CN215069893U - 一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，包括架体，所述架体上安装有加热器，所述加热器的内侧安装有工艺管，所述工艺管安装在加热器之间，且为非接触式固定安装，所述工艺管的管口处设置有工艺管密封法兰压紧工艺管密封圈，在管口的外侧设置有摆动炉门。本实用新型的有益效果是，与传统设备的根本区别就是将原有的普通进气管变更为本实用新型的带真空隔热功能的双层进气管，很好解决了进气管非常容易堵塞，需要经常更换进气管，严重影响机台工作时长，不用经常性更换进气管而带来的对产能的致命影响，也明显降低了设备维护时间，有效降低了成本和工作量，对于大生产价值明显，优势作用明显。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体和光伏领域，特别是一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管。
背景技术
传统的工艺管内的进气管就是单纯的圆管，在LPCVD类别的设备工艺中，将SIH4气体通过进气管进入工艺管内部对晶片表面进行多晶硅的生长，即在晶片表面形成薄膜，问题就是进气管均为直径较小的细管，不占用工艺管内部的空间，也因为气体流量较小，不能气管过大，而影响内部晶片、晶舟、工艺管、进气管、还有热偶管的之间的协调关系；由于工艺管内部的工艺温度600-800℃，由于进气管全部位于工艺管内部(底部)同工艺管相同温度，对于SIH4气体在进入进气管中向工艺管内部输送的过程中，气体在进气管中的温度也随之升高，按照SIH4气体的特点，在温度超过400℃或稍高时，气体就开始分解，这样还没有离开进气管的尾部进入工艺管时在进气管中就开始了分解和挥发，从而在进气管内壁上就开始结晶和沉积多晶硅物质，经过几个炉次的工艺过程后，进气管内壁就已经堵塞，影响了气体按计量流量的准确进入从而影响工艺结果，此时就需要拆卸进气管报废，更换新的进气管然后恢复工艺过程，则小小的进气管变成了阻碍工艺过程，影响机台产能，提高工艺成本和不及时更换就直接影响晶片工艺质量的罪魁祸首。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决上述问题，设计了一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管。
实现上述目的本实用新型的技术方案为，一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，包括架体，所述架体上安装有加热器，所述加热器的内侧安装有工艺管，所述工艺管安装在加热器之间，且为非接触式固定安装，所述工艺管的管口处设置有工艺管密封法兰压紧工艺管密封圈，在管口的外侧设置有摆动炉门。
作为对本实用新型的进一步说明，所述加热器和工艺管之间设置有垫块，所述工艺管通过垫块固定在加热器的内部。
作为对本实用新型的进一步说明，所述工艺管的一端设置有尾部隔热堵块，且所述尾部隔热堵块固定安装于所述加热器之间。
作为对本实用新型的进一步说明，所述加热器的一端设置有口部保温软堵块，且所述口部保温软堵块固定安装于所述加热器和工艺管之间，所述口部保温软堵块设置于所述加热器一端的端口处。
作为对本实用新型的进一步说明，所述工艺管下端的内壁上设置有双层进气管，所述双层进气管包括进气内管和真空外管。
作为对本实用新型的进一步说明，所述进气内管设置于真空外管的内部，且所述真空外观在工艺管内部的端头处设置有内外管封堵块。
作为对本实用新型的进一步说明，从所述工艺管伸到加热器外部部分的双层进气管的真空外管向上分支，且所述真空外管和进气内管的端头处设置有阀门接口。
作为对本实用新型的进一步说明，从所述工艺管中部位置伸到加热器外部处设置有出气管和真空管，所述出气管和真空管的端头处设置有阀门。
作为对本实用新型的进一步说明，所述工艺管密封法兰的一侧设置有工艺炉口法兰，所述工艺管密封圈设置于工艺管、工艺管密封法兰和工艺炉口法兰之间，所述摆动炉门设置于所述工艺炉口法兰的一侧，且所述摆动炉门和工艺管炉口法兰之间设置有炉口密封圈。
作为对本实用新型的进一步说明，所述工艺管的内部设置有晶舟，所述晶舟上固定有晶片。
其有益效果在于，与传统设备的根本区别就是将原有的普通进气管变更为本实用新型的带真空隔热功能的双层进气管，很好解决了进气管非常容易堵塞，需要经常更换进气管(可拆卸方式)，严重影响机台工作时长，不用经常性更换进气管而带来的对产能的致命影响，也明显降低了设备维护时间，有效降低了成本和工作量，对于大生产价值明显，优势作用明显；
外部设置阀门与进气系统连接，进行有序控制进气；将进气管外壁再套装一个外管，外管长度短于内管，外管两端分别用内外管封堵与内外管进行焊接封闭，露出内管口，在内外管之间形成一个密闭的环形空间，在工艺管外部的一端的外管上设置真空外管接口，与此环形空间连通，设置阀门与真空系统连接，进行可控制的抽真空功能；当通过真空外管接口进行抽真空后，内外管之间的封闭空间就形成了真空，由于真空有很好的隔热功能，所有内管虽然在工艺管中承受工艺温度，但是通过双层管中的环形真空空间，可以很好的解决进气内管的温度不会太高，很好的解决了气体通过进气内管进入工艺管的过程中不被迅速升温而分解挥发的难题，有效的将SIH4气体通过进气内管不被分解，只有进入工艺管后才进入高温然后分解，做工艺过程，也让工艺管内部的工艺气体只满足与工艺管内部的有效工艺过程中，没有在进气内管中消耗，更有利于晶片的工艺质量。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是图1中A部分的局部放大结构示意图；
图3是图1中B部分的局部放大结构示意图；
图4是图1中C部分的局部放大结构示意图；
图5是晶片和晶舟的结构示意图。
图中，1、架体；2、加热器；201、尾部隔热堵块；202、垫块；203、口部保温软堵块；3、工艺管；301、进气内管；302、真空外管；303、内外管封堵块；401、晶舟；402、晶片；5、工艺炉口法兰；501、工艺管密封法兰；502、工艺管密封圈；6、摆动炉门；601、炉口密封圈。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型进行具体描述，如图1-5所示，一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，包括架体1，所述架体1上安装有加热器2，所述加热器2的内侧安装有工艺管3，所述工艺管3的内部设置有晶舟401，所述晶舟401上固定有晶片402，所述工艺管3安装在加热器2之间，且为非接触式固定安装，所述工艺管3的管口处设置有工艺管密封法兰501压紧工艺管密封圈502，在管口的外侧设置有摆动炉门6。
所述加热器2和工艺管3之间设置有垫块202，所述工艺管3通过垫块202支撑在加热器2的内部。
所述工艺管3的一端设置有尾部隔热堵块201，且所述尾部隔热堵块201固定安装于所述加热器2之间，加热器2尾部隔热堵用于封闭加热器2尾部，防止热量散出。
所述加热器2的一端设置有口部保温软堵块203，且所述口部保温软堵块203固定安装于所述加热器2和工艺管3之间，所述口部保温软堵块203设置于所述加热器2一端的端口处，加热器2口部设置口部保温软堵块203用来封堵加热器2与工艺管3之间的间隙的散热，保护炉口法兰的密封圈免受热辐射的影响。
所述工艺管3下端的内壁上设置有双层进气管，所述双层进气管包括进气内管301和真空外管302，所述进气内管301设置于真空外管302的内部，且所述真空外管在工艺管3内部的端头处设置有内外管封堵块303，从所述工艺管3伸到加热器2外部部分的双层进气管的真空外管302向上分支，且所述真空外管302和进气内管301的端头处设置有阀门接口，双层进气管由进气内管301和真空外管302通过内外管封堵与内外管焊接封闭，使内外管环形空间密闭，通过真空外管302接口与外设的真空系统连接。
从所述工艺管3中部位置伸到加热器2外部处设置有出气管和真空管，所述出气管和真空管的端头处设置有阀门，出气或真空管(带阀门)用于工艺气体的排气或抽真空。
所述工艺管密封法兰501的一侧设置有工艺炉口法兰5，所述工艺管密封圈502设置于工艺管3、工艺管密封法兰501和工艺炉口法兰5之间，所述摆动炉门6设置于所述工艺炉口法兰5的一侧，且所述摆动炉门6和工艺管3炉口法兰之间设置有炉口密封圈601，工艺管3口与1-架体固结的5-工艺管3炉口法兰(可以带水冷)，通过工艺管密封法兰501压紧工艺管密封圈502进行工艺管3的密封连接，摆动炉门6进行炉门的移开和关门通过炉门密封圈进行密封。
工作原理：其原理是进气内管301为进气管，其外部设置阀门与进气系统连接，进行有序控制进气；将进气管外壁再套装一个外管，外管长度短于内管，外管两端分别用内外管封堵与内外管进行焊接封闭，露出内管口，在内外管之间形成一个密闭的环形空间，在工艺管3外部的一端的外管上设置真空外管302接口，与此环形空间连通，设置阀门与真空系统连接，进行可控制的抽真空功能；当通过真空外管302接口进行抽真空后，内外管之间的封闭空间就形成了真空(如同保温杯)，由于真空有很好的隔热功能，所有内管虽然在工艺管3中承受工艺温度，但是通过双层管中的环形真空空间，可以很好的解决进气内管301的温度不会太高，很好的解决了气体通过进气内管301进入工艺管3的过程中不被迅速升温而分解挥发的难题，有效的将SIH4气体通过进气内管301不被分解，只有进入工艺管3后才进入高温然后分解，做工艺过程，也让工艺管3内部的工艺气体只满足与工艺管3内部的有效工艺过程中，没有在进气内管301中消耗，更有利于晶片402的工艺质量。
上述技术方案仅体现了本实用新型技术方案的优选技术方案，本技术领域的技术人员对其中某些部分所可能做出的一些变动均体现了本实用新型的原理，属于本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，包括架体(1)，所述架体(1)上安装有加热器(2)，所述加热器(2)的内侧安装有工艺管(3)，所述工艺管(3)安装在加热器(2)之间，且为非接触式固定安装，所述工艺管(3)的管口处设置有工艺管密封法兰(501)压紧工艺管密封圈(502)，在管口的外侧设置有摆动炉门(6)。
2.根据权利要求1所述的一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，所述加热器(2)和工艺管(3)之间设置有垫块(202)，所述工艺管(3)通过垫块(202)支撑在加热器(2)的内部。
3.根据权利要求1所述的一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，所述工艺管(3)的一端设置有尾部隔热堵块(201)，且所述尾部隔热堵块(201)固定安装于所述加热器(2)之间。
4.根据权利要求3所述的一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，所述加热器(2)的一端设置有口部保温软堵块(203)，且所述口部保温软堵块(203)固定安装于所述加热器(2)和工艺管(3)之间，所述口部保温软堵块(203)设置于所述加热器(2)一端的端口处。
5.根据权利要求1所述的一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，所述工艺管(3)下端的内壁上设置有双层进气管，所述双层进气管包括进气内管(301)和真空外管(302)。
6.根据权利要求5所述的一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，所述进气内管(301)设置于真空外管(302)的内部，且所述真空外管在工艺管(3)内部的端头处设置有内外管封堵块(303)。
7.根据权利要求1所述的一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，从所述工艺管(3)伸到加热器(2)外部部分的双层进气管的真空外管(302)向上分支，且所述真空外管(302)和进气内管(301)的端头处设置有阀门接口。
8.根据权利要求1所述的一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，从所述工艺管(3)中部位置伸到加热器(2)外部处设置有出气管和真空管，所述出气管和真空管的端头处设置有阀门。
9.根据权利要求1所述的一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，所述工艺管密封法兰(501)的一侧设置有工艺炉口法兰(5)，所述工艺管密封圈(502)设置于工艺管(3)、工艺管密封法兰(501)和工艺炉口法兰(5)之间，所述摆动炉门(6)设置于所述工艺炉口法兰(5)的一侧，且所述摆动炉门(6)和工艺管(3)炉口法兰之间设置有炉口密封圈(601)。
10.根据权利要求1所述的一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管，其特征在于，所述工艺管(3)的内部设置有晶舟(401)，所述晶舟(401)上固定有晶片(402)。
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| CN202120846034.8U CN215069893U (zh) | 2021-04-23 | 2021-04-23 | 一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管 |
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|---|---|---|---|---|
| CN113161267A (zh) * | 2021-04-23 | 2021-07-23 | 青岛赛瑞达电子科技有限公司 | 一种工艺管内带真空隔热功能的双层进气管 |
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2021
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Legal Events
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20220315 Address after: 214000 workshop and office space on the south side of the first floor of Plant No. 4, precision machinery industrial park, Xishan District, Wuxi City, Jiangsu Province Patentee after: Sairuida intelligent electronic equipment (Wuxi) Co.,Ltd. Address before: 826 Huadong Road, high tech Zone, Qingdao, Shandong Patentee before: QINGDAO SUNRED ELECTRONIC TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 214000 workshop and office space on the south side of the first floor of Plant No. 4, precision machinery industrial park, Xishan District, Wuxi City, Jiangsu Province Patentee after: Sairuida Intelligent Electronic Equipment (Wuxi) Co.,Ltd. Address before: 214000 workshop and office space on the south side of the first floor of Plant No. 4, precision machinery industrial park, Xishan District, Wuxi City, Jiangsu Province Patentee before: Sairuida intelligent electronic equipment (Wuxi) Co.,Ltd. |
|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |