CN214897649U - 一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，具体涉及照相机领域，包括相机外壳，所述相机外壳的底端设置有伽马屏蔽端盖，所述伽马屏蔽端盖上端位于相机外壳的内部固定设置有中子屏蔽支撑板，所述中子屏蔽支撑板的上端固定安装有摄像头，所述摄像头外侧位于CMOS传感器的上方固定设置有伽马屏蔽前板和中子屏蔽前板，所述伽马屏蔽前板的上端固定设置有遮光板，所述相机外壳的上端固定设置有相机镜头盖板。本实用新型通过专用光路设计、中子屏蔽和伽马屏蔽结合的方式实现对中子、伽马辐射敏感器件CMOS传感器的保护，从而整体提升耐辐照相机在中子、伽马辐射环境的使用寿命。
Description
技术领域
本实用新型涉及照相机技术领域，更具体地说，本实用新型涉及一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构。
背景技术
核能是技术成熟而又可大规模提供电力的清洁能源，但是作为释放核能的反应堆，却是一个巨大的放射源，在反应堆堆芯内，核燃料裂变时会产生中子和伽马辐射，另外冷却剂本身及其含有的杂质和携带的腐蚀产物会被中子活化，活化产物衰变也会产生伽马等辐射，反应堆运行时冷却剂会连续不断地将在堆芯产生的放射性物质带到相关的设备中去，因此在核设施工作的人员可能遭受辐照的危险，在核泄漏极端条件下，泄漏点会形成高剂量率的辐射热点，依靠人工进行检查则极易对人体造成过量的辐射危害，通过远程控制机器人搭载云台相机实现对目标区域的视频检查则是一种降低人体不必要的辐射危害可行方案。由于相机的内部存在辐射敏感的电子元器件，故满足不了核设施内高放射性区域环境下的较高的可靠性运行要求，因此用于核设施内高放射性的中子、伽马辐射环境的相机必须经过辐照加固处理，以提高辐射环境运行的可靠性。
用于屏蔽伽马辐射的材料一般是采用混凝土或原子序数比较大的重元素金属及其合金，例如铅、钨镍合金等，利用是伽马辐射电磁波在这些高密度材料的散射吸收。而于中子屏蔽的材料一般是采用轻元素组成的物质，例如聚乙烯、碳化硼、石蜡等，其中含硼聚乙烯材料具有较好的中子屏蔽效果，其屏蔽原理是利用聚乙烯中的氢原子慢化中子，然后利用硼作为慢中子的吸收剂，最终慢化和吸收中子。
实用新型内容
为了克服现有技术的上述缺陷，本实用新型的实施例提供一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，本实用新型所要解决的技术问题是：如何提高照相机在特殊环境下对伽马或中子辐射进行屏蔽，提高照相机在高辐射环境下运行的可靠性。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，包括相机外壳，所述相机外壳的底端设置有伽马屏蔽端盖，所述伽马屏蔽端盖上端位于相机外壳的内部固定设置有中子屏蔽支撑板，所述中子屏蔽支撑板的上端固定安装有摄像头，所述摄像头外侧位于CMOS传感器的上方固定设置有伽马屏蔽前板和中子屏蔽前板，所述伽马屏蔽前板的上端固定设置有遮光板，所述相机外壳的上端固定设置有相机镜头盖板，所述相机镜片盖板的上端通过螺栓固定设置有镜头盖，所述镜头盖的上端两侧固定设置有灯罩安装座，所述灯罩安装座上安装有照明灯罩，所述照明灯罩的内部安装有LED照明灯，所述相机镜头盖板的内侧固定设置有相机镜头，所述镜头盖的底端位于相机镜头盖板内部固定设置有反光镜支架，所述反光镜支架上固定安装有反光镜。
在一个优选的实施方式中，所述反光镜背部开设有螺纹孔，所述反光镜通过螺纹孔固定安装在反光镜支架上。
在一个优选的实施方式中，所述相机外壳和镜头盖之间形成密封腔体，所述相机镜头、反光镜和反光镜支架均设置在密封腔体内部。
在一个优选的实施方式中，所述相机镜头采用抗辐射玻璃制作而成，所述相机镜头的镜片面型为球面设置。
在一个优选的实施方式中，所述相机外壳为圆柱形设置，所述相机外壳采用10mm厚的钨镍铁合金制作而成。
在一个优选的实施方式中，所述伽马屏蔽前板和中子屏蔽前板均为盘状设置，中心开设有通槽，所述摄像头贯穿伽马屏蔽前板和中子屏蔽前板设置，所述伽马屏蔽前板采用钨镍铁合金HA180材料加工制成，所述中子屏蔽前板采用硼含量为20-30％的含硼聚乙烯材料加工制成。
在一个优选的实施方式中，所述中子屏蔽支撑板的上端开设有安装槽，所述摄像头的底端嵌入安装在安装槽中，所述中子屏蔽支撑板采用硼含量为20-30％的含硼聚乙烯材料加工制成，所述中子屏蔽前板与中子屏蔽支撑板通过螺栓连接为一体。
在一个优选的实施方式中，所述伽马屏蔽端盖通过螺栓与相机外壳固定连接，所述伽马屏蔽端盖采用钨镍铁合金HA180材料加工制成。
与现有技术相比，本实用新型的技术效果和优点：
1、本实用新型通过专用光路设计、中子屏蔽和伽马屏蔽结合的方式实现对中子、伽马辐射敏感器件CMOS传感器的保护，从而整体提升耐辐照相机在中子、伽马辐射环境的使用寿命；
2、本实用新型通过采用抗辐射相机镜头、反射镜实现外部图像信息反射至摄像头传感器，获取外部图像信息，并避免中子辐射、伽马辐射直接直接照射摄像头传感器，对其造成损害；
3、采用由钨镍铁合金制成的相机外壳、伽马屏蔽前板和伽马屏蔽端盖连接形成的伽马屏蔽腔体，降低伽马辐射对摄像头传感器造成的伤害，提升耐辐照相机在伽马辐射环境的使用寿命，采用由硼含量20-30％的含硼聚乙烯制成的中子屏蔽前板、中子屏蔽支撑板连接形成的中子屏蔽腔体，降低中子辐射对摄像头传感器造成的伤害，提升耐辐照相机在中子辐射环境的使用寿命。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图。
图2为本实用新型图1中A-A截面结构示意图。
附图标记为：1相机外壳、2伽马屏蔽端盖、3中子屏蔽支撑板、4摄像头、5伽马屏蔽前板、6中子屏蔽前板、7遮光板、8相机镜头盖板、9镜头盖、10灯罩安装座、11照明灯罩、12LED照明灯、13相机镜头、14反光镜支架、15反光镜。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
根据图1-2所示的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，包括相机外壳1，所述相机外壳1的底端设置有伽马屏蔽端盖2，所述伽马屏蔽端盖2上端位于相机外壳1的内部固定设置有中子屏蔽支撑板3，所述中子屏蔽支撑板3的上端固定安装有摄像头4，所述摄像头4外侧位于CMOS传感器的上方固定设置有伽马屏蔽前板5和中子屏蔽前板6，所述伽马屏蔽前板5的上端固定设置有遮光板7，所述相机外壳1的上端固定设置有相机镜头盖板8，所述相机镜片盖板8的上端通过螺栓固定设置有镜头盖9，所述镜头盖9的上端两侧固定设置有灯罩安装座10，所述灯罩安装座10上安装有照明灯罩11，所述照明灯罩11的内部安装有LED照明灯12，所述相机镜头盖板8的内侧固定设置有相机镜头13，所述镜头盖9的底端位于相机镜头盖板8内部固定设置有反光镜支架14，所述反光镜支架14上固定安装有反光镜15。
在一个优选的实施方式中，所述反光镜15背部开设有螺纹孔，所述反光镜15通过螺纹孔固定安装在反光镜支架14上，利用螺纹孔方便将反光镜15固定安装在反光镜支架14上。
在一个优选的实施方式中，所述相机外壳1和镜头盖9之间形成密封腔体，所述相机镜头13、反光镜15和反光镜支架14均设置在密封腔体内部。
在一个优选的实施方式中，所述相机镜头13采用抗辐射玻璃制作而成，所述相机镜头13的镜片面型为球面设置，抗辐射玻璃制作的相机镜头13能够避免中子辐射、伽马辐射直接直接照射摄像头传感器，对其造成损害。
在一个优选的实施方式中，所述相机外壳1为圆柱形设置，所述相机外壳1采用10mm厚的钨镍铁合金制作而成。
在一个优选的实施方式中，所述伽马屏蔽前板5和中子屏蔽前板6均为盘状设置，中心开设有通槽，所述摄像头4贯穿伽马屏蔽前板5和中子屏蔽前板6设置，所述伽马屏蔽前板5采用钨镍铁合金HA180材料加工制成，所述中子屏蔽前板6采用硼含量为20-30％的含硼聚乙烯材料加工制成。
在一个优选的实施方式中，所述中子屏蔽支撑板3的上端开设有安装槽，所述摄像头4的底端嵌入安装在安装槽中，所述中子屏蔽支撑板3采用硼含量为20-30％的含硼聚乙烯材料加工制成，所述中子屏蔽前板6与中子屏蔽支撑板3通过螺栓连接为一体。
在一个优选的实施方式中，所述伽马屏蔽端盖2通过螺栓与相机外壳1固定连接，所述伽马屏蔽端盖2采用钨镍铁合金HA180材料加工制成。
本实用新型有益效果：1、本实用新型通过专用光路设计、中子屏蔽和伽马屏蔽结合的方式实现对中子、伽马辐射敏感器件CMOS传感器的保护，从而整体提升耐辐照相机在中子、伽马辐射环境的使用寿命；
2、本实用新型通过采用抗辐射相机镜头、反射镜实现外部图像信息反射至摄像头传感器，获取外部图像信息，并避免中子辐射、伽马辐射直接直接照射摄像头传感器，对其造成损害；
3、本实用新型采用由钨镍铁合金制成的相机外壳、伽马屏蔽前板和伽马屏蔽端盖连接形成的伽马屏蔽腔体，降低伽马辐射对摄像头传感器造成的伤害，提升耐辐照相机在伽马辐射环境的使用寿命，采用由硼含量20-30％的含硼聚乙烯制成的中子屏蔽前板、中子屏蔽支撑板连接形成的中子屏蔽腔体，降低中子辐射对摄像头传感器造成的伤害，提升耐辐照相机在中子辐射环境的使用寿命。
最后应说明的几点是：首先，在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，可以是机械连接或电连接，也可以是两个元件内部的连通，可以是直接相连，“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变，则相对位置关系可能发生改变；
其次：本实用新型公开实施例附图中，只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计，在不冲突情况下，本实用新型同一实施例及不同实施例可以相互组合；
最后：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，包括相机外壳(1)，其特征在于：所述相机外壳(1)的底端设置有伽马屏蔽端盖(2)，所述伽马屏蔽端盖(2)上端位于相机外壳(1)的内部固定设置有中子屏蔽支撑板(3)，所述中子屏蔽支撑板(3)的上端固定安装有摄像头(4)，所述摄像头(4)外侧位于CMOS传感器的上方固定设置有伽马屏蔽前板(5)和中子屏蔽前板(6)，所述伽马屏蔽前板(5)的上端固定设置有遮光板(7)，所述相机外壳(1)的上端固定设置有相机镜头盖板(8)，所述相机镜片盖板(8)的上端通过螺栓固定设置有镜头盖(9)，所述镜头盖(9)的上端两侧固定设置有灯罩安装座(10)，所述灯罩安装座(10)上安装有照明灯罩(11)，所述照明灯罩(11)的内部安装有LED照明灯(12)，所述相机镜头盖板(8)的内侧固定设置有相机镜头(13)，所述镜头盖(9)的底端位于相机镜头盖板(8)内部固定设置有反光镜支架(14)，所述反光镜支架(14)上固定安装有反光镜(15)。
2.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述反光镜(15)背部开设有螺纹孔，所述反光镜(15)通过螺纹孔固定安装在反光镜支架(14)上。
3.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述相机外壳(1)和镜头盖(9)之间形成密封腔体，所述相机镜头(13)、反光镜(15)和反光镜支架(14)均设置在密封腔体内部。
4.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述相机镜头(13)采用抗辐射玻璃制作而成，所述相机镜头(13)的镜片面型为球面设置。
5.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述相机外壳(1)为圆柱形设置，所述相机外壳(1)采用10mm厚的钨镍铁合金制作而成。
6.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述伽马屏蔽前板(5)和中子屏蔽前板(6)均为盘状设置，中心开设有通槽，所述摄像头(4)贯穿伽马屏蔽前板(5)和中子屏蔽前板(6)设置，所述伽马屏蔽前板(5)采用钨镍铁合金HA180材料加工制成，所述中子屏蔽前板(6)采用硼含量为20-30％的含硼聚乙烯材料加工制成。
7.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述中子屏蔽支撑板(3)的上端开设有安装槽，所述摄像头(4)的底端嵌入安装在安装槽中，所述中子屏蔽支撑板(3)采用硼含量为20-30％的含硼聚乙烯材料加工制成，所述中子屏蔽前板(6)与中子屏蔽支撑板(3)通过螺栓连接为一体。
8.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述伽马屏蔽端盖(2)通过螺栓与相机外壳(1)固定连接，所述伽马屏蔽端盖(2)采用钨镍铁合金HA180材料加工制成。
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