CN214830634U - 一种真空镀膜机的离子辅助装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于真空镀膜机技术领域，具体涉及一种真空镀膜机的离子辅助装置，包括离子辅助装置保护罩，所述离子辅助装置保护罩的内部设置有离子蒸发装置，所述离子蒸发装置的一侧固定设有安装架，所述安装架的顶部设置有粒子发射源，本实用新型设置了相互配合的粒子发射源、主导链接管、离子蒸发装置和离子辅助装置保护罩，即通过控制器设置需要输出流量，控制系统会依据控制器设置需要输出流量计算离子辅助装置所需要的电流，然后通过控制器自动传送给离子发装置，通过这样的设置让离子辅助装置减少发热小、减少环境影响、无污染，可极大提升膜层的稳定性、附着力、致密度。

Description

一种真空镀膜机的离子辅助装置

技术领域

本实用新型属于真空镀膜机技术领域，具体涉及一种真空镀膜机的离子辅助装置。

背景技术

随着科技技术的不断发展，真空镀膜技术得到了广范的应用，陶瓷、PC、常规塑料件、金属、玻璃、水晶玻璃等都能使用真空镀膜机进行二次加工处里。

通过真空镀膜机加工可以使产品的外观更美观，表面更光滑，金属光泽彩色化，玻璃的透过率的提升，带宽的改变等，改善表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜，硬度及耐磨性大大增加；

现有的昭和离子辅助装置发热量大，同时对环境具有极大的影响，而且现有的膜层的稳定性差、附着力低。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机的离子辅助装置，以解决上述背景技术中提出的现有的昭和离子辅助装置发热量大，同时对环境具有极大的影响，而且现有的膜层的稳定性差、附着力低的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空镀膜机的离子辅助装置，包括离子辅助装置保护罩，所述离子辅助装置保护罩的内部设置有离子蒸发装置，所述离子蒸发装置的一侧固定设有安装架，所述安装架的顶部设置有粒子发射源，所述粒子发射源设置在离子蒸发装置的上方。

优选的，所述离子辅助装置保护罩的一侧设置有电机，所述电机的一端设置有支架，所述支架的一端固定设有离子辅助装置盖板，所述离子辅助装置盖板设置在离子辅助装置保护罩的上方，所述电机上安装有控制器。

优选的，所述电机的一端设置有传动架，所述电机的一端转动设有转轴，所述转轴的一端贯穿传动架，并与传动架转动连接。

优选的，所述支架的内部开设有卡槽，所述传动架的一端延伸至卡槽的内部，并与卡槽滑动连接。

优选的，所述卡槽的内侧开设有螺纹槽，所述转轴的一端延伸至螺纹槽的内部，并与螺纹槽旋合连接。

优选的，所述安装架与粒子发射源之间固定设有固定架，所述固定架上设置有支撑架。

优选的，所述粒子发射源靠近离子蒸发装置的一端设置有离子蒸发装置螺母，所述粒子发射源的另一端设置有导气管，所述导气管的一端连接有主导管连接管，所述支撑架设置在导气管和主导管连接管之间。

优选的，所述主导管连接管的一端设置在固定架上，所述固定架与主导管连接管之间设置有绝缘管。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

（1）本实用新型设置了相互配合的粒子发射源、主导链接管、离子蒸发装置和离子辅助装置保护罩，即通过控制器设置需要输出流量，控制系统会依据控制器设置需要输出流量计算离子辅助装置所需要的电流，然后通过控制器自动传送给离子发装置，通过这样的设置让离子辅助装置减少发热小、减少环境影响、无污染，可极大提升膜层的稳定性、附着力、致密度。

（2）本实用新型设置了位于电机上的离子辅助装置盖板，在完成工作后离子辅助装置盖板可以在转轴和传动架的作用下自动盖住粒子发射源，从而很好的保护粒子发射源不会在阻蒸或电子枪工作时污染，这样不仅延长了使用周期，同时也提升了品质。

附图说明

图1为本实用新型的立体图；

图2为本实用新型的结构视图；

图3为本实用新型的侧视图；

图4为本实用新型支架与传动架的结构示意图；

图5为本实用新型支架的结构示意图；

图中：1、控制器；2、离子蒸发装置；3、支架；4、固定架；5、粒子发射源；6、离子蒸发装置螺母；7、绝缘管；8、支撑架；9、导气管；10、卡槽；11、螺纹槽；12、主导管连接管；13、离子辅助装置保护罩；14、离子辅助装置盖板；15、电机；16、安装架；17、传动架；18、转轴。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-图5所示，本实用新型提供一种技术方案：一种真空镀膜机的离子辅助装置，包括离子辅助装置保护罩13，离子辅助装置保护罩13的内部设置有离子蒸发装置2，离子蒸发装置2的一侧固定设有安装架16，安装架16的顶部设置有粒子发射源5，粒子发射源5设置在离子蒸发装置2的上方，通过离子辅助装置保护罩13可对粒子发射源5周边进行有效的防护。

进一步的，离子辅助装置保护罩13的一侧设置有电机15，电机15的一端设置有支架3，支架3的一端固定设有离子辅助装置盖板14，离子辅助装置盖板14设置在离子辅助装置保护罩13的上方，电机15上安装有控制器1。

具体地，电机15的一端设置有传动架17，电机15的一端转动设有转轴18，转轴18的一端贯穿传动架17，并与传动架17转动连接，在完成工作后离子辅助装置盖板14在电机15和传动架17的作用下，可以自动将粒子发射源5密封在离子辅助装置保护罩13中。

值得说明的是，支架3的内部开设有卡槽10，传动架17的一端延伸至卡槽10的内部，并与卡槽10滑动连接，通过卡槽10与传动架17的卡合，让支架3可以在传动架17上滑动。

进一步的，卡槽10的内侧开设有螺纹槽11，转轴18的一端延伸至螺纹槽11的内部，并与螺纹槽11旋合连接，在螺纹槽11与卡槽10之间相互配合下，让转轴18的旋转力转变成支架3在传动架17上垂直移动的力。

进一步的，安装架16与粒子发射源5之间固定设有固定架4，固定架4上设置有支撑架8。

进一步的，粒子发射源5靠近离子蒸发装置2的一端设置有离子蒸发装置螺母6，粒子发射源5的另一端设置有导气管9，导气管9的一端连接有主导管连接管12，支撑架8设置在导气管9和主导管连接管12之间。

进一步的，主导管连接管12的一端设置在固定架4上，固定架4与主导管连接管12之间设置有绝缘管7。

综上，上述电机15与控制器1电性连接，电机15采用永磁可逆同步减速电机，控制器1采用可编程式控制器。

本实用新型的工作原理及使用流程：本实用新型在使用时，固定架4将粒子发射源5固定在离子蒸发装置2一侧的安装架16上，导气管9将粒子发射源5与主导管连接管12进行连接，并通过支撑架8进行固定，离子蒸发装置螺母6辅助粒子发射源5进行工作，通过控制器1面板设置需要输出流量，控制系统会依据控制器1面板设置需要输出流量计算离子辅助装置所需要的电流，然后通过调节器自动传送给离子蒸发装置2，离子辅助装置保护罩13可对粒子发射源5周边有效的防护，在完成工作后电机15启动，转轴18在传动架17的内部转动，同时在支架3内部螺纹槽11中旋合，从而让支架3在卡槽10的作用下在传动架17上滑动，进而让离子辅助装置盖板14可以自动将粒子发射源5密封在离子辅助装置保护罩13中。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (8)

1.一种真空镀膜机的离子辅助装置，包括离子辅助装置保护罩（13），其特征在于：所述离子辅助装置保护罩（13）的内部设置有离子蒸发装置（2），所述离子蒸发装置（2）的一侧固定设有安装架（16），所述安装架（16）的顶部设置有粒子发射源（5），所述粒子发射源（5）设置在离子蒸发装置（2）的上方。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述离子辅助装置保护罩（13）的一侧设置有电机（15），所述电机（15）的一端设置有支架（3），所述支架（3）的一端固定设有离子辅助装置盖板（14），所述离子辅助装置盖板（14）设置在离子辅助装置保护罩（13）的上方，所述电机（15）上安装有控制器（1）。

3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述电机（15）的一端设置有传动架（17），所述电机（15）的一端转动设有转轴（18），所述转轴（18）的一端贯穿传动架（17），并与传动架（17）转动连接。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述支架（3）的内部开设有卡槽（10），所述传动架（17）的一端延伸至卡槽（10）的内部，并与卡槽（10）滑动连接。

5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述卡槽（10）的内侧开设有螺纹槽（11），所述转轴（18）的一端延伸至螺纹槽（11）的内部，并与螺纹槽（11）旋合连接。

6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述安装架（16）与粒子发射源（5）之间固定设有固定架（4），所述固定架（4）上设置有支撑架（8）。

7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述粒子发射源（5）靠近离子蒸发装置（2）的一端设置有离子蒸发装置螺母（6），所述粒子发射源（5）的另一端设置有导气管（9），所述导气管（9）的一端连接有主导管连接管（12），所述支撑架（8）设置在导气管（9）和主导管连接管（12）之间。

8.根据权利要求7所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述主导管连接管（12）的一端设置在固定架（4）上，所述固定架（4）与主导管连接管（12）之间设置有绝缘管（7）。

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