CN215179931U - 一种相控阵检测校准试块 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种相控阵检测校准试块，其包括主体部为矩形块，其顶面配置有台阶结构，相邻台阶结构的高度差相等；所述台阶结构还配置有测试孔，所述测试孔沿所述主体部的纵向设置，其自所述主体部的一个侧面沿纵向延伸而成；相邻测试孔的纵向长度不同；所述主体部包括第一台阶结构、第二台阶结构、第三台阶结构、第四台阶结构、第五台阶结构和第六台阶结构，台阶结构对应顶面的粗糙度不大于Ra3.2。本实用新型提供的一种相控阵检测校准试块，用于不等厚复杂铸铁件的无损检测，其结构合理，使用方便，通过一个校准试块完成校核，提高了校核效率，有利于准确高效的完成相关测试。
Description
技术领域
本实用新型属于建筑工程技术领域，涉及一种相控阵检测校准试块。
背景技术
相控阵广泛用于建筑，管道和发电等多个工业领域的无损检测。此方法是一种先进的无损检测方法，用于检测不连续性并由此确定组件质量。由于可以控制诸如光束角度和焦距之类的参数，因此该方法在缺陷检测和测试速度方面非常有效。
为实现更快、更安全的检测，一般会制造用作无损检测的试块。现有的试块只能完成某一项指标的校核，影响了相控阵检测的校准效率。
因此，亟需设计一种相控阵检测校准试块，解决现有技术中存在的技术问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是至少一定程度上解决现有技术中存在的部分技术问题，提供的一种相控阵检测校准试块，用于不等厚复杂铸铁件的无损检测，其结构合理，使用方便，通过一个校准试块完成校核，提高了校核效率，有利于准确高效的完成相关测试。
为解决上述技术问题，本实用新型提供的一种相控阵检测校准试块，其包括主体部，所述主体部为矩形块，其顶面配置有台阶结构，相邻台阶结构的高度差相等；所述台阶结构还配置有测试孔，所述测试孔沿所述主体部的纵向设置，其自所述主体部的一个侧面沿纵向延伸而成；相邻测试孔的纵向长度不同；所述主体部包括第一台阶结构、第二台阶结构、第三台阶结构、第四台阶结构、第五台阶结构和第六台阶结构，台阶结构对应顶面的粗糙度不大于Ra3.2。
作为优选实施例，所述测试孔包括第一测试孔，其设置在第一台阶结构处；所述第一测试孔的纵向长度为10mm。
作为优选实施例，所述测试孔包括第二测试孔，其设置在第二台阶结构处，所述第二测试孔的纵向长度为15mm。
作为优选实施例，所述测试孔还包括第六测试孔，其贯穿设置在第六台阶结构处。
作为优选实施例，所述第一台阶结构和第二台阶结构的顶面对应的粗糙度为Ra0.8。
作为优选实施例，所述第三台阶结构和第四台阶结构的顶面对应的粗糙度为Ra1.6。
作为优选实施例，所述第五台阶结构和第六台阶结构的顶面对应的粗糙度为Ra3.2。
作为优选实施例，所述测试孔还包括第三测试孔、第四测试孔和第五测试孔，所述第三测试孔配置在第三台阶结构处，所述第四测试孔配置在第四台阶结构处，所述第五测试孔配置在第五台阶结构处。
作为优选实施例，所述第一测试孔、第二测试孔、第三测试孔、第四测试孔和第五测试孔为盲孔，其对应的直径不相等。
作为优选实施例，所述相邻台阶结构的高度差为5mm。
本实用新型有益效果：
本实用新型提供的一种相控阵检测校准试块，用于不等厚复杂铸铁件的无损检测，其结构合理，使用方便，通过一个校准试块完成校核，提高了校核效率，有利于准确高效的完成相关测试。
附图说明
通过结合以下附图所作的详细描述，本实用新型的上述优点将变得更清楚和更容易理解，这些附图只是示意性的，并不限制本实用新型，其中：
图1是本实用新型所述一种相控阵检测校准试块的结构示意图；
图2是图1对应的相控阵检测校准试块的俯视图。
附图中，各标号所代表的部件如下：
10.主体部；11.第一台阶结构；12.第二台阶结构；13.第三台阶结构；14.第四台阶结构；15.第五台阶结构；16.第六台阶结构；20.测试孔；21.第一测试孔；22.第二测试孔；23.第三测试孔；24.第四测试孔；25.第五测试孔；26.第六测试孔。
具体实施方式
图1至图2是本申请所述一种相控阵检测校准试块的相关示意图，下面结合具体实施例和附图，对本实用新型进行详细说明。
在此记载的实施例为本实用新型的特定的具体实施方式，用于说明本实用新型的构思，均是解释性和示例性的，不应解释为对本实用新型实施方式及本实用新型范围的限制。除在此记载的实施例外，本领域技术人员还能够基于本申请权利要求书和说明书所公开的内容采用显而易见的其它技术方案，这些技术方案包括采用对在此记载的实施例的做出任何显而易见的替换和修改的技术方案。
本说明书的附图为示意图，辅助说明本实用新型的构思，示意性地表示各部分的形状及其相互关系。请注意，为了便于清楚地表现出本实用新型实施例的各部件的结构，各附图之间并未按照相同的比例绘制。相同的参考标记用于表示相同的部分。
本实用新型所述一种相控阵检测校准试块的结构示意图，如图1及图2所示。相控阵检测校准试块包括主体部10，所述主体部10为矩形块，其顶面配置有台阶结构，相邻台阶结构的高度差相等，所述相邻台阶结构的高度差为5mm。
进一步地，所述台阶结构还配置有测试孔20，所述测试孔20沿所述主体部10的纵向设置，其自所述主体部10的一个侧面沿纵向延伸而成；相邻测试孔20的纵向长度不同；所述主体部10包括第一台阶结构11、第二台阶结构12、第三台阶结构13、第四台阶结构14、第五台阶结构15和第六台阶结构16，台阶结构对应顶面的粗糙度不大于Ra3.2。
图2中，所述测试孔20包括第一测试孔21，其设置在第一台阶结构11处；所述第一测试孔21的纵向长度为10mm。所述测试孔20包括第二测试孔22，其设置在第二台阶结构12处，所述第二测试孔22的纵向长度为15mm。
本实用新型中，所述测试孔20还包括第六测试孔26，其贯穿设置在第六台阶结构16处。
为了更加贴近真实工况，所述第一台阶结构11和第二台阶结构的顶面对应的粗糙度为Ra0.8，所述第三台阶结构13和第四台阶结构14的顶面对应的粗糙度为Ra1.6，所述第五台阶结构15和第六台阶结构16的顶面对应的粗糙度为Ra3.2。
作为本实用新型的一个实施例，所述测试孔20还包括第三测试孔23、第四测试孔24和第五测试孔25，如图2所示，所述第三测试孔23配置在第三台阶结构13处，所述第四测试孔24配置在第四台阶结构14处，所述第五测试孔25配置在第五台阶结构15处。
进一步地，所述第一测试孔21、第二测试孔22、第三测试孔23、第四测试孔24和第五测试孔25为盲孔，其对应的直径不相等。本实用新型配置的主体部10设置各种测试孔20及台阶结构，有利于提高相控阵检测校准效率，提高测试效率。
相比于现有技术的缺点和不足，本实用新型提供的一种相控阵检测校准试块，用于不等厚复杂铸铁件的无损检测，其结构合理，使用方便，通过一个校准试块完成校核，提高了校核效率，有利于准确高效的完成相关测试。
本实用新型不局限于上述实施方式，任何人在本实用新型的启示下都可得出其他各种形式的产品，但不论在其形状或结构上作任何变化，凡是具有与本申请相同或相近似的技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种相控阵检测校准试块，其特征在于，包括主体部，所述主体部为矩形块，其顶面配置有台阶结构，相邻台阶结构的高度差相等；所述台阶结构还配置有测试孔，所述测试孔沿所述主体部的纵向设置，其自所述主体部的一个侧面沿纵向延伸而成；相邻测试孔的纵向长度不同；所述主体部包括第一台阶结构、第二台阶结构、第三台阶结构、第四台阶结构、第五台阶结构和第六台阶结构，台阶结构对应顶面的粗糙度不大于Ra3.2。
2.根据权利要求1所述的相控阵检测校准试块，其特征在于，所述测试孔包括第一测试孔，其设置在第一台阶结构处；所述第一测试孔的纵向长度为10mm。
3.根据权利要求2所述的相控阵检测校准试块，其特征在于，所述测试孔包括第二测试孔，其设置在第二台阶结构处，所述第二测试孔的纵向长度为15mm。
4.根据权利要求3所述的相控阵检测校准试块，其特征在于，所述测试孔还包括第六测试孔，其贯穿设置在第六台阶结构处。
5.根据权利要求1所述的相控阵检测校准试块，其特征在于，所述第一台阶结构和第二台阶结构的顶面对应的粗糙度为Ra0.8。
6.根据权利要求1所述的相控阵检测校准试块，其特征在于，所述第三台阶结构和第四台阶结构的顶面对应的粗糙度为Ra1.6。
7.根据权利要求1所述的相控阵检测校准试块，其特征在于，所述第五台阶结构和第六台阶结构的顶面对应的粗糙度为Ra3.2。
8.根据权利要求4所述的相控阵检测校准试块，其特征在于，所述测试孔还包括第三测试孔、第四测试孔和第五测试孔，所述第三测试孔配置在第三台阶结构处，所述第四测试孔配置在第四台阶结构处，所述第五测试孔配置在第五台阶结构处。
9.根据权利要求8所述的相控阵检测校准试块，其特征在于，所述第一测试孔、第二测试孔、第三测试孔、第四测试孔和第五测试孔为盲孔，其对应的直径不相等。
10.根据权利要求1所述的相控阵检测校准试块，其特征在于，所述相邻台阶结构的高度差为5mm。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
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2021
- 2021-06-11 CN CN202121302520.XU patent/CN215179931U/zh active Active
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