CN215494199U - 一种耐磨性优越的湿法增透减反膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,涉及一种采用多层复合结构,提高增透减反膜表面耐磨性的膜体结构,属于光学防护膜领域。提供的一种通过在主体膜表面悬空设置防护膜,防护膜和主体膜之间形成中空填充腔,提高耐磨性的增透减反膜,包括底胶膜、主体膜、防护膜,底胶膜置于主体膜底部,防护膜置于主体膜顶部,主体膜和防护膜之间设置有多个支撑条,支撑条和主体膜一体成型,能够在主体膜上方形成悬空防护,提高主体膜的耐磨性。
Description
技术领域
本实用新型提供一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,涉及一种采用多层复合结构,提高增透减反膜表面耐磨性的膜体结构,属于光学防护膜领域。
背景技术
目前,在光学设备中,通常会在采光面贴附膜体,以保证光线的采集,例如增透减反膜,通过将外部光线导入,减少反光形成光线噪点,此外还有玻璃上的贴膜,增加采光,又需要防止反射光线影响路面或其他环境,现有的膜体主要直接贴附在表面,表面缺少防护结构,在长期使用过程中,随着空气中的灰尘摩擦、或者颗粒物的摩擦,会导致膜体表面划伤磨损,整体耐磨性差,膜体的耐磨通过膜体本身性能体现,不能够形成而外的物理防护。
公开号CN209525477U公开了一种耐磨超韧增透膜,包括含有多层结构的膜主体,所述膜主体内部包括防护膜层、纳米涂层、室温固化膜、增透膜层和基材,所述增透膜层位于基材上方,所述增透膜层上方设置有室温固化膜、所述室温固化膜上方设置有纳米涂层,所述纳米涂层上方设置有防护膜层,所述防护膜层上表面为波浪纹状结构,所述防护膜层为PET膜,其内部含有氧化硅微粒,氧化硅微粒直径为20nm~100nm,所述纳米涂层为Tio2树脂涂层、Sno2树脂涂层中的其中一种或多种构造的结构,所述室温固化膜为厚度在30nm~0.6mm之间的高分子膜料,其内部含有氧化硅微粒,氧化硅微粒直径为20nm~100nm,上述结构通过在膜体表面形成微观的防护结构,即依托膜体本身的防护,当局部磨损严重,需要整体进行更换,且磨损情况不能够直接进行判断,不无法对膜体进行物理防护。
实用新型内容
本实用新型一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,提供的一种通过在主体膜表面悬空设置防护膜,防护膜和主体膜之间形成中空填充腔,提高耐磨性的增透减反膜。结构简单,使用方便。
本实用新型一种耐磨性优越的湿法增透减反膜是这样实现的,本实用新型一种耐磨性优越的湿法增透减反膜:包括底胶膜、主体膜、防护膜,底胶膜置于主体膜底部,防护膜置于主体膜顶部,主体膜和防护膜之间设置有多个支撑条,支撑条和主体膜一体成型;
防护膜为透明石英膜,支撑条为网格状,防护膜、主体膜之间形成多个独立的填充腔;
所述支撑条间隔5-8cm;
所述支撑条截面为梯形结构,支撑条高度为3-5mm;
所述底胶膜厚度为0.1-0.3mm;
所述防护膜厚度为1-1.5mm;
所述填充腔内填充有凝胶。
有益效果:
一、能够在主体膜上方形成悬空防护,提高主体膜的耐磨性;
二、中部填充腔能够填充需要材质,增加膜体的功能;
三、结构简单,使用方便。
附图说明
图1为本实用新型一种耐磨性优越的湿法增透减反膜的结构示意图。
图2为本实用新型一种耐磨性优越的湿法增透减反膜主体膜的立体结构图。
附图中:
1、底胶膜;2、主体膜;3、支撑条;4、防护膜;5、填充腔。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型进一步说明。
根据图1-2所示:本实用新型一种耐磨性优越的湿法增透减反膜是这样实现的,本实用新型一种耐磨性优越的湿法增透减反膜:包括底胶膜1、主体膜2、防护膜4,底胶膜1置于主体膜2底部,防护膜4置于主体膜2顶部,主体膜2和防护膜4之间设置有多个支撑条3,支撑条3和主体膜2一体成型;
防护膜4为透明石英膜,支撑条3为网格状,防护膜4、主体膜2之间形成多个独立的填充腔5;
所述支撑条3间隔5-8cm,能够通过支撑条3在主体膜2表面形成多个独立填充腔,使得防护膜4悬置于主体膜2上,形成防护缓冲,提高整体耐磨性;
所述支撑条3截面为梯形结构,支撑条3高度为3-5mm;
所述底胶膜1厚度为0.1-0.3mm;
所述防护膜4厚度为1-1.5mm;
所述填充腔5内填充有凝胶,能够在防护膜4和主体膜2之间形成填充结构,通过凝胶结构,对光线进行导入,避免光线的反射。
使用时,通过底胶膜1将主体膜2辅助在平面上,通过防护膜4在表面形成防护,支撑条3和防护膜4形成填充腔5能够对光线进行过滤,减少反射,同时在填充腔5内填充的凝胶能够提高光线折射穿透,通过表面的防护膜4提高整体的寿命,达到耐磨的目的。
以上对本实用新型及其实施方式进行了描述,这种描述没有限制性,附图中所示的也只是本实用新型的实施方式之一,实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示,在不脱离本实用新型创造宗旨的情况下,不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例,均应属于本实用新型的保护范围。
Claims (7)
1.一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,其特征在于:包括底胶膜(1)、主体膜(2)、防护膜(4),底胶膜(1)置于主体膜(2)底部,防护膜(4)置于主体膜(2)顶部,主体膜(2)和防护膜(4)之间设置有多个支撑条(3),支撑条(3)和主体膜(2)一体成型。
2.根据权利要求1所述的一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,其特征在于:所述防护膜(4)为透明石英膜,支撑条(3)为网格状,防护膜(4)、主体膜(2)之间形成多个独立的填充腔(5)。
3.根据权利要求1所述的一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,其特征在于:所述支撑条(3)间隔5-8cm。
4.根据权利要求1所述的一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,其特征在于:所述支撑条(3)截面为梯形结构,支撑条(3)高度为3-5mm。
5.根据权利要求1所述的一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,其特征在于:所述底胶膜(1)厚度为0.1-0.3mm。
6.根据权利要求1所述的一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,其特征在于:所述防护膜(4)厚度为1-1.5mm。
7.根据权利要求2所述的一种耐磨性优越的湿法增透减反膜,其特征在于:所述填充腔(5)内填充有凝胶。
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2021
- 2021-08-12 CN CN202121888122.0U patent/CN215494199U/zh active Active
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