈至控制系统，以使控制系统基于对应的电信号调整第一目标偏转参数，以精准控制出射光线到达待处理区域600的位置。

在另一个示例中，请参考图3-4，设备包括三组光源组件200、三组导轨机构400和导轨驱动装置500和三套光学偏转系统。光源组件200分别与光学偏转系统和滑轨机构一一对应设置。光源组件200、导轨机构400、导轨驱动装置500及光学偏转系统的结构和连接方式等于图1-2中的光处理设备相类似，在此不再赘述。通过设置多组光源组件200和对应的光学偏转系统，能够调度多个光源对待处理区域600进行照射，有效减少照射处理时间，提高表面组织的照射处理效率。举例来说，可以将待处理区域600分为多个待处理子区域，调度多个光源组件200分别处理不同的待处理子区域，或调度多个光源组件200协同处理同一照射路径中的待照射点，或获取相邻待处理区域600的相邻目标图像，基于生成的光源队列对光源进行调度，以实现表面组织的多个待处理区域600的遍历照射。

此外，本实施例的设备中的控制系统结构、照射处理方式等基于前述相关部分内容设置，在此不再赘述。

实施例2

请参考图5-6，本实施例提供一种移动式偏转式皮肤光处理设备，设备包括摄像装置100、控制系统、光源组件200、光学偏转系统、导轨机构400和导轨驱动装置500；光学偏转系统设有用于接收和偏转光源组件200的出射光线的偏转组件，光源组件200与偏转组件相对设置，光学偏转系统能够通过移动偏转组件，将出射光线偏转至不同的照射方向；摄像装置100用于获取表面组织的目标图像，目标图像对应的待处理区域600中包括待照射的目标组织；控制系统用于根据目标图像生成遍历待处理区域600中的目标组织的第一照射路径和第一照射路径对应的第一目标偏转参数；基于第一目标偏转参数控制光学偏转系统对出射光线进行偏转，以使出射光线基于第一照射路径移动并对待处理区域600内的目标组织进行照射处理。

需要说明的是，本实施例基于上述实施例1，光处理设备的结构与连接方式与实施例1的相类似之处在此不再赘述，本实施例的方案与实施例1不同之处如下：

光学偏转系统包括第一偏转组件和第二偏转组件，偏转组件与偏转驱动装置一一对应设置，第一偏转组件与光源组件200相对设置，用于直接接收光源组件200的出射光线，第二偏转组件与第一偏转组件相对设置，经第一偏转组件的反射件311反射的出射光线入射至第二偏转组件的反射件311上，第二偏转组件的反射件311对其进行二次反射，以使出射光线照射至待处理区域600的目标位置。进一步地，第二偏转组件设置在导轨机构400上，与光源组件200相类似的，第二偏转组件能够沿导轨机构400的长度方向做往复运动。在一些情况下，第二偏转组件与光源组件200能够在导轨机构400上协同运动。通过设置多组偏转组件，更易于调整出射光线的偏转角度和照射方向，有利于控制出射光线在待处理区域600上的定位和扩大光源组件200的辐照面积。

此外，本实施例的设备中的控制系统结构、照射处理方式等基于前述相关部分内容设置，在此不再赘述。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于装置、设备、服务器和存储介质实施例而言，由于其基本相似于方法实施例，所以描述的比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。

以上仅为本公开的较佳实施例，并不用以限制本公开，凡在本公开的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。

Claims (12)

1.一种偏转式皮肤光处理设备，其特征在于，所述设备包括用于获取表面组织的目标图像的摄像装置(100)、控制系统、光源组件(200)和光学偏转系统；所述目标图像对应的待处理区域(600)中包括待照射的目标组织；

所述光学偏转系统设有偏转支撑结构(330)和用于接收和偏转所述光源组件(200)的出射光线的偏转组件，所述偏转支撑结构(330)与所述偏转组件相连接；所述光源组件(200)与所述偏转组件相对设置，所述光学偏转系统能够通过移动所述偏转组件，将所述出射光线偏转至不同的照射方向；

所述摄像装置(100)、所述光源组件(200)和所述光学偏转系统分别与所述控制系统通信连接；在所述光学偏转系统基于第一照射路径对应的第一目标偏转参数运行时，所述光学偏转系统通过所述偏转组件对所述出射光线进行偏转，以使所述出射光线基于所述第一照射路径移动并对所述待处理区域(600)内的目标组织进行照射处理；其中，所述第一照射路径为所述控制系统根据所述目标图像生成的、遍历所述目标图像对应的待照射的目标组织的路径。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述偏转组件包括用于接收和偏转所述出射光线的反射件(311)，所述反射件(311)与所述光源组件(200)相对设置。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述光学偏转系统还包括偏转驱动装置，所述偏转驱动装置与所述控制系统电连接，在所述偏转驱动装置的驱动作用下，所述反射件(311)能够相对于所述出射光线的方向转动，进而改变所述出射光线入射至所述反射件(311)的光线偏转面(312)的入射角度。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述偏转组件还包括转动块，所述转动块的一侧与所述反射件(311)固定连接，所述转动块的另一侧与所述偏转驱动装置连接，所述转动块能够在所述偏转驱动装置的驱动作用下转动，进而带动所述反射件(311)转动。

5.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述偏转驱动装置包括偏转电机，所述偏转电机与所述反射件(311)固定连接，所述偏转电机能够基于控制系统发送的控制指令转动，进而带动所述反射件(311)转动。

6.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述偏转驱动装置包括与所述反射件(311)连接的第一驱动电机(321)，所述偏转组件还包括与所述反射件(311)活动连接的连杆(313)；在所述第一驱动电机(321)的驱动作用下，所述反射件(311)能够相对于所述连杆(313)摆动。

7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，所述偏转驱动装置还包括第二驱动电机(322)，所述偏转组件还包括旋转件(314)，所述旋转件(314)与所述连杆(313)固定连接，所述旋转件(314)与所述第二驱动电机(322)转动连接；

在所述第二驱动电机(322)的驱动作用下，所述旋转件(314)能够带动所述连杆(313)旋转，进而使所述反射件(311)在所述旋转件(314)的带动下旋转。

8.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述设备还包括壳体(700)，所述偏转支撑结构(330)的一端设置在所述壳体(700)的内壁上，所述偏转支撑结构(330)的另一端与所述偏转组件相连接。

9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述偏转支撑结构(330)能够伸长或缩短，进而改变所述反射件(311)与所述光源组件(200)的出光口间的距离。

10.根据权利要求1-9中任一所述的设备，其特征在于，所述设备还包括导轨机构(400)和导轨驱动装置(500)，所述光源组件(200)与所述导轨机构(400)活动连接，在所述导轨驱动装置(500)的驱动作用下，所述光源组件(200)能够沿所述导轨机构(400)做往复运动。

11.根据权利要求3-7中任一所述的设备，其特征在于，所述偏转组件与所述偏转驱动装置一一对应设置，若所述光学偏转系统包括两组或两组以上所述偏转组件，所述出射光线经各偏转组件的偏转后能够照射至所述待处理区域(600)。

12.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述光学偏转系统还包括用于获取所述反射件(311)的实际偏转角度和位置信息的、并将其反馈至所述控制系统的位置检测装置，所述位置检测装置与所述控制系统通信连接，所述控制系统能够根据所述实际偏转角度和位置信息修正所述第一目标偏转参数。

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