CN215856324U - 适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，包括：托盘模组；至少两片外奇电极片，所述外奇电极片设置于所述托盘模组的上方，且所述外奇电极片沿竖直方向规则阵列设置；以及至少两片内偶电极片，所述内偶电极片设置于所述托盘模组的上方，且所述内偶电极片沿竖直方向规则阵列设置；其中，所述外奇电极片与所述内偶电极片沿竖直方向依次交替阵列设置，每个所述外奇电极片通过第一固定模组紧固连接；每个所述内偶电极片通过第二固定模组紧固连接。根据本实用新型，其通过将外奇电极片及内偶电极片分开组装固定，有效的防止相邻的外奇电极片及内偶电极片之间的导通，避免工艺重复性差的问题。

Description

适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构

技术领域

本实用新型涉及管式PECVD技术领域。更具体地说，本实用新型涉及一种适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构。

背景技术

管式PECVD设备目前主要用于硅片太阳能器件加工的镀膜沉积设备。具体原理是利用一定频率的电源来激发气体辉光放电形成等离子体，在电磁场的作用下，促进工艺气体分子的分解、化合、激发和电离，加速反应活性基团的生成，降低薄膜沉积温度，从而实现低温镀膜功能。工艺过程中，将交变电源的正负两个电极的电极杆插入石墨舟对应位置的两个电极孔,如此石墨舟两相邻电极片(奇、偶电极片)之间可以形成电场，从而实现放电。相邻电极片间通过绝缘陶瓷隔套分开，避免导通。

目前关注度极高的PERC电池即是在背面引入氧化铝/氮化硅介质层进行钝化，采用局部金属接触，有效降低背表面电子复合，提升电池转化效率。但由于PERC电池将背面的接触范围限制在开孔区域，开孔处的高复合速率依然存在。

薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大类：物理气象沉积(PVD)和化学气象沉积(CVD)。等离子增强型化学气相沉积(PECVD)是化学气相沉积的一种，PECVD(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition)等离子增强化学气相沉积，等离子体是物质分子热运动加剧，相互间的碰撞会导致气体分子产生电离，物质就会变成自由运动并由相互作用的正离子、电子和中性粒子组成的混合物，其沉积温度低是其最突出的优点。PECVD的薄膜具有优良的电学性能、良好的衬底附着性以及极佳的台阶覆盖性。

目前，常规晶硅太阳电池工艺中主要利用管式等离子体系统沉积氮化硅(SiNx)和氧化铝(Al2O3)作为钝化层。由于氮化硅(SiNx)和氧化铝(Al2O3)即使在高温条件下都是非常好的绝缘材料，因此通常的奇、偶电极片用陶瓷垫圈隔离没有什么问题，即使在陶瓷垫圈上有一定厚度的绝缘薄膜沉积也不会引起两电极间阻抗的降低。但是采用管式等离子体系统用于半导体薄膜材料的沉积就遇到了严重问题，随着薄膜的沉积，一定厚度的半导体薄膜会在陶瓷绝缘垫圈上沉积，随着半导体薄膜厚度的增加，奇、偶电极片间的阻抗会降低甚至短路，使得沉积系统不稳定，沉积速率随沉积时间的增加而降低，特别是在高温的条件下，半导体的电导率会迅速增加，沉积的不稳定性加剧。这一问题严重影响薄膜沉积的重复性，是管式等离子体系统沉积半导体薄膜急需解决的问题，特别是制备非晶硅及非晶硅基合金材料以及相应的纳米和微晶材料。

有鉴于此，实有必要开发一种适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，用以解决上述问题。

实用新型内容

针对现有技术中存在的不足之处，本实用新型的主要目的是，提供一种适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其通过将外奇电极片及内偶电极片分开组装固定，使得工艺放电时相邻的外奇电极片及内偶电极片之间可形成电场，有效的防止相邻的外奇电极片及内偶电极片之间的导通，避免工艺重复性差的问题。

为了实现根据本实用新型的这些目的和其它优点，提供了一种适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，包括：托盘模组；

至少两片外奇电极片，所述外奇电极片设置于所述托盘模组的上方，且所述外奇电极片沿竖直方向规则阵列设置；以及

至少两片内偶电极片，所述内偶电极片设置于所述托盘模组的上方，且所述内偶电极片沿竖直方向规则阵列设置；

其中，所述外奇电极片与所述内偶电极片沿竖直方向依次交替阵列设置，每个所述外奇电极片通过第一固定模组紧固连接；每个所述内偶电极片通过第二固定模组紧固连接。

优选的是，所述第一固定模组包括：内部中空的第一支撑管，所述第一支撑管不少于两个，且每个所述第一支撑管分别布置于相邻两所述外奇电极片之间；以及

至少两个第一螺杆单元，每个所述第一螺杆单元贯穿所述第一支撑管以将所述第一支撑管及所述外奇电极片整体固定。

优选的是，所述第一支撑管及所述第一螺杆单元均由绝缘材料制成。

优选的是，所述第二固定模组包括：内部中空的第二支撑管，所述第二支撑管不少于两个，且每个所述第二支撑管分别布置于相邻两所述内偶电极片之间；以及

至少两个第二螺杆单元，每个所述第二螺杆单元贯穿所述第二支撑管以将所述第二支撑管及所述内偶电极片整体固定。

优选的是，所述第二支撑管与所述第二螺杆单元均由绝缘材料制成。

优选的是，每个所述第一螺杆单元的底部区域的外周设置有防导通部。

优选的是，相邻两所述外奇电极片之间设置有第一石墨隔块。

优选的是，相邻两所述内偶电极片之间设置有第二石墨隔离块。

优选的是，所述托盘模组包括：第一托盘；以及

第二托盘，其位于所述第一托盘的正上方；

其中，所述内偶电极片以所述第一托盘的顶面为基面沿竖直方向阵列布置，所述外奇电极片以所述第二托盘的顶面为基面沿竖直方向阵列布置。

优选的是，所述第一托盘与所述第二托盘之间设置有隔离板，所述隔离板由绝缘材料制成。

上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果：本实用新型通过将外奇电极片及内偶电极片分开组装固定，使得工艺放电时相邻的外奇电极片及内偶电极片之间可形成电场，有效的防止相邻的外奇电极片及内偶电极片之间的导通，避免工艺重复性差的问题。

本实用新型的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本实用新型的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本实用新型的一些实施例，而非对本实用新型的限制，其中：

图1为根据本实用新型一个实施方式提出的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构的三维结构视图；

图2为根据本实用新型一个实施方式提出的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构的爆炸结构视图；

图3为根据本实用新型一个实施方式提出的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构的剖视图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在附图中，为清晰起见，可对形状和尺寸进行放大，并将在所有图中使用相同的附图标记来指示相同或相似的部件。

除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本实用新型专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

在下列描述中，诸如中心、厚度、高度、长度、前部、背部、后部、左边、右边、顶部、底部、上部、下部等用词是相对于各附图中所示的构造进行定义的，特别地，“高度”相当于从顶部到底部的尺寸，“宽度”相当于从左边到右边的尺寸，“深度”相当于从前到后的尺寸，它们是相对的概念，因此有可能会根据其所处不同位置、不同使用状态而进行相应地变化，所以，也不应当将这些或者其他的方位用于解释为限制性用语。

涉及附接、联接等的术语(例如，“连接”和“附接”)是指这些结构通过中间结构彼此直接或间接固定或附接的关系、以及可动或刚性附接的关系，除非以其他方式明确地说明。

根据本实用新型的一实施方式结合图1～3的示出，可以看出，适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其包括：托盘模组11；

至少两片外奇电极片12，所述外奇电极片12设置于所述托盘模组11的上方，且所述外奇电极片12沿竖直方向规则阵列设置；以及

至少两片内偶电极片13，所述内偶电极片13设置于所述托盘模组11的上方，且所述内偶电极片12沿竖直方向规则阵列设置；

其中，所述外奇电极片12与所述内偶电极片13沿竖直方向依次交替阵列设置，每个所述外奇电极片12通过第一固定模组14紧固连接；每个所述内偶电极片13通过第二固定模组15紧固连接。

可理解的是，本实用新型通过将所述外奇电极片12及所述内偶电极片13分开组装固定，使得工艺放电时相邻的所述外奇电极片12及所述内偶电极片13之间可形成电场，有效的防止相邻的所述外奇电极片12及所述内偶电极片13之间的导通，避免工艺重复性差的问题。

进一步，所述第一固定模组14包括：内部中空的第一支撑管141，所述第一支撑管141不少于两个，且每个所述第一支撑管141分别布置于相邻两所述外奇电极片12之间；以及至少两个第一螺杆单元142，每个所述第一螺杆单元142贯穿所述第一支撑管141以将所述第一支撑管141及所述外奇电极片12整体固定。

所述第一支撑管141及所述第一螺杆单元142均由绝缘材料制成。

在本实用新型一优选的实施方式中，所述第一支撑杆141及所述第一螺杆单元142均有陶瓷制成。

进一步，所述第二固定模组15包括：内部中空的第二支撑管151，所述第二支撑管151不少于两个，且每个所述第二支撑管151分别布置于相邻两所述内偶电极片13之间；以及至少两个第二螺杆单元152，每个所述第二螺杆单元152贯穿所述第二支撑管151以将所述第二支撑管151及所述内偶电极片13整体固定。

所述第二支撑管151与所述第二螺杆单元152均由绝缘材料制成。

在本实用新型一优选的实施方式中，所述第二支撑管151与所述第二螺杆单元152均有陶瓷制成。

进一步，每个所述第一螺杆单元142的底部区域的外周设置有防导通部1421。

可理解的是，通过在所述第一螺杆单元142的底部设置防导通部1421，可降低相邻的所述外奇电极片12及所述内偶电极片13之间的导通的几率，有效的防止相邻的所述外奇电极片12及所述内偶电极片13之间的导通。

进一步，相邻两所述外奇电极片12之间设置有第一石墨隔块16。相邻两所述内偶电极片13之间设置有第二石墨隔离块17。

进一步，所述托盘模组11包括：第一托盘111；以及

第二托盘112，其位于所述第一托盘111的正上方；

其中，所述内偶电极片13以所述第一托盘111的顶面为基面沿竖直方向阵列布置，所述外奇电极片12以所述第二托盘112的顶面为基面沿竖直方向阵列布置。

所述第一托盘111与所述第二托盘112之间设置有隔离板113，所述隔离板113由绝缘材料制成。

可理解的是，通过设置双层托盘，所述内偶电极片13以第一托盘111为基体阵列布置，所述外奇电极片12以第二托盘112为基体阵列布置，进一步将所述外奇电极片12与所述内偶电极片13分隔，进一步防止所述外奇电极片12与所述内偶电极片13之间的导通。

这里说明的设备数量和处理规模是用来简化本实用新型的说明的。对本实用新型的应用、修改和变化对本领域的技术人员来说是显而易见的。

尽管本实用新型的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用。它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域。对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改。因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。

Claims (10)

1.一种适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其特征在于，包括：托盘模组(11)；

至少两片外奇电极片(12)，所述外奇电极片(12)设置于所述托盘模组(11)的上方，且所述外奇电极片(12)沿竖直方向规则阵列设置；以及

至少两片内偶电极片(13)，所述内偶电极片(13)设置于所述托盘模组(11)的上方，且所述内偶电极片(12)沿竖直方向规则阵列设置；

其中，所述外奇电极片(12)与所述内偶电极片(13)沿竖直方向依次交替阵列设置，每个所述外奇电极片(12)通过第一固定模组(14)紧固连接；每个所述内偶电极片(13)通过第二固定模组(15)紧固连接。

2.如权利要求1所述的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其特征在于，所述第一固定模组(14)包括：内部中空的第一支撑管(141)，所述第一支撑管(141)不少于两个，且每个所述第一支撑管(141)分别布置于相邻两所述外奇电极片(12)之间；以及

至少两个第一螺杆单元(142)，每个所述第一螺杆单元(142)贯穿所述第一支撑管(141)以将所述第一支撑管(141)及所述外奇电极片(12)整体固定。

3.如权利要求2所述的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其特征在于，所述第一支撑管(141)及所述第一螺杆单元(142)均由绝缘材料制成。

4.如权利要求1所述的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其特征在于，所述第二固定模组(15)包括：内部中空的第二支撑管(151)，所述第二支撑管(151)不少于两个，且每个所述第二支撑管(151)分别布置于相邻两所述内偶电极片(13)之间；以及

至少两个第二螺杆单元(152)，每个所述第二螺杆单元(152)贯穿所述第二支撑管(151)以将所述第二支撑管(151)及所述内偶电极片(13)整体固定。

5.如权利要求4所述的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其特征在于，所述第二支撑管(151)与所述第二螺杆单元(152)均由绝缘材料制成。

6.如权利要求2所述的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其特征在于，每个所述第一螺杆单元(142)的底部区域的外周设置有防导通部(1421)。

7.如权利要求1所述的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其特征在于，相邻两所述外奇电极片(12)之间设置有第一石墨隔块(16)。

8.如权利要求1所述的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其特征在于，相邻两所述内偶电极片(13)之间设置有第二石墨隔离块(17)。

9.如权利要求1所述的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其特征在于，所述托盘模组(11)包括：第一托盘(111)；以及

第二托盘(112)，其位于所述第一托盘(111)的正上方；

其中，所述内偶电极片(13)以所述第一托盘(111)的顶面为基面沿竖直方向阵列布置，所述外奇电极片(12)以所述第二托盘(112)的顶面为基面沿竖直方向阵列布置。

10.如权利要求9所述的适用于管式等离子体气相沉积系统的石墨舟防导通结构，其特征在于，所述第一托盘(111)与所述第二托盘(112)之间设置有隔离板(113)，所述隔离板(113)由绝缘材料制成。

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