CN215388624U - 一种电离处理气体的系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种电离处理气体的系统,其中的电离处理气体的系统包括:至少两个沿气体流向排布的电场电离单元,其中,电场电离单元通过产生的电场用于对气体进行电离处理,一个电场电离单元对气体进行电离处理后,改变与该电场电离单元相邻的且位于其下游的电场电离单元进行电离处理的电离环境,由此使得对气体进行分次电离,让上一次电离处理后,改变下一次电离处理的电离环境,从而能让下次电离处理实现与上一次电离处理的气体组分不同的其他气体组分的有效电离处理。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种电离处理气体的系统。
背景技术
气体受到电场或热能的作用,就会使中性气体原子中的电子获得足够的能量,以克服原子核对它的引力而成为自由电子,同时中性的原子或分子由于失去了带负电荷的电子而变成带正电荷的正离子:这种使中性的气体分子或原子释放电子形成正离子的过程叫做气体电离。
根据上述,不同的气体组分,具有不同的电离能,理论上,可以利用不同气体组分的电离能,通过电场作用,针对性地破坏一些的气体组分的键能,使得气体中的这些气体组分被去除。
然而,现实中,通过对气体进行电离处理,借助不同的电离能这种去除气体中一些气体组分的方式,实际中并没有应用,例如:对于汽车排放以及一些工业生产排放等污染气体中,经常含有例如CO以及VOC等有害物质,目前对于含有这些有害气体组分的气体,一般采用化学、物理吸附以及燃烧加热等方式处理;而气体电离,一般是用于静电除尘中,用于使得粉尘等颗粒物荷电,从而在电场作用下让粉尘等颗粒物与气流分离,从而去除污染气体中夹杂的粉尘等颗粒物。
实用新型内容
本实用新型提供一种电离处理气体的系统、及其应用以及方法,通过对气体进行分次电离,让上一次电离处理后,改变下一次电离处理的电离环境,从而能让下次电离处理实现其他物质组成的有效电离处理,这个其他物质组成,是指与上一次电离处理的针对的物质组成不同的物质组成。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
本实用新型的一个目的是提供一种电离处理气体的系统,用于对气体进行分次电离处理,包括:至少两个沿气体流向排布的电场电离单元,其中,电场电离单元通过产生的电场用于对气体进行电离处理,一个电场电离单元对气体进行电离处理后,改变与该电场电离单元相邻的且位于其下游的电场电离单元进行电离处理的电离环境,优选地,改变的电离环境至少包括对气体含有的气体组分和/或气体组分含量的改变。
本实用新型提供的系统,还具有如下的特征:其中,各个电场电离单元分别用于对不同的物质组成进行电离处理。
本实用新型提供的系统,还具有如下的特征:其中,电场电离单元为两个,气体中含有O2和CO两种气体组分,位于气体走向的上游的电场电离单元用于对O2进行电离处理,位于气体走向的下游的电场电离单元用于对CO进行电离处理。
本实用新型提供的系统,还具有如下的特征:其中,电场电离单元具有:气体入口,供待进行电离处理的气体进入;处理腔,接收并容纳从气体入口进入的气体;两个电极,用于在处理腔内产生电场而对进入处理腔的气体进行电离处理;以及气体出口,供进行电离处理后的气体从处理腔排出。
本实用新型提供的系统,还具有如下的特征:其中,两个电极中的一个电极设置有阻挡介质的电极,用于产生介质阻挡放电而与另一个电极形成电场。
本实用新型提供的系统,还具有如下的特征,还包括:第一脱除装置,至少一个第一脱除装置沿气体流向设置在至少一对相邻的两个电场电离单元之间,第一脱除装置用于对该两个电场电离单元中位于上游的电场电离单元进行电离处理后的气体中的第一特定物质进行第一脱除处理,其中,第一特定物质至少包括以下物质:该物质不利于一对相邻的两个电场电离单元中位于下游的电场电离单元进行电离处理的处理效率和/或处理能耗。
本实用新型提供的系统,还具有如下的特征,还包括:第二脱除装置,至少一个第二脱除装置设置在位于最下游的电场电离单元后,用于对该电场电离单元进行电离处理后的气体中的第二特定物质进行第二脱除处理,其中,第二脱除物质包括有害物质。
本实用新型提供的系统,还具有如下的特征,还包括:颗粒物去除装置,设置在至少一个电场电离单元之前,用于对进入电场电离单元之前的气体进行颗粒物去除处理。
本实用新型提供的系统,还具有如下的特征,还包括:除水装置,设置在至少一个电场电离单元之前,用于对进入电场电离单元之前或进入颗粒物去除装置之前的气体进行除水处理。
本实用新型提供的系统,还具有如下的特征,还包括:控制单元,用于控制各个电场电离单元分别根据设定的电离参数进行电离处理。
本实用新型提供的系统,还具有如下的特征:控制单元包括气体组分检测模块以及控制模块,气体组分检测模块用于检测每一个电场电离单元进行电离处理前和/或电离处理后的包括气体的组分以及组分含量的气体条件,控制模块根据检测单元检测得到气体条件,控制设定各个电场电离单元的电离参数,并控制各个电场电离单元根据各自相应的电离参数进行电离处理。
本实用新型还提供一种电离处理气体的系统能在治理废气中的应用。
本实用新型对应一种处理气体的方法,其特征在于,包括:对气体进行至少两次电离处理,其中,通过对气体进行上一次电离处理,改变进行下一次电离处理的电离环境。
本实用新型对应的方法,还具有如下的特征:其中,改变的电离环境至少包括对气体含有的气体组分和/或气体组分含量的改变。
本实用新型对应的方法,还具有如下的特征:其中,不同次的电离处理分别用于对不同的物质组成进行电离处理。
本实用新型对应的方法,还具有如下的特征:其中,电离处理为两次,气体中含有O2和CO两种气体组分,上一次电离处理用于对O2进行电离处理,下一次电离处理用于对CO进行电离处理。
本实用新型对应的方法,还具有如下的特征,还包括:第一脱除处理,电离处理顺序相邻的两次电离处理之间进行至少一次第一脱除处理,至少一次第一脱除处理用于脱除该两次电离处理中经上一次电场处理后的气体中的第一特定物质,其中,第一特定物质至少包括以下物质:该物质不利于电离处理顺序相邻的两次电离处理中的下一次电离处理的处理效率和/或处理能耗。
本实用新型对应的方法,还具有如下的特征,还包括:第二脱除处理,最后一次电离处理后再进行至少一次第二脱除处理,该至少一次第二脱除处理用于对该最后一次电离处理后的气体中的第二特定物质进行脱除,其中,第二特定物质包括有害物质。
本实用新型对应的方法,还具有如下的特征,还包括:颗粒物去除处理,在对气体进行至少两次电离处理之前,对气体进行颗粒物去除处理。
本实用新型对应的方法,还具有如下的特征,还包括:除水处理,在对气体进行至少两次处理之前,对气体进行除水处理。
本实用新型提供的电离处理气体的系统,能实现对气体进行分次电离,使得上一次电离处理后,改变下一次电离处理的电离环境,特别是,改变的电离环境至少包括对气体含有的气体组分和/或气体组分含量的改变,从而能让下一次电离处理实现对其他物质组成的有效电离处理,所以可以根据待处理气体中含有的气体组分、气体组分含量、湿度以及温度中的一种或多种,沿气体走向,进行分别适宜不同气体条件的电离处理,以使得上一次电离处理后,能让紧接的下一次电离处理实现对其他物质组成的有效电离处理,更优地,可以实现对与上一次电离处理针对的气体组分不同的其他气体组分的真正有效的电离处理。
附图说明
图1为本实用新型涉及的电离处理气体的系统的结构框图示意图;
图2为本实用新型涉及的电场电离单元的结构示意图。
具体实施方式
以下具体说明本实用新型的具体实施方式。
以下实施例中所使用的方法如无特殊说明,均为常规方法;所使用的材料、试剂等,如无特殊说明,均可从商业途径获得。
以下实施例是为了对本实用新型涉及的电离处理气体的系统、及其应用以及方法。
以下实施例中,气体走向即指从接受气体,到进行进行处理,再到气体排出的走向,上游即指在气体走向上相对靠近接受气体,下游即指在气体走向上相对靠近气体排出。
本申请中的气体,包括至少两种气体组分的气体,例如来自燃烧碳氢物质所产生的气体,例如,农作物秸秆及生活垃圾等燃烧产生的废气、车船尾气、发电厂锅炉、钢铁厂烧结机产生的废气,焊接废气、喷漆废气、化工厂排气、炼油厂排气等等。
而本申请中的气体组分,指气体中含有的各种物质,例如CO(一氧化碳)、O2(氧气)等这种通常的气体分子,还有例如氧离子、水汽等;
而气体组分含量,指某种物质在气体中所占的量,例如O2的质量浓度、或体积浓度、或摩尔浓度等,又例如O2的质量百分比、或体积百分比、或物质的量比。
不同的物质组成,是指物质组成分别含有的气体组分、气体组分含量完全不同或者不完全相同,例如物质组成(1)中含有气体组分5%A、气体组分20%B、气体组分75%C;物质组成(2)中含有气体组分50%E、气体组分50%F;物质组成(3)含有气体组分5%A、气体组分95%B;物质组成(4)中含有气体组分5%A、气体组分95%G;物质组成(5)中含有气体组分5%A、气体组分20%B、气体组分70%C、气体组分5%H;物质组成(6)中含有气体组分15%A、气体组分10%B、气体组分75%C。
那么,上述的物质组成(1)、物质组成(2)、物质组成(3)、物质组成(4)、物质组成(5)以及物质组成(6),相互之间都为不同的物质组成。
实施例
本实用新型提供的一种电离处理气体的系统,通过对气体进行分次电离,使得上一次电离处理后,改变下一次电离处理的电离环境,从而能让下一次电离处理实现对其他气体组分的电离处理。
图1为本实用新型涉及的电离处理气体的系统的结构框图示意图。
具体地,如图1所示,本实用新型提供的电离处理气体的系统100,用于对气体进行分次电离处理,包括:至少两个沿气体流向排布电场电离单元10。
电场电离单元10通过产生的电场,也即产生电离能,从而用于对气体进行电离处理。
图2为本实用新型涉及的电场电离单元的结构示意图。
如图2所示,在一示例中,本实用新型的电场电离单元10具有供待进行电离处理的气体进入的气体入口11、接收并容纳进入的气体的处理腔12、用于在处理腔12内产生电场而对气体进行电离处理的两个电极13a和13b,以及让进行电离处理后的气体排出的气体出口14,两个电极13a和13b分别接电源的正负极。本实施例中,处理腔12即为电极13b。
两个电极13a和13b中的一个电极,例如电极13a可以为设置有阻挡介质的电极,产生介质阻挡放电,此时与另一电极13b形成介质阻挡电场。
阻挡介质包括但不限于:绝缘介质、气体中的一种,绝缘介质包括但不限于:陶瓷、石英、特氟龙涂层、搪瓷、云母、玻璃等中的至少一种。
于本实用新型的一实施例中,无绝缘介质作为电极阻挡介质时,使用气体作为电极阻挡介质,电场放电极放电处于气体中。
在一示例中,电场电离单元的通电电源采用高压电源。
在一示例中,电场电离单元的通电电源采用高频高压交流电源。
在一示例中,电场电离单元的通电电源采用直流电源。
图1中,箭头方向指气体流向,在该图中,具有两个电场电离单元10,为便于区分和描述,将第一个电场电离单元标记为10a,与该电场电离单元10a相邻、且位于其下游的电场电离单元标记为10b,沿气体方向,电场电离单元10a进行的电离处理相对于电场电离单元10b进行的电离处理称为上一次电离处理,而电场电离单元10b进行的电离处理就是下一次电离处理。
本实用新型中,一个电场电离单元10进行电离处理后,改变与该电场电离单元10相邻,且位于该电场电离单元10下游的电场电离单元10进行电离处理的电离环境,本实用新型中的电离环境指电场电离条件待处理的气体条件,包括但不限定待处理气体的组分、组分含量(例如含氧量、离子浓度)、湿度、温度等。其中,优选地,改变的电离环境至少包括对气体含有的气体组分和/或气体组分含量的改变。
具体地,如图1中所示:气体经过电场电离单元10a进行电离处理(上一次电离处理)后,使得该气体的以下气体条件:气体的组分、组分含量(例如含氧量、离子浓度)、湿度以及温度中的一种或多种已经被改变,从而让电场电离单元10b进行电离处理(下一次电离处理)的气体的气体条件已经与电场电离单元10a进行电场电离处理的气体不同,也即气体条件被改变。
由此,可以根据待处理气体中含有的气体组分、湿度以及温度中的一种或多种,沿气体走向,配置分别适宜不同气体条件的各个电场电离单元10,以使得每次电离处理后,能让下一次电离处理实现对其他气体组分的电离处理,比如,当气体组分中含有O2和CO,当想将CO通过电离去除,如果按照常规技术,开始就对CO进行电离处理,是很难实现有效地对CO进行电离处理,而本申请人发现,如果此时分两次进行电离处理,上一次先针对O2进行电离处理,O2至少会被大部分去除,这样,改变了下一次电离处理的气体条件,此时,下一次电离处理针对CO进行电离处理,就能有效实现对CO的电离处理。又比如,当上一次电离处理中,产生了水,则气体条件中的湿度也被改变,进行下一次电离处理的电离单元10,就需要适宜湿度改变的气体条件。
而在一示例中,各个电场电离单元10分别用于对不同的物质组分进行电离处理,为此,各个电场电离单元10的结构(例如作为放电的电极的有效长度)、电离参数等被配置为对不同的物质组分进行电离处理,例如本实施例中,电场电离单元10a被配置为主要是针对由O2的物质组成进行电离处理,而电场电离单元10b被配置为主要是针对由CO组成的物质组成进行电离处理,这样,通过每次电离处理针对的物质组成不同,使得上一次电离处理后,下一次电离处理的气体的组分(例如上一次电离处理中已经将O2去除)或组分含量(例如气体组分含量、离子浓度,例如下一次电离处理中O2的浓度极低)被改变,从而能在下一次电离处理实现与上一次电离处理不一样的气体组分的电离处理,比如,本实施例中,由此,实现了上一次电离处理针对的是O2,下一次电离处理针对的是对CO的电离处理。在这里,每次电离处理的针对物质组成中仅有一种气体组分,而实际中,可以根据气体中的气体组分、气体组分的含量、湿度和温度,以及电离能等,有的电离处理针对的物质组成中可以含有多种气体组分,也即同时针对多种气体组分或气体组分相同进行电离处理;而有时,不同电离处理之间,物质组成的不同,仅仅是气体组分含量的不同,例如一个电离处理同时对10%的氧气以及60%的氮气进行电离处理,而另一个电离处理同时对15%的氧气以及5%的氮气进行电离处理。总之,如前述的各种不同的物质组成皆可能,实际中根据实际情况进行即可,这里不再一一列举。
另外,本实施例的电离处理气体的系统100,还包括:第一脱除装置20,至少一个脱除装置沿气体流向设置在至少一对相邻的两个电场电离单元10之间,对于本实施例而言,第一脱除装置20一个,设置在电场电离单元10a和电场电离单元10b之间。
第一脱除装置10用于对该两个电场电离单元10中位于上游的电场电离单元10进行电离处理后的气体中的第一特定物质进行第一脱除处理,第一特定物质至少包括以下物质:该物质不利于一对相邻的两个电场电离单元中位于下游的电场电离单元进行电离处理的处理效率和/或处理能耗。处理效率,即某个气体组分能有效被电离处理的量,例如,能有效电离处理95%的CO;处理能耗,即进行电离处理需要的电功率,例如18KW的电功率。
第一脱除处理的方式可以物理方法、化学方法,物理方法包括但不限于:分子筛吸附、电吸附、膜过滤、分层筛分、变压变相分离、变温变相分离、溶解、黏附析出等等,化学方法包括但不限于:中和反应、水溶解反应、催化方法、聚合反应、络合反应、氧化消耗、分解消耗、热解反应、光解反应以及电解反应等。具体中,根据需要脱除的物质的组分特性,选择适宜的方法。
以本实施例为例,也即第一脱除装置20对电场电离单元10a进行电离处理后的气体中,含有的第一特定物质进行脱除处理,而该第一特定物质至少包括这样的物质:不利于位于电场电离单元10a下游的且与其相邻的电场电离单元10b进行电离处理的处理效率和/或处理能耗,也即将前一次电离处理后的气体中存在的不利于后一次电离处理的物质脱除,脱除的方式可以采用水洗的方式。
例如本实施例中,对于含有O2和CO两种气体组分的气体进行电离处理,通过电场电离单元10a对O2进行电离处理,会产生大量的臭氧,为了避免产生的臭氧对电场电离单元10b的处理效率和/或处理能耗的影响,在两个电场电离单元10a和10b之间,通过设置第一脱除装置20,采用水洗的方式将电离处理单元10a电离处理后的气体中的O3(臭氧)水洗脱除,脱除O3后的气体再进入电场电离单元10b进行下一次电离处理,这样,由于电场电离单元10b下一次电离处理前,对气体中的O3进行过脱除,从而能使得下一次电离处理时能更有效地对CO进行电离处理。
另外,本实施例的电离处理气体的系统100,还包括:第二脱除装置30,至少一个第二脱除装置设置在位于最下游的电场电离单元后,用于对该电场电离单元进行电离处理后的气体中的第二特定物质进行第二脱除处理,其中,第二脱除物质包括有害物质,这里的最下游的含义,是指整个电离处理气体的系统中,在气体走向上,位于最后一个的电场电离单元。
同样地,第二脱除处理的方式可以为物理方法、化学方法,物理方法包括但不限于:分子筛吸附、电吸附、膜过滤、分层筛分、变压变相分离、变温变相分离、溶解、黏附析出等等,化学方法包括但不限于:中和反应、水溶解反应、催化方法、聚合反应、络合反应、氧化消耗、分解消耗、热解反应、光解反应以及电解反应等等。同样地,具体中,根据需要脱除的物质的组分特性,选择适宜的方法。
以本实施例为例,具有一个第二脱除装置30,其位于最后一个(也即最下游)的电场电离单元10b之后,用于对电场电离单元10b电离处理后(最后一次电离处理)的气体中的第二特定进行处理,例如,电场电离单元10b电离处理CO后,也产生了一些的O3,若需要排放到空气中,则为避免O3对环境的污染,可以通过第二脱除装置30进行水洗脱除。
另外,本实施例中,上述的第一脱除处理和第二脱除处理,当采用水洗的方式时,水可为电场电离单元10构件壁上反应冷凝水,也可为第一脱除装置或第二脱除装置提供的外加水或含水药剂。
另外,本实施例的电离处理气体的系统100还包括控制单元40,控制单元与外接电源连接,控制单元40用于控制各个电场电离单元分别根据设定的电离参数进行电离处理,由此,以有效地确保每个电场电离单元的效率。电离参数是指例如电场的电压、电流、功率等与电离本身有关的参数,电离参数的设定可以根据实际中,要实现对某个浓度下的气体组分的电离,需要的具体电压、电流或功率等电离参数,对应设定,也即可以让一定浓度的气体组分,对应设定其相应的电离参数。
控制单元40包括气体组分检测模块41相互电连接的控制模块42,气体组分检测单元41用于检测每一个电场电离单元10进行电离处理前和/或电离处理后的包括气体的组分含量的气体条件,例如,检测电场电离单元10a进行电离处理前,气体中含有的气体组分,本实施例中,例如检测到含有O2和CO,再具体看检测到的O2的含量,根据O2的含量,调整电场电离单元10a的电离参数达到设定的电离参数,例如O2含量过高,超过某浓度,提高电场的电压达到对应设定的参数,以能使得电场电离单元10a能有效地对O2进行电离。
另外,本实施例中,电离处理气体的系统100还包括颗粒物去除装置50,用于对进入电场电离单元10前的气体进行粉尘等颗粒物去除处理。
另外,本实施例中,电离处理气体的系统100还包括除水装置60,用于对进入电场电离单元前的气体进行除水处理,主要去除气体中的凝露水,防止凝露水进去电场电离单元10中造成短路。具体地,本实施例中,除水装置60设置在颗粒物去除装置50与除水装置60之间。
由上可见,由于通过上述的分次电离,能通过电离处理有效的实现对目标物质的有效治理处理,所以本实施例提供的电离处理气体的系统100,也能应用在废气治理中。
本实施例还提供一种处理气体的方法,以下结合上述的电离处理气体的系统100,对该方法进行具体的说明,包括:
对气体进行至少两次电离处理,其中,通过对气体进行上一次电离处理,改变进行下一次电离处理的如上的电离环境。其中,优选地,改变的电离环境至少包括对气体含有的气体组分和/或气体组分含量的改变。
另外,本实施例提供的方法,如上,不同次的电离处理分别用于对不同的物质组成进行电离处理。
另外,在一示例中,该方法包括两次电离处理,而待进行电离处理的气体中含有O2和CO两种气体组分,同样地,如上,上一次电离处理用于对O2进行电离处理,下一次电离处理用于对CO进行电离处理。
另外,该方法还包括:第一脱除处理,电离处理顺序相邻的两次电离处理之间进行至少一次第一脱除处理,至少一次第一脱除处理用于脱除该两次电离处理中经上一次电场处理后的气体中的如上的第一特定物质,也即该第一特定物质至少包括以下物质:该物质不利于电离处理顺序相邻的两次电离处理中的下一次电离处理的处理效率和/或处理能耗。
另外,该方法,还包括:第二脱除处理,最后一次电离处理后再进行至少一次第二脱除处理,用于对该最后一次电离处理后的气体中的如上的第二特定物质进行脱除,例如第二脱除物质包括有害物质。
另外,该方法还包括:颗粒物去除处理,在对所述气体进行至少两次电离处理之前,对气体进行上述的颗粒物去除处理。
另外,该方法,还包括:除水处理,在对所述气体进行至少两次处理之前,对所述气体进行上述的除水处理。具体地,本实施例中,除水处理在颗粒物去除处理之后、而在电离处理之前进行。
实验例
本实验例中,分别采用介质阻挡放电和不采用介质阻挡放电,对含有O2和CO的气体进行电离处理,进行实际验证,电场结构参数、电离参数和结果如表1所示。
表1中,极间距指:两个电极的工作面之间的垂直距离。
放电极有效长度指:两个电极中作为放电的一极进行有效放电的长度。
从表1可以看出,两组处理中:
上一次电离处理对气体中的O2进行电离处理后,两组均产生了O3;
将上一次电离处理产生的O3通过水洗进行第一次脱除处理之后,分别进行下一次电离处理,处理后进行检测,两组的产物中均显示去除了CO,可见,经过上一次电离处理O2后,下一次电离处理中,能对CO进行有效的电离,从而能对CO进行有效去除,而现有技术中,若直接对CO进行电离处理,电离处理的结果往往是主要实现了对O2的电离;
对于第二组,还再次产生了O3,推测是因为该介质阻挡放电中,再次产生了O3,此时,可以再次通过水洗进行第二次脱除处理,去除O3后,再进行排放。
上述各个实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效,而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。
Claims (11)
1.一种电离处理气体的系统,其特征在于,用于对气体进行分次电离处理,
包括:
至少两个沿气体流向排布的电场电离单元,
其中,所述电场电离单元通过产生的电场用于对所述气体进行电离处理,
一个所述电场电离单元对气体进行所述电离处理后,改变与该电场电离单元相邻的且位于其下游的所述电场电离单元进行所述电离处理的电离环境。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于:
其中,各个所述电场电离单元分别用于对不同的物质组成进行所述电离处理。
3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于:
其中,所述电场电离单元为两个,
所述气体中含有O2和CO两种气体组分,
位于所述气体走向的上游的所述电场电离单元用于对O2进行所述电离处理,
位于所述气体走向的下游的所述电场电离单元用于对CO进行所述电离处理。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的系统,其特征在于:
其中,所述电场电离单元具有:
气体入口,供待进行所述电离处理的气体进入;
处理腔,接收并容纳从所述气体入口进入的气体;
两个电极,用于在所述处理腔内产生所述电场而对进入所述处理腔的所述气体进行所述电离处理;以及
气体出口,供进行所述电离处理后的气体从所述处理腔排出。
5.根据权利要求4所述的系统,其特征在于:
其中,所述两个电极中的一个电极设置有阻挡介质,用于产生介质阻挡放电而与另一个电极形成所述电场。
6.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,还包括:
第一脱除装置,至少一个所述第一脱除装置沿所述气体流向设置在至少一对相邻的两个所述电场电离单元之间,所述第一脱除装置用于对该两个电场电离单元中位于上游的所述电场电离单元进行所述电离处理后的气体中的第一特定物质进行第一脱除处理,
其中,所述第一特定物质至少包括以下物质:该物质不利于一对相邻的两个所述电场电离单元中位于下游的所述电场电离单元进行所述电离处理的处理效率和/或处理能耗。
7.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,还包括:
第二脱除装置,至少一个所述第二脱除装置设置在位于最下游的所述电场电离单元后,用于对该电场电离单元进行所述电离处理后的气体中的第二特定物质进行第二脱除处理。
8.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,还包括:
颗粒物去除装置,设置在至少一个所述电场电离单元之前,用于对进入所述电场电离单元之前的气体进行颗粒物去除处理。
9.根据权利要求8所述的系统,其特征在于,还包括:
除水装置,设置在至少一个所述电场电离单元之前,用于对进入所述电场电离单元之前或进入所述颗粒物去除装置之前的气体进行除水处理。
10.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,还包括:
控制单元,用于控制各个所述电场电离单元分别根据设定的电离参数进行所述电离处理。
11.根据权利要求10所述的系统,其特征在于:
所述控制单元包括气体组分检测模块以及控制模块,
所述气体组分检测模块用于检测每一个所述电场电离单元进行所述电离处理前和/或所述电离处理后的包括气体的组分以及组分含量的气体条件,
所述控制模块根据所述检测模块检测得到所述气体条件,控制设定各个所述电场电离单元的电离参数,并控制各个所述电场电离单元根据各自相应的所述电离参数进行所述电离处理。
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