CN215644289U - 一种新型的真空灭弧室用触头结构 - Google Patents
一种新型的真空灭弧室用触头结构 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开一种新型的真空灭弧室用触头结构，所述触头包括杯体、触指，所述触指为杯体侧壁开设的螺旋状斜槽，斜槽延伸至触头底部，所述触指相对杯体顶部的倾斜角度不大于22°，触指的首尾旋转角度大于100°；所述杯体内部设置有环状铁磁体，所述铁磁体上开设有竖向槽。本实用新型整体采用杯状纵磁原理，能够满足较短尺寸的装配需求，并且在高度减小的情况下，该触头在开断短路电流时能产生足够强的纵向磁场满足短路电流的开断要求。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空灭弧室领域，具体涉及一种新型的真空灭弧室用触头结构。
背景技术
真空开关具有安全可靠、免维护、健康环保等优点，是中压无油开关的主要发展趋势之一。真空开关的关键部件是真空灭弧室，真空开关的合、分操作是通过位于真空灭弧室外的操动机构使真空灭弧室内的一对对置触头(动、静触头)闭合或分离来完成的。真空灭弧室内部为高真空(≤1X 10-3Pa),当动、静触头在操动机构作用下合闸时，动、静触头闭合，电源与负载接通，电流流过负载。反之当动、静触头在操动机构作用下带电分闸时，触头间产生真空电弧，真空电弧依靠触头上蒸发出来的金属蒸汽维持，直到工频交流电流接近零时，金属蒸汽将接近停止蒸发，同时加上真空电弧的等离子体很快向四周扩散，电弧就被熄灭，触头间隙很快地变为绝缘体，于是电流就被分断。
由于触头的特殊构造，可使电弧均匀分布在触头表面，从而减小电弧能量和触头的电腐蚀速度，并使真空灭弧空具有较高的弧后介质强度恢复速度。因此，触头结构的选择和设计对真空灭弧室乃至真空开关的性能起着决定性的作用。
针对真空灭弧室，目前国内使用最为广泛的是杯状纵向磁场触头结构、杯状横磁触头结构、马蹄形触头结构及万字横磁等触头结构等。但是，此类触头结构高度尺寸较大，当真空灭弧室轴向尺寸要求很短时，无法使用；而万字横磁触头结构，虽高度尺寸不大，但其开断电流过程中对触头表面的烧蚀重，开断次数不易满足数十次的要求。
实用新型内容
为解决上述技术问题的缺陷和不足，本实用新型提供一种新型的真空灭弧室用触头结构，整体采用杯状纵磁原理，能够满足较短尺寸的装配需求，并且在高度减小的情况下，该触头在开断短路电流时能产生足够强的纵向磁场满足短路电流的开断要求。
一种新型的真空灭弧室用触头结构，所述触头包括杯体、触指，所述触指为杯体侧壁开设的螺旋状斜槽，斜槽延伸至触头底部，所述触指相对杯体顶部的倾斜角度不大于22°，触指的首尾旋转角度大于100°；所述杯体内部设置有环状铁磁体，所述铁磁体上开设有竖向槽。
进一步的，所述杯体不高于15mm。
进一步的，所述铁磁体上开设的竖向槽不少于10个。
进一步的，所述触头还设置有杯盖，所述杯盖与杯体适配。
本实用新型的有益效果：在保证性能的情况下，实现产品在轴向方向上的小型化。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为杯体的侧视图；
图3为杯体的俯视图；
图4为触头结构的剖面图；
图中：l-杯体，2-触指，3-铁磁体，4-竖向槽，5-杯盖。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图对本实用新型进行进一步详细说明。
如图1所示，本实用新型提供一种新型的真空灭弧室用触头结构，所述触头包括杯体1、触指2，所述杯体1不高于15mm，所述触指2为杯体1侧壁开设的螺旋状斜槽，斜槽延伸至触头底部，所述触指2相对杯体1顶部的倾斜角度不大于22°，触指2的首尾旋转角度大于100°，能够增加电流路径长度，当电流通过时，达到在两触头之间增强磁场的目的。
所述杯体1内部设置有环状铁磁体3，当电流从触指2流过时，铁磁体3将被磁化，磁化后的铁磁体3产生的磁场与杯体1产生的磁场进行叠加，从而达到在两触头之间增强磁场的目的，铁磁体3上需开不少于10个的竖向槽4，避免涡流和磁滞的产生。
进一步的，所述触头还设置有杯盖5，所述杯盖5与杯体1适配。
在减小触头高度后，通过上述双重增强磁场强度的方法，既能保证在触头直径保持不变的情况下，使触头结构产生足够强的纵向磁场，确保产品性能，又可以使得触头表面有效利用率增大，可获得更高的短路电流开断性能，达到产品在轴向方向上小型化的目的。
当然，本实用新型还可有其它多种实施例，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。
Claims (4)
1.一种新型的真空灭弧室用触头结构，其特征在于：所述触头包括杯体(1)、触指(2)，所述触指(2)为杯体(1)侧壁开设的螺旋状斜槽，斜槽延伸至触头底部，所述触指(2)相对杯体(1)顶部的倾斜角度不大于22°，触指(2)的首尾旋转角度大于100°；所述杯体(1)内部设置有环状铁磁体(3)，所述铁磁体(3)上开设有竖向槽(4)。
2.根据权利要求1所述的新型的真空灭弧室用触头结构，其特征在于：所述杯体(1)不高于15mm。
3.根据权利要求1所述的新型的真空灭弧室用触头结构，其特征在于：所述铁磁体(3)上开设的竖向槽(4)不少于10个。
4.根据权利要求1所述的新型的真空灭弧室用触头结构，其特征在于：所述触头还设置有杯盖(5)，所述杯盖(5)与杯体(1)适配。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202122379215.7U CN215644289U (zh) | 2021-09-29 | 2021-09-29 | 一种新型的真空灭弧室用触头结构 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN215644289U true CN215644289U (zh) | 2022-01-25 |
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ID=79933493
Family Applications (1)
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| CN202122379215.7U Active CN215644289U (zh) | 2021-09-29 | 2021-09-29 | 一种新型的真空灭弧室用触头结构 |
Country Status (1)
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|---|---|
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2021
- 2021-09-29 CN CN202122379215.7U patent/CN215644289U/zh active Active
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