CN215843005U - 一种平推流塔式缩聚反应系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种平推流塔式缩聚反应系统，属于化工设备技术领域。包括，塔式筒体，所述塔式筒体内设置有平推流工作区，所述平推流工作区与所述塔式筒体底部之间构成气相空间，所述塔式筒体中心轴位置含有贯穿于所述平推流工作区的气相通道，所述塔式筒体底部设有返混装置，所述返混装置使得从所述平推流工作区流出的物料依次从出料口采出。本实用新型通过在塔式筒体底部设置返混装置，有效降低物料从塔中平推流工作区溢流进入塔身底部后无法继续维持平推流流动的返混程度。

Description

一种平推流塔式缩聚反应系统

技术领域

本实用新型属于化工设备技术领域，具体地说，涉及一种平推流塔式缩聚反应系统。

背景技术

目前，聚酯类聚合物，如PET、PBT、PTT、PBS、PBST和PBAT，连续聚合生产过程，通常由酯化反应工序、预缩聚反应工序和终缩聚反应工序组成。缩聚反应器是承担预缩聚反应工序和终缩聚反应工序的主要设备。传统缩聚反应器通常为立式全混流反应器、卧式圆盘式反应器和卧室笼框式反应器等。与立式全混流反应器相比，卧式圆盘式反应器和卧室笼框式反应器显著降低了物料的返混程度，但是它们的搅拌器结构复杂，制造加工难度大。此外，卧式圆盘式反应器和卧室笼框式反应器均为动设备，运行能耗高。

申请号为CN201110116240.4的中国专利公开了一种下流式预聚塔，该下流式预缩聚反应塔包括筒形塔身、塔身顶部和底部的上封头和下封头，其中塔身内部含有平推流工作区，平推流工作区是采用若干塔盘和挡板交错排列组成，使向下流动的物料始终处理平推、溢流的反复状态。该专利公开的下流式预聚塔中物料从塔中平推流工作区溢流进入塔身底部下封头后无法继续维持平推流流动，存在较严重的返混，此外该下流式预聚塔下部的气相空间较小、抽真空口设置在筒形塔身下部，导致溢流进入塔身底部下封头的物料易被缩聚副产物蒸汽夹带进入真空管道而导致其堵塞。

有鉴于此特提出本实用新型。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术的不足，提供一种平推流塔式缩聚反应系统，本实用新型旨在解决现有技术预聚塔中物料从塔中平推流工作区溢流进入塔身底部后无法继续维持平推流流动，存在较严重的返混及预聚塔下部的气相空间较小抽真空口设置在筒形塔身下部，导致溢流进入塔身底部的物料易被缩聚副产物蒸汽夹带进入真空管道而导致其堵塞的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用技术方案的基本构思是：

一种平推流塔式缩聚反应系统，包括，塔式筒体，所述塔式筒体内设置有平推流工作区，所述平推流工作区与所述塔式筒体底部之间构成气相空间，所述塔式筒体中心轴位置含有贯穿于所述平推流工作区的气相通道；

所述塔式筒体底部设有返混装置，所述返混装置使得从所述平推流工作区流出的物料依次从出料口采出。

通过上述设计，使得物料从塔中平推流工作区溢流进入塔式筒体底部后通过返混装置，有效避免塔式筒体底部物料返混，影响缩聚反应系统功效的目的。

进一步的，所述返混装置包括，

外室套筒，所述外室套筒为两端开口的筒状结构，并靠近所述塔式筒体内侧壁设置，所述外室套筒的底部周向均匀设有若干槽孔，所述外室套筒的底端与所述塔式筒体底壁连接；

内室套筒，所述内室套筒为两端开口的筒状结构，设置在所述外室套筒内，所述内室套筒底端连接所述塔式筒体底壁；

优选的，所述外室套筒和所述内室套筒分别与所述塔式筒体中心轴同轴设置。

通过上述设计，所述外室套筒与内室套筒结构简单，能够有效避免了物料在所述塔式筒体底部发生返混。

进一步的，所述外室套筒包括，

导流板，所述导流板的底部周向均匀设有若干槽孔，所述导流板的底端与所述塔式筒体底壁连接；

引流板，所述导流板顶端连接引流板，所述引流板将物料引入外室套筒与塔式筒体之间形成的空间。

通过上述设计，所述引流板将经平推流工作区的物料引入外室套筒与塔式筒体之间形成的空间，防止物料直接进入外室套筒或内室套筒内部，有效控制物料的返混。

进一步的，所述引流板为向所述外室套筒内部收缩的锥形结构；

优选的，所述引流板至少遮挡所述外室套筒与内室套筒之间的开口；

优选的，所述导流板顶端高于所述内室套筒顶端。

通过上述设计，所述引流板结构简单，使得物料由所述平推流工作区流出后可以完全进入导流板与塔式筒体之间形成的空间内，防止物料通过外室套筒与内室套筒之间的空间和内室套筒内部，进而进入所述塔式筒体底部，不会阻碍物料沿导流板与内室套筒之间的空间溢流进入内室套筒内部，由出料口采出。

进一步的，所述塔式筒体内设有旋流涂抹装置，所述旋流涂抹装置包括，

气相导流筒，所述气相导流筒为一端开口的筒状结构，所述气相导流筒侧壁设有通气口；

旋流涂抹器，所述气相导流筒的开口连接所述旋流涂抹器；

优选的，所述旋流涂抹装置设置在所述平推流工作区的下方，返混装置的上方；

优选的，所述气相导流筒另一端为向外凸出的锥形或弧形结构。

通过上述设计，所述旋流涂抹装置使得缩聚副产物蒸汽经折流和除沫后再进入真空管道，可有效防止雾沫夹带，避免物料进入真空管道而导致其堵塞。

进一步的，所述旋流涂抹器为中心向所述塔式筒体底部凸出的锥形结构。

通过上述设计，增大了旋流涂抹器的表面积，增加了缩聚副产物蒸汽与所述旋流涂抹器的接触面积，有效防止物料被缩聚副产物蒸汽夹带进入真空管道而导致其堵塞。

进一步的，所述旋流涂抹器包括，

内环板，

外环板，

叶片，所述叶片设置在所述内环板与外环板之间；

所述叶片的径向夹角为5°～30°，叶片仰角5°～25°，叶片与内环板的相交线与内环板轴线的夹角为5°～70°，叶片与外环板的相交线与外环板轴线的夹角为45°～85°；

优选的，所述内环板底部中心设有挡板，所述挡板均匀设有若干小孔。

通过上述设计，可以得到多种形式的旋流涂抹器，不同的旋流涂抹器可以应用于不同的缩聚反应，提供本实用新型缩聚反应系统的应用范围。

进一步的，所述平推流工作区设有降膜单元，相邻两层降膜单元的气相通道之间存在夹缝，所述夹缝的宽度向所述塔式筒体底部逐渐增大。

通过上述设计，随着物料在降膜单元的平推流动，缩聚副产物粘度逐渐升高，逐渐增大的夹缝宽度，有利于缩聚副产物蒸汽进入气相管道抽出所述塔式筒体。

进一步的，所述降膜单元包括，

第一塔盘，所述第一塔盘外边缘连接所述塔式筒体侧壁，所述第一塔盘内边缘连接与气相通道同轴的第一环形堰板，所述第一环形堰板与气相通道之间存在环形夹缝；

第二塔盘，所述第二塔盘外边缘连接与气相通道同轴的第二环形堰板，所述第二环形堰板与所述塔式筒体侧壁之间存在环形夹缝；

塔盘环板，所述塔盘环板一端连接所述第二塔盘内边缘，另一端向所述塔式筒体顶部延伸，所述塔盘环板构成气相通道；

优选的，所述第一塔盘和第二塔盘分别靠近所述第一环形堰板和第二环形堰板内侧均匀设有第一导流孔和第二导流孔。

通过上述设计，将导流孔设置在塔盘靠近环形堰板内侧，使物料在塔盘根部无死区，更接近于平推流。

进一步的，所述塔式筒体下部周向设有半盘管；

优选的，设有返混装置的塔式筒体外壁周向设有半盘管。

通过上述设计，使得物料通过返混装置时仍可进行缩聚反应将副产物蒸汽进一步排出，所述半盘管提供必要热量。

采用上述技术方案后，本实用新型与现有技术相比具有以下有益效果。

(1)本实用新型通过在塔式筒体底部设置返混装置，有效降低平推流塔式缩聚反应系统内物料的返混程度，提高缩聚反应效率，强化缩聚反应系统功效。

(2)本实用新型的返混装置结构简单，只通过外室套筒和内室套筒将所述塔式筒体底部分为外室、中室和内室，物料经所述平推流工作区进入塔式筒体下部的外室，经外室套筒与塔式筒体之间的夹缝折流进入中室，再从中室溢流进入内室，最后从内室底部采出。

(3)本实用新型在塔式筒体内设置旋流涂抹装置，通过所述旋流涂抹装置将缩聚反应副产物蒸汽与物料分离，可有效防止雾抹夹带，避免物料进入真空管道而导致其堵塞。

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的描述。

附图说明

附图作为本实用新型的一部分，用来提供对本实用新型的进一步的理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，但不构成对本实用新型的不当限定。显然，下面描述中的附图仅仅是一些实施例，对于本领域普通技术人员来说，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图。在附图中：

图1是本实用新型一种平推流塔式缩聚反应系统结构示意图；

图2是图1中A处局部放大图；

图3为图1中外室套筒与塔式筒体的连接结构示意图；

图4是本实用新型降膜单元中第一塔盘结构示意图；

图5是本实用新型降膜单元中第二塔盘结构示意图；

图6是本实用新型旋流涂抹器结构示意图。

图中：1、塔式筒体；10、进料口；11、出料口；12、气相出口；2、平推流工作区；20、气相通道；21、降膜单元；210、第一塔盘；211、第二塔盘；222、第一环形堰板；223、第二环形堰板；224、第一导流孔；225、第二导流孔；226、塔盘环板；3、返混装置；30、外室套筒；300、导流板；301、引流板；302、槽孔；303、固定筋；31、内室套筒；4、旋流涂抹装置；40、气相导流筒；41、旋流涂抹器；410、内环板；411、叶片；412、外环板；5、锥形伞板；6、半盘管。

需要说明的是，这些附图和文字描述并不旨在以任何方式限制本实用新型的构思范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本实用新型的概念。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

如图1至图6所示，本实用新型提供一种平推流塔式缩聚反应系统，包括，

塔式筒体1，所述塔式筒体1内设置有平推流工作区2，所述平推流工作区2与所述塔式筒体1底部之间构成气相空间，所述塔式筒体1中心轴位置含有贯穿于所述平推流工作区2的气相通道20。

所述塔式筒体1底部设有返混装置3，所述返混装置3使得从所述平推流工作区2流出的物料依次从出料口11采出。

本实用新型的塔式筒体1，包括，筒形塔身，筒形塔身顶部的上封头和筒形塔身底部的下封头，所述平推流工作区2与所述塔式筒体1顶部之间设有锥形伞板5；如图1所示，箭头表示气体或物料流动方向，具体的，筒形塔身上部设有进料口10，筒形塔身下部的设有出料口11，所述出料口11设置在所述下封头中央位置；物料由设置在塔式筒体1上部的进料口10进入所述塔式筒体内部，沿着锥形伞板5，即物料分布板的上表面呈降膜流下，流经平推流工作区2后进入所述塔式筒体1底部，所述塔式筒体1底部侧壁设有气相出口12，优选的，所述气相出口12设置在所述平推流工作区下方，返混装置上方。一般塔式筒体1下部的下封头为弧形结构，物料进入下封头后无法继续维持平推流运动，存在较严重的返混，本实用新型的返混装置3显著降低了平推流塔式缩聚反应系统塔式筒体1下部物料的返混程度，提高了缩聚反应效率。

进一步的，所述返混装置3包括，

外室套筒30，所述外室套筒30为两端开口的筒状结构，并靠近所述塔式筒体1内侧壁设置，所述外室套筒30的底部周向均匀设有若干槽孔，所述外室套筒30的底端与所述塔式筒体1底壁连接；

内室套筒31，所述内室套筒31为两端开口的筒状结构，设置在所述外室套筒30内，所述内室套筒31底端连接所述塔式筒体1底壁；

优选的，所述外室套筒30和所述内室套筒31分别与所述塔式筒体1中心轴同轴设置。

所述外室套筒30和所述内室套筒31将所述塔式筒体1下部分隔为由所述外室套筒30与所述塔式筒体1内侧壁之间形成的外室、所述外室套筒30与所述内室套筒31之间形成的中室和所述内室套筒31内部形成的内室；所述外室、中室的径向宽度可以根据实际情况调试。所述返混装置3结构简单，易于安装，返混效果显著。具体的，所述外室套筒30设置在下封头上部。

更具体的，如图3所示，所述槽孔302可以是槽型的长孔，所述外室套筒30底端与所述塔式筒体1底壁焊接固定，所述槽孔302使得进入外室物料通过所述槽孔302流入中室，所述槽孔302数量、大小在此不限定，既保证物料顺利由外室流入中室，又可以使得外室套筒30稳固在所述塔式筒体1中就可以；为增加所述外室套筒30的抗震性能，在实际使用过程中，所述外室套筒30上部还要设置若干固定筋303，所述固定筋303可以筋条或筋板，所述固定筋303一端连接所述外室套筒30外侧壁，另一端连接所述塔式筒体1的内侧壁，所述固定筋303可以沿外室套筒30径向均匀设置多个，优选的，所述固定筋沿外室套筒30径向均匀设置4～12个，也可以是沿外室套筒30周向均匀设置3个，所述固定筋303避免所述外室套筒30上部发生晃动，增加外室套筒30的稳定性。所述固定筋303与所述外室套筒30和塔式筒体1侧壁焊接固定。物料在重力作用下流经所述平推流工作区2后进入塔式筒体1下部与外室套筒30之间的外室，经外室套筒30与塔式筒体1之间的夹缝折流进入中室，再从中室溢流进入内室，最后从内室底部采出，利用物料具有一定粘度，进入外室的物料进行堆叠，将上方的物料最先挤入中室，并由中室溢流进入内室，可有效防止物料的返混，提高缩聚反应效率。

进一步的，所述外室套筒30包括，

导流板300，所述导流板300的底部周向均匀设有若干槽孔302，所述导流板300的底端与所述塔式筒体1底壁连接；

引流板301，所述导流板300顶端连接引流板301，所述引流板301将物料引入外室套筒30与塔式筒体1之间形成的空间。

更具体的，所述导流板300的槽孔302上端可以与下封头上端平齐，方便物料在下封头和槽孔302的作用下流入中室，也便于物料堆积将最先流出的物料逐渐挤入中室，然后依次溢流进入内室并采出，有效避免了返混的发生。所述导流板300顶端与所述引流板301底端焊接固定。

更具体的，所述固定筋303可以分别设置在所述导流板300和所述引流板301上，设置在所述导流板300和引流板301上的所述固定筋303可以设置在相同位置，也可以交叉设置。

所述固定筋303的数量可以根据实际所述塔式筒体1的尺寸进行调整。

进一步的，所述引流板301为向所述外室套筒30内部收缩的锥形结构；

优选的，所述引流板301至少遮挡所述外室套筒30与内室套筒31之间的开口；

优选的，所述导流板300顶端高于所述内室套筒31顶端。

本实用新型的引流板301结构简单，可以有效防止物料进入中室或内室，所述导流板300顶端高于所述内室套筒31顶端，不会因为引流板301向内室倾斜对中室溢流的物料有任何遮挡和阻碍，溢流进入内室的物料逐渐由出料口11采出。

进一步的，如图1所示，所述塔式筒体1内设有旋流涂抹装置4，所述旋流涂抹装置4包括，

气相导流筒40，所述气相导流筒40为一端开口的筒状结构，所述气相导流筒40侧壁设有通气口；

旋流涂抹器41，所述气相导流筒40的开口连接所述旋流涂抹器41；

优选的，所述旋流涂抹装置4设置在所述平推流工作区2的下方，返混装置3的上方；

优选的，所述气相导流筒40另一端为向外凸出的锥形或弧形结构。所述通气口连接真空管道，所述真空管道设置在气相出口12中，便于将缩聚反应副产物蒸汽抽出所述塔式筒体1。

本实用新型采用气相导流筒40，一方面为缩聚副产物蒸汽提供一个较大的流经空间，另一方面便于连接真空管道，有针对性的将已经分离物料的缩聚反应副产物蒸汽抽出塔式筒体1。

具体的，所述引流板301的开口直径小于所述旋流涂抹器41直径，使得所述旋流涂抹器41针对内室缩聚副产物蒸汽进行气液分离，分离后的物料沿所述旋流涂抹器41流回塔式筒体1底部，即使回流到外室，分离出来的物料只有少量，不会产生新的返混。

进一步的，如图6所示，所述旋流涂抹器41为中心向所述塔式筒体1底部凸出的锥形结构。

本实用新型的旋流涂抹器41采用锥形结构，可以提高旋流涂抹器41的表面积，增大缩聚反应副产物蒸汽与旋流涂抹器41的接触面积，提高气液分离效率。所述挡板设有若干小孔，增加了气体流动性。

进一步的，如图6所示，所述旋流涂抹器41包括，

内环板410，

外环板412，

叶片411，所述叶片411设置在所述内环板410与外环板412之间；

所述叶片411的径向夹角为5°～30°，叶片411仰角5°～25°，叶片411与内环板410的相交线与内环板410轴线的夹角为5°～70°，叶片411与外环板412的相交线与外环板412轴线的夹角为45°～85°。

优选的，所述内环板410底部中心设有挡板，所述挡板均匀设有若干小孔。

本实用新型采用上述形式的旋流涂抹器41，可以针对不同缩聚反应系统，提供不同的旋流涂抹装置4，增加本实用新型旋流涂抹装置4的应用范围。

进一步的，如图1所示，所述平推流工作区2设有降膜单元21，相邻两层降膜单元21的气相通道20之间存在夹缝，所述夹缝的宽度向所述塔式筒体1底部逐渐增大；

优选的，所述夹缝的宽度为0.5～5cm。

通过上述设计，起初的物料粘度较低粘，为防止物料随副产物蒸汽进入气象通道被真空管道抽出塔式筒体，夹缝宽度设置较小，只有几毫米；随着物料在降膜单元21的平推流动，物料粘度逐渐变高，不会被副产物蒸汽轻易夹带，所以，所述夹缝宽度有上到下逐渐增大，加快缩聚副产物蒸汽的脱挥，缩聚副产物蒸汽通过宽的夹缝进入气相通道被抽出所述塔式筒体。

进一步的，如图1和2和4和5所示，所述降膜单元21包括，

第一塔盘210，所述第一塔盘210外边缘连接所述塔式筒体1侧壁，所述第一塔盘210内边缘连接与气相通道20同轴的第一环形堰板222，所述第一环形堰板222与气相通道20之间存在环形夹缝；

第二塔盘211，所述第二塔盘211外边缘连接与气相通道20同轴的第二环形堰板223，所述第二环形堰板222与所述塔式筒体1侧壁之间存在环形夹缝；

塔盘环板226，所述塔盘环板226一端连接所述第二塔盘211内边缘，另一端向所述塔式筒体1顶部延伸，所述塔盘环板226构成气相通道20；

优选的，所述第一塔盘210靠近所述第一环形堰板222内侧和所述第二塔盘211靠近所述第二环形堰板223内侧均匀设有多个第一导流孔224和第二导流孔225。

优选的，所述降膜单元21设有5～20层。

具体的，相邻的塔盘环板之间存在夹缝，所述夹缝的宽度向所述塔式筒体底部逐渐增大。

物料流入降膜单元21，首先流入第一塔盘210，物料平推流动经第一环形堰板222溢流和第一导流孔224流入第二塔盘211，再从第二塔盘211的第二环形堰板223溢流和第二导流孔225流入下一个降膜单元21，依次降膜。

所述第一环形堰板222延伸至第二塔盘211，所述第二环形堰板223延伸至下一个降膜单元21的第一塔盘210，所述第一环形堰板222和所述第二环形堰板223起到导流作用，本实用新型的塔盘结构相对简单，所述第一导流孔224和第二导流孔225分别设置在所述第一环形堰板222和第二环形堰板223内侧，既可以保证物料在降膜单元21的平推流动距离，也可以使得第一环形堰板222或第二环形堰板223根部无死区，更接近于平推流，流至下一层塔盘。

进一步的，所述塔式筒体1下部周向设有半盘管6；

优选的，设有返混装置3的塔式筒体1外壁周向设有半盘管6。

本实用新型只在塔式筒体1下部设置半盘管6，节省了材料和成本，优选的，设置返混装置3的位置设置半盘管6，有利于防止返混现象，可以根据实际设置半盘管6。

实施例一

如图1所示，一种平推流塔式缩聚反应系统，采用上述缩聚反应系统，其中，所述旋流除沫器设置在塔式筒体1内，所述旋流除沫器外环板412底部高于内环板410顶部形成倒锥形状，内环板410底部中心设有挡板，所述挡板均匀设置通孔，使得缩聚反应蒸汽沿叶片411折流流向外环板412上的气相导流筒40进一步涂抹除沫后，通过气相导流筒40连接的真空管道抽出塔式筒体1。

本实施例中，所述旋流涂抹器41的叶片411径向夹角为30°，叶片411仰角5°，叶片411与内环板410的相交线与内环板410轴线的夹角为70°，叶片411与外环板412的相交线与外环板412轴线的夹角为85°。

本实施例中，所述塔式筒体1中的降膜单元21设置有20层，所述降膜单元21的第二塔盘211连接的塔盘环板226组成气相通道20，上下两层降膜单元21的塔盘环板226之间的狭缝宽度为0.5～2cm，为缩聚副产物蒸汽进入气相管道的气相通道20。

实施效果

将酯化率为98％丁二酸-对苯二甲酸-丁二醇共聚酯化物连续输送至上述平推流塔式缩聚反应器，其中丁二酸-对苯二甲酸-丁二醇共聚酯化物中丁二酸与对苯二甲酸结构单元的摩尔比为1:1，平推流塔式缩聚反应器的反应温度为250℃、反应压力为5kPa，制得的丁二酸-对苯二甲酸-丁二醇酯预聚物的特性粘度为0.50dL/g，缩聚副产物馏分的浊度为80NTU。

实施例二

如图1所示，一种平推流塔式缩聚反应器，采用上述缩聚反应系统，其中，所述旋流除沫器设置在塔式筒体1内，所述旋流除沫器外环板412底部高于内环板410顶部形成倒锥形状，内环板410底部中心设有挡板，所述挡板均匀设置通孔，使得缩聚反应蒸汽沿叶片411折流流向外环板412上的气相导流筒40进一步涂抹除沫后，通过气相导流筒40连接的真空管道抽出塔式筒体1。

本实施例中，所述旋流涂抹器41的叶片411的径向夹角为5°，叶片411仰角25°，叶片411与内环板410的相交线与内环板410轴线的夹角为5°，叶片411与外环板412的相交线与外环板412轴线的夹角为45°。

本实施例中，所述塔式筒体1中的降膜单元21设置有5层，所述降膜单元21的第二塔盘211连接的塔盘环板226组成气相通道20，上下两层降膜组件的塔盘环板226之间的狭缝宽度为2～5cm，为缩聚副产物蒸汽进入气相管道的通道。

实施效果

将酯化率为97％对苯二甲酸乙二醇酯化物连续输送至上述平推流塔式缩聚反应器，其中平推流塔式缩聚反应器的反应温度为280℃、反应压力为3kPa，制得的对苯二甲酸乙二醇酯预聚物的特性粘度为0.21dL/g，缩聚副产物馏分的浊度为130NTU。

以上所述仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专利的技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述提示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型方案的范围内。

Claims (10)

1.一种平推流塔式缩聚反应系统，包括，塔式筒体，所述塔式筒体内设置有平推流工作区，所述平推流工作区与所述塔式筒体底部之间构成气相空间，所述塔式筒体中心轴位置含有贯穿于所述平推流工作区的气相通道，

其特征在于：

所述塔式筒体底部设有返混装置，所述返混装置使得从所述平推流工作区流出的物料依次从出料口采出。

2.根据权利要求1所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：所述返混装置包括，

外室套筒，所述外室套筒为两端开口的筒状结构，并靠近所述塔式筒体内侧壁设置，所述外室套筒的底部周向均匀设有若干槽孔，所述外室套筒的底端与所述塔式筒体底壁连接；

内室套筒，所述内室套筒为两端开口的筒状结构，设置在所述外室套筒内，所述内室套筒底端连接所述塔式筒体底壁。

3.根据权利要求2所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：所述外室套筒包括，

导流板，所述导流板的底部周向均匀设有若干槽孔，所述导流板的底端与所述塔式筒体底壁连接；

引流板，所述导流板顶端连接引流板，所述引流板将物料引入外室套筒与塔式筒体之间形成的空间。

4.根据权利要求3所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：

所述引流板为向所述外室套筒内部收缩的锥形结构。

5.根据权利要求1至4任意一项所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：

所述塔式筒体内设有旋流涂抹装置，所述旋流涂抹装置包括，

气相导流筒，所述气相导流筒为一端开口的筒状结构，所述气相导流筒侧壁设有通气口；

旋流涂抹器，所述气相导流筒的开口连接所述旋流涂抹器。

6.根据权利要求5所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：

所述旋流涂抹器为中心向所述塔式筒体底部凸出的锥形结构。

7.根据权利要求6所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：所述旋流涂抹器包括，

内环板，

外环板，

叶片，所述叶片设置在所述内环板与外环板之间；

所述叶片的径向夹角为5°～30°，叶片仰角5°～25°，叶片与内环板的相交线与内环板轴线的夹角为5°～70°，叶片与外环板的相交线与外环板轴线的夹角为45°～85°。

8.根据权利要求1至4任意一项所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：

所述平推流工作区设有降膜单元，相邻两层降膜单元的气相通道之间存在夹缝，所述夹缝的宽度向所述塔式筒体底部逐渐增大。

9.根据权利要求8所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：所述降膜单元包括，

第一塔盘，所述第一塔盘外边缘连接所述塔式筒体侧壁，所述第一塔盘内边缘连接与气相通道同轴的第一环形堰板，所述第一环形堰板与气相通道之间存在环形夹缝；

第二塔盘，所述第二塔盘外边缘连接与气相通道同轴的第二环形堰板，所述第二环形堰板与所述塔式筒体侧壁之间存在环形夹缝；

塔盘环板，所述塔盘环板一端连接所述第二塔盘内边缘，另一端向所述塔式筒体顶部延伸，所述塔盘环板构成气相通道。

10.根据权利要求1至4任意一项所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：

所述塔式筒体下部周向设有半盘管。

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