CN215447443U - 用于炼镁炉的喷嘴装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于炼镁炉的喷嘴装置，所述用于炼镁炉的喷嘴装置包括喷嘴主管、多个喷嘴支管和多个挡板，喷嘴主管内适于通入含镁原料，喷嘴支管弯曲延伸，喷嘴支管的一端与喷嘴主管的一端连通，喷嘴支管的另一端伸入适于炼镁炉内的熔体内，且多个喷嘴支管在喷嘴主管的周向上间隔布置挡板设于喷嘴支管的另一端，以对喷嘴支管喷出的含镁原料进行分流，多个挡板与多个喷嘴支管对应连接。本实用新型实施例的用于炼镁炉的喷嘴装置可以使含镁原料更加均匀地分布于炼镁炉中，以提高生产效率。

Description

用于炼镁炉的喷嘴装置

技术领域

本实用新型涉及炼镁技术领域，具体地，涉及一种用于炼镁炉的喷嘴装置。

背景技术

制备金属镁的系统中的喷枪位于感应电炉内部，贯穿密闭室并插入粉料入口与锻白料仓相连，喷枪从感应电炉底部和/或顶部垂直于水平方向插入粉料入口，和/或从感应电炉侧部沿与水平方向夹角不大于10度的方向插入所述粉料入口，目的是通过喷枪向感应电炉喷吹锻白和氩气。

但是，相关技术中的喷枪喷吹出气泡较大，且喷吹气泡容易聚团，导致喷吹到高温熔体的锻白分布不均匀，生产效率低。

实用新型内容

本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。

为此，本实用新型的实施例提出一种用于炼镁炉的喷嘴装置，所述用于炼镁炉的喷嘴装置喷出的炼镁原料可以更均匀的分布于炼镁炉中，生产效率高。

根据本实用新型实施例的用于炼镁炉的喷嘴装置包括：喷嘴主管，所述喷嘴主管内适于通入含镁原料；多个喷嘴支管，所述喷嘴支管弯曲延伸，所述喷嘴支管的一端与所述喷嘴主管的一端连通，所述喷嘴支管的另一端伸入适于炼镁炉内的熔体内，且多个所述喷嘴支管在所述喷嘴主管的周向上间隔布置；多个挡板，所述挡板设于所述喷嘴支管的另一端，以对所述喷嘴支管喷出的含镁原料进行分流，多个所述挡板与多个所述喷嘴支管对应连接。

根据本实用新型实施例的用于炼镁炉的喷嘴装置，通过设置多个沿喷嘴主管的周向间隔布置并与喷嘴主管连通的喷嘴支管，且喷嘴支管弯曲延伸，喷嘴支管的喷射端设有挡板，喷嘴支管喷出的含镁原料可以形成旋转流，以带动炼镁炉内的熔体旋转，从而加剧溶体的搅动作用，迫使原料气泡破碎，并利用挡板对喷射出的含镁原料进行分流，进一步提高含镁原料与熔体的接触面积，使含镁原料可以更加均匀地分布于炼镁炉中，以提高生产效率。

在一些实施例中，所述挡板垂直于所述喷嘴支管的另一端的端面，且在所述喷嘴支管的径向上，所述喷嘴支管的另一端位于所述挡板一侧的端面与所述喷嘴支管的另一端位于所述挡板另一侧的端面关于所述挡板对称。

在一些实施例中，所述喷嘴主管为圆管，所述喷嘴主管的直径为D，所述喷管支路的直径为d，满足d＜D。

进一步地，0.2≤d/D≤0.4.

优选地，90mm≤D≤110mm。

优选地，22mm≤d≤36。

在一些实施例中，所述喷嘴支管的一端到所述喷管支路的另一端的距离为L，满足210mm≤L≤240mm。

在一些实施例中，所述喷嘴支管的弧度为R，满足0.7rad≤R≤0.9rad。

附图说明

图1是根据本实用新型实施例的用于炼镁炉的喷嘴装置的结构示意图。

图2是根据本实用新型实施例的用于炼镁炉的喷嘴装置的剖视图。

附图标记：

用于炼镁炉的喷嘴装置1；

喷嘴主管10；

喷嘴支管20；

挡板30。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

如图1-图2所示，根据本实用新型实施力的用于炼镁炉的喷嘴装置1包括喷嘴主管10、多个喷嘴支管20和多个挡板30。

如图1和图2所示，喷嘴主管10内适于通入含镁原料，喷嘴支管20弯曲延伸，且喷嘴支管20的一端与喷嘴主管10的一端连通，喷嘴支管20的另一端适于伸入炼镁炉内的熔体内。如图1所示，喷嘴主管10为竖直安装的直管，喷嘴支管20与喷嘴主管10的下端连通，喷嘴支管20为弧形管，含镁原料通过喷嘴主管10和喷嘴支管20通入至炼镁炉内的熔体内，以持续为炼镁炉供料，需要说明的是，喷嘴支管20喷出的含镁原料以气泡的形式进入熔体内，且伴随着气泡的破碎，含镁原料可以与熔体融合。

多个喷嘴支管20在喷嘴主管10的周向上间隔布置。具体地，如图1和图2所示，喷嘴支管20的内端与喷嘴主管10连通，喷嘴支管20的外端向熔体内喷射含镁原料，多个喷嘴支管20均沿逆时针喷射，以沿喷嘴支管20外端的切线方向形成旋转流，迫使熔体旋转流动，从而加剧熔体的搅动作用。可以理解的是，多个喷嘴支管20不限于沿逆时针喷射，例如，多个喷嘴支管20还可以沿顺时针喷射。

挡板30设于喷嘴支管20的另一端，以对喷嘴支管20喷出的含镁原料进行分流，多个挡板30与多个喷嘴支管20对应连接。如图1和图2所示，挡板30连接在喷嘴支管20的外端，以在喷嘴支管20喷射含镁原料时，利用挡板30改变喷射方向和流量，进一步切割气泡。

根据本实用新型实施例的用于炼镁炉的喷嘴装置，通过设置多个沿喷嘴主管的周向间隔布置并与喷嘴主管连通的喷嘴支管，且喷嘴支管弯曲延伸，喷嘴支管的喷射端设有挡板，喷嘴支管喷出的含镁原料可以形成旋转流，以带动炼镁炉内的熔体旋转，从而加剧溶体的搅动作用，迫使原料气泡破碎，并利用挡板对喷射出的含镁原料进行分流，进一步提高含镁原料与熔体的接触面积，使含镁原料可以更加均匀地分布于炼镁炉中，以提高生产效率。

在一些实施例中，如图1和图2所示，挡板30垂直于喷嘴支管20的另一端的端面，且在喷嘴支管20的径向上，喷嘴支管20的另一端位于挡板30一侧的端面与喷嘴支管20的另一端位于挡板30另一侧的端面关于挡板30对称。由此，挡板可以对喷嘴支管喷射的含镁原料进行均匀分流，从而使喷射形成的旋转流更加稳定，以使含镁原料与熔体充分交融。

在一些实施例中，如图2所示，喷嘴主管10为圆管，喷嘴主管10的直径为D，喷管支路的直径为d，则d＜D。可以理解的是，含镁原料从喷嘴主管10流入喷嘴支管20时，相对较细的喷嘴支管20可以起到节流的作用，从而增大喷射速度，有利于喷射出的原料形成旋转流，且喷射出的含镁原料冲击力更大，更利于含镁原料与熔体的碰撞和融合。

进一步地，0.2≤d/D≤0.4。此时，喷嘴支管20喷射出的含镁原料可以形成稳定的旋转流，原料气泡小且更易破碎，含镁原料在炼镁炉内分布更加均匀。

进一步地，90mm≤D≤110mm。例如，D可以为90mm、95mm、100mm、105mm或110mm。可以理解的是，根据炼镁炉型号的不同，可以合理设置D的数值，以在完成供料的同时，降低对炼镁炉内空间的占用量。

进一步地，22mm≤d≤36。例如，d可以为22mm、25mm、30mm、34mm或36mm。具体地，可以根据喷嘴主管10的直径D的大小和炼镁炉的型号，合理设置d的数值，以在形成稳定的旋转流的同时，控制喷嘴支管的最大喷射范围，使熔体的搅拌作用主要集中在炼镁炉的中央区域，避免对炼镁炉外壁冲击过大。

在一些实施例中，如图2所示，喷嘴支管20的一端到喷管支路的另一端的距离为L，满足210mm≤L≤240mm。例如，L可以为210mm、220mm、230mm或240mm，可以理解的是，L越大，喷嘴支管20喷射形成的旋转流的范围越大，且旋转流带动熔体运动的范围也越大，含镁原料更易于均匀分布在炼镁炉内，但考虑到熔体运动对炼镁炉外壁的冲击，可以根据炼镁炉的型号合理设置L的数值，以在对炼镁炉外壁冲击不大的情况下，提高含镁原料分布的均匀性。

在一些实施例中，如图2所示，喷嘴支管20的弧度为R，满足0.7rad≤R≤0.9rad。由此，通过设置R为合理的数值，可以提高喷嘴支管喷射形成的旋转流的稳定性，并控制喷射范围，以在提高含镁原料分布的均匀性的同时，避免对炼镁炉的外壁产生较大的冲击。

下面参考图1-图2描述根据本实用新型的一个具体示例的用于炼镁炉的喷嘴装置1。

如图1-图2所示，根据本实用新型实施例的用于炼镁炉的喷嘴装置1包括喷嘴主管10、六个喷嘴支管20和六个挡板30，喷嘴主管10和喷嘴支管20均为圆管，且喷嘴支管20弯曲延伸，喷嘴主管10竖直插入炼镁炉内，喷嘴支管20连接在喷嘴主管10的下端，六个喷嘴支管20沿喷嘴主管10的周向间隔布置，六个喷嘴支管20均沿逆时针喷射，每个喷嘴支管20的外端连接有一个挡板30，挡板30垂直于喷嘴支管20的外端面且外端面关于挡板30对称。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本实用新型中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本实用新型的限制，本领域的普通技术人员在本实用新型的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (8)

1.一种用于炼镁炉的喷嘴装置，其特征在于，包括：

喷嘴主管，所述喷嘴主管内适于通入含镁原料；

多个喷嘴支管，所述喷嘴支管弯曲延伸，所述喷嘴支管的一端与所述喷嘴主管的一端连通，所述喷嘴支管的另一端伸入适于炼镁炉内的熔体内，且多个所述喷嘴支管在所述喷嘴主管的周向上间隔布置；

多个挡板，所述挡板设于所述喷嘴支管的另一端，以对所述喷嘴支管喷出的含镁原料进行分流，多个所述挡板与多个所述喷嘴支管对应连接。

2.根据权利要求1所述的用于炼镁炉的喷嘴装置，其特征在于，所述挡板垂直于所述喷嘴支管的另一端的端面，且在所述喷嘴支管的径向上，所述喷嘴支管的另一端位于所述挡板一侧的端面与所述喷嘴支管的另一端位于所述挡板另一侧的端面关于所述挡板对称。

3.根据权利要求1所述的用于炼镁炉的喷嘴装置，其特征在于，所述喷嘴主管为圆管，所述喷嘴主管的直径为D，所述喷管支路的直径为d，满足d＜D。

4.根据权利要求3所述的用于炼镁炉的喷嘴装置，其特征在于，0.2≤d/D≤0.4.

5.根据权利要求4所述的用于炼镁炉的喷嘴装置，其特征在于，90mm≤D≤110mm。

6.根据权利要求5所述的用于炼镁炉的喷嘴装置，其特征在于，22mm≤d≤36。

7.根据权利要求1所述的用于炼镁炉的喷嘴装置，其特征在于，所述喷嘴支管的一端到所述喷管支路的另一端的距离为L，满足210mm≤L≤240mm。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的用于炼镁炉的喷嘴装置，其特征在于，所述喷嘴支管的弧度为R，满足0.7rad≤R≤0.9rad。

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