CN215612294U - 一种泥浆选矿筒 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种泥浆选矿筒,涉及泥浆选矿技术领域。本实用新型包括机架和筒体,筒体位于机架的上表面,筒体内部下表面设置有底篦筛,底篦筛上表面设置有下导流罩,下导流罩与底篦筛固定连接,底篦筛下表面设置有精矿管、中矿管和尾矿管。上部支架设有矿浆进料管和喷料管。本实用新型通过设置喷矿管将较轻的矿物泥浆向外缘旋流,通过下部外缘收矿管排出,从而实现选矿目的。上部溢流口仅在底部出现堵塞故障时自动排出,通过设置喷料管可调整喷料口产生的离心力和黏度阻力产生的向心力,可使矿物按密度排列成不同运动轨道,实现流态化沉降,富集回收有用矿物。
Description
技术领域
本实用新型属于泥浆选矿技术领域,特别是涉及一种泥浆选矿筒。
背景技术
矿物泥浆,细粘土与水的混合物,具有乳浆稠度,由于特殊的地理环境,致使泥浆中含有矿物元素。矿砂泥土和水混合而成的流体。
传统的在泥浆中将矿物提取的操作筛选效率导致矿物质回收效率较低且使用完的矿水直接排出没有得到二次利用,为解决上述问题现设计一种泥浆选矿筒能有效的解决传统的在泥浆中将矿物提取的操作筛选效率导致矿物质回收效率较低且使用完的矿水直接排出没有得到二次利用的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种泥浆选矿筒解决传统的在泥浆中将矿物提取的操作筛选效率导致矿物质回收效率较低且使用完的矿水直接排出没有得到二次利用的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型是通过以下技术方案实现的:
本实用新型为一种泥浆选矿筒,包括机架和筒体,所述筒体位于机架的上表面,所述筒体内部下表面设置有底篦筛;
所述底篦筛上表面设置有下导流罩,所述下导流罩与底篦筛固定连接,所述底篦筛下表面设置有精矿管、尾矿管和若干喷框管,所述喷框管、尾矿管和精矿管均与筒体相连通,所述喷框管位于精矿管的周侧面,本机利用水下流体整流原理,将矿浆在圆筒中产生旋回运动,本装置利用矿物密度差,通过离心力和向心力及矿物颗粒重力势能交变运动,矿物按密度产生径向分层,密度大的矿物沿轴心沉降,密度小的矿物依次沿径向至边缘排列并产生沉降,通过容积置换,重的矿物不断下沉,通过底部的喷框管排出,较轻的矿物泥浆向外缘旋流,通过下部外缘收矿管排出,从而实现选矿目的。上部溢流口仅在底部出现堵塞故障时自动排出。
进一步地,所述底篦筛包括安装框和筛网,所述筛网位于安装框内,所述安装框周侧面固定连接有若干外延板。
进一步地,所述外延板与安装框固定连接,所述外延板下表面固定连接有插接柱。
进一步地,所述底篦筛下表面设置有下支架,所述下支架内部设置有插接槽,所述插接柱与插接槽相插接。
进一步地,所述筒体上表面设置有上支架,所述上支架上表面设置有输送管,所述输送管上表面设置进料口。
进一步地,所述上支架两端分别设置有第一溢流槽和第二溢流槽。
进一步地,所述上支架下表面固定连接有上导流罩,所述输送管下表面设置有喷料口,所述喷料口与输送管相连通,所述喷料口位于上导流罩内,通过设置喷料口可调整喷料口产生的离心力和黏度阻力产生的向心力,可使矿物按密度排列成不同运动轨道,实现流态化沉降,富集回收有用矿物。
本实用新型具有以下有益效果:
1、本实用新型通过设置喷框管将较轻的矿物泥浆向外缘旋流,通过下部外缘收矿管排出,从而实现选矿目的。上部溢流口仅在底部出现堵塞故障时自动排出。
2、本实用新型通过设置喷料口可调整喷料口产生的离心力和黏度阻力产生的向心力,可使矿物按密度排列成不同运动轨道,实现流态化沉降,富集回收有用矿物。
当然,实施本实用新型的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型筒体内部结构示意图;
图2为本实用新型底篦筛俯视图;
图3为本实用新型底篦筛前视图。
附图中,各标号所代表的部件列表如下:1、进料口;2、第一溢流槽;3、上导流罩;4、下导流罩;5、精矿管;6、中矿管;7、机架;8、底篦筛;9、喷料口;10、第二溢流槽;11、上支架;12、输送管;13、安装框;14、筛网;15、外延板;16、插接柱;17、下支架;18、插接槽;19、筒体;20、尾矿管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“上”、“中”、“外”、“内”、“下”等指示方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位,以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
请参阅图1-3所示,本实用新型为一种泥浆选矿筒,包括机架7和筒体19,筒体19位于机架7的上表面,筒体19内部下表面设置有底篦筛8;
底篦筛8上表面设置有下导流罩4,下导流罩4与底篦筛8固定连接,底篦筛8下表面设置有精矿管5、尾矿管20和若干中矿管6,中矿管6、尾矿管20和精矿管5均与筒体19相连通,中矿管6位于精矿管5的周侧面,本机利用水下流体整流原理,将矿浆在圆筒中产生旋回运动,本装置利用矿物密度差,通过离心力和向心力及矿物颗粒重力势能交变运动,矿物按密度产生径向分层,密度大的矿物沿轴心沉降,密度小的矿物依次沿径向至边缘排列并产生沉降,通过容积置换,重的矿物不断下沉,通过底部的喷框管6排出,较轻的矿物泥浆向外缘旋流,通过下部外缘收矿管排出,从而实现选矿目的。上部溢流口仅在底部出现堵塞故障时自动排出。
底篦筛8包括安装框13和筛网14,筛网14位于安装框13内,安装框13周侧面固定连接有若干外延板15。
外延板15与安装框13固定连接,外延板15下表面固定连接有插接柱16。
底篦筛8下表面设置有下支架17,下支架17内部设置有插接槽18,插接柱16与插接槽18相插接。
筒体19上表面设置有上支架11,上支架11上表面设置有输送管12,输送管12上表面设置进料口1。
上支架11两端分别设置有第一溢流槽2和第二溢流槽10。
上支架11下表面固定连接有上导流罩3,输送管12下表面设置有喷料口9,喷料口9与输送管12相连通,喷料口9位于上导流罩3内,通过设置喷料口9可调整喷料口9产生的离心力和黏度阻力产生的向心力,可使矿物按密度排列成不同运动轨道,实现流态化沉降,富集回收有用矿物。
本实施例的一个具体应用为:本装置在使用时,首先开机用清水充满筒体19内空间,然后将筒底部各闸阀打开到需要的流量再将磨细的矿砂调浆,砂水比1:3至5,砂浆以一定速度自流或泵入进料口1、喷料管9,产生一定旋流推力使矿浆在筒体19内按规定方向旋转产生离心力,最后矿浆分离出砂浆和泥浆,分别进入精矿管5、中矿管6和泥浆尾矿管20。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上公开的本实用新型优选实施例只是用于帮助阐述本实用新型。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该实用新型仅为所述的具体实施方式。显然,根据本说明书的内容,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本实用新型的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本实用新型。本实用新型仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
Claims (7)
1.一种泥浆选矿筒,包括机架(7)和筒体(19),其特征在于,所述筒体(19)位于机架(7)的上表面,所述筒体(19)内部下表面设置有底篦筛(8);
所述底篦筛(8)上表面设置有下导流罩(4),所述下导流罩(4)与底篦筛(8)固定连接,所述底篦筛(8)下表面设置有精矿管(5)、尾矿管(20)和若干中矿管(6),所述中矿管(6)、尾矿管(20)和精矿管(5)均与筒体(19)相连通,所述中矿管(6)位于精矿管(5)的周侧面。
2.根据权利要求1所述的一种泥浆选矿筒,其特征在于:所述底篦筛(8)包括安装框(13)和筛网(14),所述筛网(14)位于安装框(13)内,所述安装框(13)周侧面固定连接有若干外延板(15)。
3.根据权利要求2所述的一种泥浆选矿筒,其特征在于:所述外延板(15)与安装框(13)固定连接,所述外延板(15)下表面固定连接有插接柱(16)。
4.根据权利要求3所述的一种泥浆选矿筒,其特征在于:所述底篦筛(8)下表面设置有下支架(17),所述下支架(17)内部设置有插接槽(18),所述插接柱(16)与插接槽(18)相插接。
5.根据权利要求1所述的一种泥浆选矿筒,其特征在于:所述筒体(19)上表面设置有上支架(11),所述上支架(11)上表面设置有输送管(12),所述输送管(12)上表面设置进料口(1)。
6.根据权利要求5所述的一种泥浆选矿筒,其特征在于:所述上支架(11)两端分别设置有第一溢流槽(2)和第二溢流槽(10)。
7.根据权利要求5所述的一种泥浆选矿筒,其特征在于:所述上支架(11)下表面固定连接有上导流罩(3),所述输送管(12)下表面设置有喷料口(9),所述喷料口(9)与输送管(12)相连通,所述喷料口(9)位于上导流罩(3)内。
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