CN215030720U - 一种用于涂膜工艺的膜液槽体 - Google Patents

Abstract

一种用于涂膜工艺的膜液槽体，包括方形的套涂槽体，所述套涂槽体内部设有排液槽体；所述套涂槽体侧面开设有补液孔，所述套涂槽体位于所述排液槽体侧面部位开设有溢流孔；所述排液槽体将所述套涂槽体分隔成涂膜腔和补液腔，所述涂膜腔和所述补液腔下方连通。本实用新型的用于涂膜工艺的膜液槽体通过补液孔进行补液，通过溢流孔进行排液，使得补液过程方便快速，提高涂膜工艺的效率，而采用排液槽体限制膜液的最高液位，能够使膜液液位高度始终保持固定，保证涂膜质量的稳定性。

Description

一种用于涂膜工艺的膜液槽体

技术领域

本实用新型涉及动态血糖传感器探针涂膜工艺领域，更具体的说涉及一种用于涂膜工艺的膜液槽体。

背景技术

动态血糖监测系统(RGMS)是近年来投入临床使用的一种新型持续动态血糖监测系统，它连接一个探测头类似针头，探测头用于置入皮下组织。探测头直径很小，置入时患者无明显痛感和不适感。仪器间隔一定时间从探测头接受一次反映血糖变化的电信号，将多次采集到的电信号平均值转化成为血糖值存储起来。每天可以记录几百个血糖值。动态血糖监测仪还可以同时存储进餐、运动、用药等时间。这就可以让患者不用每天再忍受针扎的痛苦，并且它能提供每日血糖图，多日血糖图波动趋势分析和每日血糖数据的小结，是血糖检测的新突破。

其中传感器探针需要对针尖部位进行涂膜工艺处理，而涂膜过程为先采用膜圈浸入涂膜腔的方式采集膜液，再将传感器探针穿过膜圈进行涂膜；在自动化线上，传感器探针涂膜后要马上进入下一步工序，在频繁采集膜液的情况下需要快速补充膜液，并且在补液过程中要保证膜液液位稳定且高度不变，从而保证涂膜效率和涂膜质量。故急需设计一种用于涂膜工艺的膜液槽体，以达到自动化线上涂膜工艺的使用要求。

实用新型内容

针对现有技术的不足之处本实用新型提供一种用于涂膜工艺的膜液槽体，本实用新型的用于涂膜工艺的膜液槽体通过补液孔进行补液，通过溢流孔进行排液，使得补液过程方便快速，提高涂膜工艺的效率，而采用排液槽体限制膜液的最高液位，能够使膜液液位高度始终保持固定，保证涂膜质量的稳定性。

本实用新型的具体技术方案如下，一种用于涂膜工艺的膜液槽体，包括方形的套涂槽体，所述套涂槽体内部设有排液槽体；所述套涂槽体侧面开设有补液孔，所述套涂槽体位于所述排液槽体侧面部位开设有溢流孔；所述排液槽体将所述套涂槽体分隔成涂膜腔和补液腔，所述涂膜腔和所述补液腔下方连通。

由此，所述套涂槽体内盛放有涂膜用的膜液，涂膜过程为先采用膜圈浸入所述涂膜腔的方式采集膜液，再将传感器探针穿过膜圈进行涂膜；在自动化线上，传感器探针涂膜后要马上进入下一步工序，在频繁采集膜液的情况下需要快速补充膜液，并且在补液过程中要保证膜液液位高度不变；因此通过所述补液孔进行补液，通过所述溢流孔进行排液，使得补液过程方便快速，提高涂膜工艺的效率，而采用所述排液槽体限制膜液的最高液位，能够使膜液液位高度始终保持固定，保证涂膜质量的稳定性。

作为本实用新型的优选，所述排液槽体位于所述涂膜腔一侧开设有溢流槽。

由此，所述涂膜腔内膜液能够从所述溢流槽溢出，保证膜液液位高度保持固定。

作为本实用新型的优选，所述补液孔位于所述补液腔侧面。

由此，膜圈浸入所述涂膜腔后再取出时要带出膜液形成封闭膜圈，膜液的晃动会影响封闭膜圈的形成；所述补液孔用于补充膜液，位于所述补液腔一侧能够保证在补液过程中液面的晃动不会影响到所述涂膜腔，所述补液腔内的膜液从所述排液槽体下方流入所述涂膜腔，保证补液过程中所述涂膜腔内膜液消耗后得到补充并且液位稳定。

作为本实用新型的优选，所述补液孔最底端高于所述溢流槽最底端。

由此，所述套涂槽体内的最高液位位于所述补液孔下方，膜液不会倒流入所述补液孔，保证膜液液位稳定。

作为本实用新型的优选，所述溢流槽最底端高于所述溢流孔最底端。

由此，从所述溢流槽溢入所述排液槽体的膜液积攒过多后能够从所述溢流孔排出。

作为本实用新型的优选，所述溢流槽沿水平方向直线延伸。

由此，所述涂膜腔内膜液一旦过高便能够快速从所述溢流槽溢出。

作为本实用新型的优选，所述涂膜腔为矩形，且长边延伸方向与所述溢流槽延伸方向相同。

由此，为了提高涂膜效率，膜圈一般并排成一排安装到工装板上进行涂膜，所述涂膜腔设为矩形能够方便涂膜，提高效率。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型的用于涂膜工艺的膜液槽体通过补液孔进行补液，通过溢流孔进行排液，使得补液过程方便快速，提高涂膜工艺的效率，而采用排液槽体限制膜液的最高液位，能够使膜液液位高度始终保持固定，保证涂膜质量的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型用于涂膜工艺的膜液槽体的立体图；

图2为本实用新型用于涂膜工艺的膜液槽体的剖视图；

图中，1-套涂槽体、11-补液孔、1a-涂膜腔、1b-补液腔、2-排液槽体、21-溢流孔、22-溢流槽。

具体实施方式

下面将结合附图，通过具体实施例对本实用新型作进一步说明。

如图1、图2，一种用于涂膜工艺的膜液槽体，包括方形的套涂槽体1，套涂槽体1内部设有排液槽体2；套涂槽体1侧面开设有补液孔11，套涂槽体1位于排液槽体2侧面部位开设有溢流孔21；排液槽体2将套涂槽体1分隔成涂膜腔1a和补液腔1b，涂膜腔1a和补液腔1b下方连通。

由此，套涂槽体1内盛放有涂膜用的膜液，涂膜过程为先采用膜圈浸入涂膜腔1a的方式采集膜液，再将传感器探针穿过膜圈进行涂膜；在自动化线上，传感器探针涂膜后要马上进入下一步工序，在频繁采集膜液的情况下需要快速补充膜液，并且在补液过程中要保证膜液液位高度不变；因此通过补液孔11进行补液，通过溢流孔21进行排液，使得补液过程方便快速，提高涂膜工艺的效率，而采用排液槽体2限制膜液的最高液位，能够使膜液液位高度始终保持固定，保证涂膜质量的稳定性。

如图1、图2，排液槽体2位于涂膜腔1a一侧开设有溢流槽22。

由此，涂膜腔1a内膜液能够从溢流槽22溢出，保证膜液液位高度保持固定。

如图1、图2，补液孔11位于补液腔1b侧面。

由此，膜圈浸入涂膜腔1a后再取出时要带出膜液形成封闭膜圈，膜液的晃动会影响封闭膜圈的形成；补液孔11用于补充膜液，位于补液腔1b一侧能够保证在补液过程中液面的晃动不会影响到涂膜腔1a，补液腔1b内的膜液从排液槽体2下方流入涂膜腔1a，保证补液过程中涂膜腔1a内膜液消耗后得到补充并且液位稳定。

如图1、图2，补液孔11最底端高于溢流槽22最底端。

由此，套涂槽体1内的最高液位位于补液孔11下方，膜液不会倒流入补液孔11，保证膜液液位稳定。

如图1、图2，溢流槽22最底端高于溢流孔21最底端。

由此，从溢流槽22溢入排液槽体2的膜液积攒过多后能够从溢流孔21排出。

如图1、图2，溢流槽22沿水平方向直线延伸。

由此，涂膜腔1a内膜液一旦过高便能够快速从溢流槽22溢出。

如图1、图2，涂膜腔1a为矩形，且长边延伸方向与溢流槽22延伸方向相同。

由此，为了提高涂膜效率，膜圈一般并排成一排安装到工装板上进行涂膜，涂膜腔1a设为矩形能够方便涂膜，提高效率。

上面所述的实施例仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的构思和范围进行限定。在不脱离本实用新型设计构思的前提下，本领域普通人员对本实用新型的技术方案做出的各种变型和改进，均应落入到本实用新型的保护范围，本实用新型请求保护的技术内容，已经全部记载在权利要求书中。

Claims (7)

1.一种用于涂膜工艺的膜液槽体，其特征在于：包括方形的套涂槽体(1)，所述套涂槽体(1)内部设有排液槽体(2)；所述套涂槽体(1)侧面开设有补液孔(11)，所述套涂槽体(1)位于所述排液槽体(2)侧面部位开设有溢流孔(21)；所述排液槽体(2)将所述套涂槽体(1)分隔成涂膜腔(1a)和补液腔(1b)，所述涂膜腔(1a)和所述补液腔(1b)下方连通。

2.根据权利要求1所述的一种用于涂膜工艺的膜液槽体，其特征在于：所述排液槽体(2)位于所述涂膜腔(1a)一侧开设有溢流槽(22)。

3.根据权利要求2所述的一种用于涂膜工艺的膜液槽体，其特征在于：所述补液孔(11)位于所述补液腔(1b)侧面。

4.根据权利要求3所述的一种用于涂膜工艺的膜液槽体，其特征在于：所述补液孔(11)最底端高于所述溢流槽(22)最底端。

5.根据权利要求4所述的一种用于涂膜工艺的膜液槽体，其特征在于：所述溢流槽(22)最底端高于所述溢流孔(21)最底端。

6.根据权利要求2所述的一种用于涂膜工艺的膜液槽体，其特征在于：所述溢流槽(22)沿水平方向直线延伸。

7.根据权利要求6所述的一种用于涂膜工艺的膜液槽体，其特征在于：所述涂膜腔(1a)为矩形，且长边延伸方向与所述溢流槽(22)延伸方向相同。

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