CN214830257U - 基因扩增设备 - Google Patents
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Abstract
一种基因扩增设备。基因扩增设备包括支架、旋转承座、马达以及第一气流产生器;旋转承座可转动地设置于支架,旋转承座具有容置槽及气流流道,至少一样本放置于容置槽,且容置槽位于气流流道或其延伸路径上;马达设于支架,用以驱动旋转承座相对支架转动;第一气流产生器用以产生第一气流,且第一气流沿气流流道流动而流过容置槽。本实用新型提供的基因扩增设备通过在旋转承座的导热盘体上直接设置经过放置试管处的气流流道,使得气流能直接对试管进行升降温,并且通过将加热盘的加热器直接热接触导热盘体,且导热盘体在试管放置处有镂空结构,使得加热器提供的热能更集中地传导至试管放置处,以让基因扩增设备符合实时升温的需求。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种基因扩增设备,尤其涉及一种旋转承座具有气流流道设计的基因扩增设备。
背景技术
聚合酶连锁反应(Polymerase chain reaction,PCR)是利用基因聚合酶对基因进行连锁复制,其中,实时定量聚合酶连锁反应(Real-Time PCR,qPCR)可实时监测整个聚合酶连锁反应。聚合酶连锁反应主要包括温控部分及检测部分。温控部分提供聚合酶连锁反应所需要的热循环温度。而检测部分是利用特定激发光波长使荧光试剂释放出荧光反应,再藉由光学感测器及滤镜来撷取和检测特定波段。执行一次聚合酶连锁反应约可得到2倍的聚合酶连锁反应产物,执行N次后约可得到2N的聚合酶连锁反应产物,而在聚合酶连锁反应产物倍增时,荧光反应逐步增强累积,因此,实时定量聚合酶连锁反应实时地监测整个聚合酶连锁反应的温度变化与荧光变化,记录循环数与荧光强度的变化值,即可对基因作量化分析。
在公知技术中,存放有待测基因的试管放置于基因扩增设备的试管载座。试管载座具有导热效果。加热器与热电致冷芯片(Thermoelectric Cooling Module,TEC)热接触试管载座,以通过试管载座对试管进行加热或冷却。散热鳍片热接触于加热器与热电致冷芯片,以将加热器与热电致冷芯片所产生的废热排出。然而,目前散热鳍片的尺寸恐不足以支持实时温控的需求,且受限于基因扩增设备的体积限制,也难以大幅度地增加散热鳍片的尺寸。
因此,需要提供一种基因扩增设备来解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的一实施例所公开的基因扩增设备适于对至少一样本进行基因扩增。基因扩增设备包括支架、旋转承座、马达以及第一气流产生器。旋转承座可转动地设置于支架。旋转承座具有容置槽及气流流道。至少一样本放置于容置槽,且容置槽位于气流流道或其延伸路径上。马达设于支架,用以驱动旋转承座相对支架转动。第一气流产生器用以产生第一气流,且第一气流沿气流流道流动而流过容置槽。
本实用新型的另一实施例所公开的基因扩增设备包括支架、承座、导风罩以及第一气流产生器。承座设置于支架。承座具有容置槽及气流流道。容置槽位于气流流道或其延伸路径上。导风罩具有入风口及出风口,导风罩的出风口连通气流流道。第一气流产生器位于导风罩的入风口,第一气流产生器用以产生第一气流,第一气流自入风口往出风口而流向气流流道并流过容置槽。
根据上述实施例的基因扩增设备,通过在旋转承座的导热盘体上直接设置经过放置试管(样本)处的气流流道,使得气流能直接对试管(样本)进行升降温,以让基因扩增设备符合实时升降温的需求。再者,通过在加热盘的导热盘体上设置散热鳍片,以进一步提升散热气流对试管的降温速度。此外,通过将加热盘的加热器直接热接触于导热盘体,且导热盘体在试管放置处有镂空结构,使得加热器所提供的热能可更集中地传导至试管放置处,以让基因扩增设备符合实时升温的需求。
以上关于本实用新型内容的说明及以下实施方式的说明用以示范与解释本实用新型的原理,并且提供本实用新型的权利要求书的范围更进一步的解释。
附图说明
图1显示本实用新型第一实施例的基因扩增设备的立体示意图。
图2显示本实用新型第一实施例的基因扩增设备进行聚合酶连锁反应所需要的三阶段热循环温度示意图。
图3显示本实用新型第一实施例的基因扩增设的剖面示意图。
图4显示本实用新型第一实施例的导风罩的立体示意图。
图5显示本实用新型第一实施例的基因扩增设的另一割面的剖面示意图。
图6显示本实用新型第一实施例的基因扩增设的局部分解示意图。
图7显示本实用新型第一实施例的导热盘体另一视角的立体示意图。
图8显示本实用新型第一实施例的基因扩增设备的局部分解示意图。
图9显示本实用新型第一实施例的基因扩增方法的流程示意图。
图10显示本实用新型第一实施例的基因扩增设备进行基因扩增程序的时间温度曲线示意图。
图11显示本实用新型第一实施例的基因扩增方法的具体实施例。
图12显示本实用新型第二实施例的导热盘体的立体示意图。
图13显示本实用新型第三实施例的导热盘体的立体示意图。
图14显示本实用新型第四实施例的导热盘体的立体示意图。
图15显示本实用新型第五实施例的第一气流产生器与导风罩的平面示意图。
图16显示本实用新型第六实施例的第一气流产生器、导风罩与平移承座的平面示意图。
图17显示本实用新型第七实施例的加热盘的分解示意图。
图18显示本实用新型第八实施例的导风罩、加热器与第一气流产生器的立体示意图。
主要组件符号说明:
1 基因扩增设备
2 试管
100 支架
110 底部
120 支撑部
200 旋转承座(承座)
200e 平移承座(承座)
210 旋转盘
211 穿槽
220、220f 加热盘
221、221a、221b、221c、221f 导热盘体
2211、2211f 穿槽
2212、2212a、2212b 散热鳍片
2213、2213a、2213b、2213c 气流流道
2214 镂空结构
222、222f 加热器
230 旋转盘盖
240 挡风盘
241 中央开口
242 穿孔
250 隔热件
300 马达
310 输出轴
400、400d、400e、400g 第一气流产生器
500、500d、500e、500g 导风罩
510 导引流道
520 入风口
530 出风口
600 光学系统
700 第二气流产生器
800 中央控制模块
900g 加热器
a 方向
A 旋转轴心
C 容置槽
F1 第一气流
F2 第二气流
具体实施方式
请参阅图1与图2。图1显示本实用新型第一实施例的基因扩增设备的立体示意图。图2显示本实用新型第一实施例的基因扩增设备进行聚合酶连锁反应所需要的三阶段热循环温度示意图。
如图1所示,本实用新型实施例的基因扩增设备1为一种实时定量聚合酶连锁反应(qPCR)设备,其主要包括温控系统、光学系统及转动系统。温控系统例如利用热电致冷芯片(Thermoelectric Cooling Module,TEC)、加热器、风扇或散热鳍片进行加热和冷却以达到快速升降温。如图2所示,温控系统对含有荧光试剂的试管提供聚合酶连锁反应所需要的三阶段热循环温度。每一次聚合酶连锁反应须包括升温至95℃的变性作用(Denaturation)、降温至50℃~60℃的退火作用(Annealing)、及再升温至72℃的延伸作用(Extension)。光学系统对试管中的荧光试剂在每一次热循环后所激发出的荧光反应进行撷取数值及定量分析。转动系统利用马达转动温控系统的转盘(在一实施例中,转盘例如乘载有16个试管),使16个含有荧光试剂的试管可分别对应不同的光学系统位置,利用光学系统的特定激发光波长使荧光试剂释放出荧光反应,接着光学系统中的光电感测器(Photodiode)撷取荧光亮度及分析最后的基因浓度。上述各温度值可视不同基因及不同试剂而变化调整。
光学系统具有四个光学装置,每一光学装置包括一激发滤镜(Excitationfilter)、一发射滤镜(Emission filter)及一光电感测器(Photodiode)。在一实施例中,上述光学装置可用以检测四种特定荧光:绿(激发波长494nm、发射波长520nm)、黄(激发波长550nm、发射波长570nm)、橘(激发波长575nm、发射波长602nm)、红(激发波长646nm、发射波长662nm)。
就光学装置的细部而言,在光学装置中,由单色发光二极管(LED)发出的光线,穿过激发滤镜(Excitation filter),再被分光滤镜(Dichroic filter)反射(分光滤镜(Dichroic filter)能反射短波而使长波穿透),向上照射在装有荧光试剂的试管底部,荧光试剂受到激发后,所发射的荧光穿过分光滤镜再穿过发射滤镜(Emission filter),筛选掉所有不需要的噪声光源后被光电感测器(Photodiode)接收,在一连串的光路后观测最终的荧光特性变化以进行分析。
转动系统的马达直接转动温控系统,使温控系统上含有荧光试剂的试管可分别对应四个光学装置位置以进行检测。在一实施例中,转动系统可以包括极限感测器(limitsensor),其利用光遮断方式检测马达转动位置中的初始点(Home)和停止点(End),并通过固件和软件区别目前正在检测的试管。
请参阅图1与图3至图7。图3显示本实用新型第一实施例的基因扩增设的剖面示意图。图4显示本实用新型第一实施例的导风罩的立体示意图。图5显示本实用新型第一实施例的基因扩增设的另一割面的剖面示意图。图6显示本实用新型第一实施例的基因扩增设的局部分解示意图。图7显示本实用新型第一实施例的导热盘体另一视角的立体示意图。
如图1与图3所示,本实用新型实施例的基因扩增设备1适于对至少一样本进行基因扩增。基因扩增设备1包括一支架100、一承座(如一旋转承座200)、一马达300及一第一气流产生器400。
在一实施例中,支架100包括一底部110及一支撑部120。支撑部120立于底部110。
如图3至图6所示,旋转承座200包括一旋转盘210、一加热盘220及一旋转盘盖230。旋转盘210例如由塑胶等绝缘材质制成,并可绕旋转承座200的一旋转轴心A相对支架100转动,如沿方向a转动。旋转盘210具有多个穿槽211。这些穿槽211绕旋转承座200的旋转轴心A呈环状排列。
加热盘220例如固定于旋转盘210,并包括一导热盘体221及一加热器222。导热盘体221用来承载样本,如待基因扩增的液体。加热器222热接触于导热盘体221。当加热器222启动时,加热器222会通过导热盘体221对样本进行加热。在一实施例中,加热器222亦可改为致冷芯片,并非用以限制本实用新型。
加热盘220的导热盘体221的外形例如为圆形,并具有多个穿槽2211,这些穿槽2211绕旋转承座200的旋转轴心A呈环状排列。而穿槽2211与穿槽211共同构成容置槽C。也就是说,这些容置槽C绕旋转承座200的旋转轴心A呈环状排列。容置槽C用以放置存放有样本(未绘示)的试管2。旋转盘210用以防止试管2倾斜,并且加热盘220用以对试管2加热。
加热盘220的导热盘体221在远离旋转盘210的一侧具有多个散热鳍片2212。这些散热鳍片2212的形状例如呈平板状,并呈放射状排列,以分隔出多个气流流道2213。容置槽C分别位于气流流道2213或其延伸路径上。或是说,在导热盘体221的径向方向上,容置槽C位于气流流道2213内侧或外侧。如此一来,当气流流道2213有气流流过时,流经气流流道2213的气流会顺势流经容置槽C旁,并将容置槽C周围的废热带走,以对容置槽C内的试管2进行降温。
在一实施例中,加热盘220的导热盘体221还可以具有一镂空结构2214,如开口。镂空结构2214位于导热盘体221未设置穿槽2211的位置,如导热盘体221的中央处,以让导热盘体221所接收到热能集中传导至穿槽2211(容置槽C)处。不过,本实施例的镂空结构2214的设计并非用以限制本实用新型,在其他实施例中,导热盘体亦可不设置镂空结构2214。
旋转盘盖230可拆卸地装设于旋转盘210,并覆盖这些容置槽C。当旋转盘盖230自旋转盘210拆下时,使用者能够将试管2放进容置槽C或自容置槽C取出。当旋转盘盖230安装于旋转盘210时,旋转盘盖230会抵压试管2,以将试管2固定于容置槽C内并用以施加压力使试管接触加热盘220。
在一实施例中,容置槽C的数量为多个,但并不以此为限。在其他实施例中,容置槽C的数量也可以仅为单个。
在一实施例中,旋转承座200还可以包括一挡风盘240。挡风盘240位于加热盘220远离旋转盘210的一侧,并遮盖于这些气流流道2213的一侧,以避免气流流道2213内的气流朝远离旋转盘210的方向外泄。也就是说,挡风盘240位于加热盘220轴向上的一侧,以将气流流道2213内的气流集中朝径向方向上的容置槽C处吹。挡风盘240具有一中央开口241及多个穿孔242。这些穿孔242绕旋转承座200的旋转轴心A呈环状排列。这些穿孔242分别对准这些容置槽C,且这些穿孔242供光学系统600(参阅图1与图8)的检测光线穿过而让光学系统600能够对放置于容置槽C的试管2中的样本进行检测。
在一实施例中,挡风盘240具有这些穿孔242,以供光学系统600的检测光线照射到试管2,但并不以此为限。在其他实施例中,若挡风盘240的材质具透光能力,则挡风盘240亦可无需开设这些穿孔242。
在一实施例中,旋转承座200还可以包括一隔热件250,隔热件250例如为塑胶,并介于旋转盘210与加热盘220(加热器222)之间,以避免加热盘220所产生的热量分散到旋转盘210。如此一来,提升加热盘220对容置槽C内试管2的加热速度。
在一实施例中,导热盘体221的形状以圆板状为例而便于通过轴向与径向来说明容置槽C、挡风盘240与气流流道2213间的位置关系,但并不以此为限。在其他实施例中,导热盘体221的形状也可以改为其他几何形状,如方形板状。
如图3所示,马达300具有一输出轴310,且旋转承座200的旋转盘210固定于马达300的输出轴310。当马达300启动时,马达300会带动旋转承座200相对支架100转动。
如图3至图5所示,加热器222与第一气流产生器400例如构成上述的温控系统。第一气流产生器400例如为风扇,且第一气流产生器400所产生的第一气流F1用以流向这些气流流道2213,以通过第一气流F1来对容置槽C内的试管2进行降温。详细来说,本实施例的基因扩增设备1还可以包括一导风罩500。导风罩500介于旋转承座200与第一气流产生器400之间,且第一气流产生器400较导风罩500靠近底部110。导风罩500具有一导引流道510、一入风口520及一出风口530。入风口520与出风口530分别连通于导引流道510的相异两侧。第一气流产生器400位于导风罩500的入风口520,导风罩500的出风口530通过挡风盘240的中央开口241连通气流流道2213。如此一来,第一气流产生器400所产生的第一气流F1会先经导引流道510的导引垂直向上流向加热盘220,再经气流流道2213的导引水平流向容置槽C处,以对容置槽C内的试管2进行降温。
由于第一气流产生器400所产生的第一气流F1直接吹向容置槽C内的试管2,故试管2的降温效果较佳。
如图3所示,在本实施例中,马达300的输出轴310穿过导风罩500的导引流道510,并连接于旋转承座200。如此一来,即可让旋转承座200、马达300与导风罩500在有限的空间中较密集地排列,以进一步缩小基因扩增设备1的体积。不过,马达300的输出轴310穿过导风罩500的导引流道510并非用以限制本实用新型。在其他实施例中,马达的输出轴亦可无需穿过导风罩的导引流道。
在一实施例中,上述的转动系统是以马达300为例,但并不以此为限。在其他实施例中,转动系统亦可以改为其他可让旋转承座200旋转的元件。
如图3与图4所示,在本实施例中,入风口520与第一气流产生器400的数量例如但不限于各有四个。这些第一气流产生器400分别对应设置于入风口520,使得这些第一气流产生器400所产生的第一气流F1一起流向容置槽C处的试管2。采用多个第一气流产生器400的用意为在相同流量输出的情况下,可选择较小尺寸的第一气流产生器400,而一般来说较小尺寸的第一气流产生器400的噪音较小。
请参阅图1与图8,图8显示本实用新型第一实施例的基因扩增设备的局部分解示意图。在一实施例中,基因扩增设备1还可以包括一光学系统600,光学系统600固定于支架100,并位于导风罩500周围。
在一实施例中,基因扩增设备1还可以包括一第二流体产生器700,第二流体产生器700装设于支架100并用以产生吹向光学系统600的一第二气流F2。第二气流F2可对基因扩增设备1整体内部进行降温。
请再参阅图1与图3,在一实施例中,基因扩增设备1还可以包括一中央控制模块800。中央控制模块800固定于支架100的底部110,并例如通过有线或无线的方式通信(电)连接加热器222、马达300、第一气流产生器400、光学系统600及第二气流产生器700,以控制加热器222、马达300、第一气流产生器400、光学系统600及第二气流产生器700的开启与关闭。
请参阅图9,图9显示本实用新型第一实施例的基因扩增方法的流程示意图,适于对至少一样本进行基因扩增,包括下列步骤。首先,如步骤S11所示,提供前述的基因扩增设备1。接着,如步骤S12所示,在一第一升温步骤中,以温控系统将导热盘体221提升至一第一温度。接着,如步骤S13所示,在一第一定温步骤中,以温控系统将导热盘体221维持于第一温度。接着,如步骤S14所示,在一第一降温步骤中,以温控系统将导热盘体221冷却至一第二温度。接着,如步骤S15所示,在一检测步骤中,以温控系统将导热盘体221维持于第二温度。接着,如步骤S16所示,在一第二升温步骤中,以温控系统将导热盘体221提升至一第三温度。接着,如步骤S17所示,在一第二定温步骤中,以温控系统将导热盘体221维持于第三温度。接着,如步骤S18所示,在一第三升温步骤中,以温控系统将导热盘体221提升至第一温度。经由上述步骤S11至步骤S18能通过温控系统进行导热盘体221的温度控制,更精确的说,能通过温控系统进行试管2与试管2内的样本的温度控制。
请参阅图10与图11,图10显示本实用新型第一实施例的基因扩增设备进行基因扩增程序的时间温度曲线示意图。图11显示本实用新型第一实施例的基因扩增方法的具体实施例。如步骤S12所示,在一第一升温步骤中,以温控系统将导热盘体221提升至一第一温度(95℃),如通过加热器222来让导热盘体221增温。接着,如步骤S13所示,在一第一定温步骤中,以温控系统将导热盘体221维持于第一温度(95℃)。接着,如步骤S14所示,在一第一降温步骤中,以温控系统将导热盘体221冷却至一第二温度(50℃),如通过第一气流产生器400所产生的气流将导热盘体221冷却至第二温度(50℃),藉此降低试管的温度。接着,如步骤S15所示,在一检测步骤中,以温控系统将导热盘体221维持于第二温度(50℃、检测)。接着,如步骤S16所示,在一第二升温步骤中,以温控系统将导热盘体221提升至一第三温度(72℃),如通过加热器222来让导热盘体221增温。接着,如步骤S17所示,在一第二定温步骤中,以温控系统将导热盘体221维持于第三温度(72℃)。接着,如步骤S18所示,在一第三升温步骤中,以温控系统将导热盘体221提升至第一温度(95℃),如通过加热器222来让导热盘体221增温。在达到循环数之前,通过重复上述步骤S13~步骤S18,可以获得基因扩增的效果。而在达到循环数之后,则结束程序。
请参阅图12,图12显示本实用新型第二实施例的导热盘体的立体示意图。在本实施例中,导热盘体221a的散热鳍片2212a的形状呈柱状,这些散热鳍片2212a分成多组,如3个散热鳍片2212a为一组。每一组中的各散热鳍片2212a沿导热盘体221a的径向方向排列,且这些散热鳍片2212a组呈环状排列。此外,各组散热鳍片2212a中的任意两者相邻间隔设置而形成一气流流道2213a。
请参阅图13,图13显示本实用新型第三实施例的导热盘体的立体示意图。在本实施例中,导热盘体221b的每一散热鳍片2212b的形状呈曲形板状,并呈放射状排列。任意两相邻的散热鳍片2212b间隔设置而形成一气流流道2213b。
请参阅图14,图14显示根据本实用新型第四实施例的导热盘体的立体示意图。在本实施例中,导热盘体221c未设有散热鳍片,也就是说,气流流道2213c呈现完整的环形。
上述第一气流产生器400的数量为多个,但并不以此为限。请参阅图15,图15显示本实用新型第五实施例的第一气流产生器与导风罩的平面示意图。在本实施例中,第一气流产生器400d的数量为单个,且导风罩500d的外形依据第一气流产生器400d的数量微调。
上述基因扩增设备1的承座采用旋转承座200,但并不以此为限。请参阅图3与图16,图16显示本实用新型第六实施例的第一气流产生器、导风罩与平移承座的平面示意图。在本实施例中,平移承座200e与第一气流产生器400e分别位于导风罩500e的相对两侧。平移承座200e与上述旋转承座200的功能类似,皆能够用来承载试管并对试管进行加热,其差异仅在于旋转承座200相对支架100转动,而平移承座200e相对支架100平移。第一气流产生器400e所产生的气流经导风罩500e的导引而流向平移承座200e所承载的试管。
上述加热器222的数量为单个,并围绕导热盘体221的镂空结构,但并不以此为限。请参阅图17,图17显示本实用新型第七实施例的加热盘的分解示意图。在本实施例中,加热盘220f包括一导热盘体221f及多个加热器222f。加热器222f热接触于导热盘体221f,并围绕导热盘体221f的穿槽2211f,以重点对试管放置处进行加热,或是可个别控制各穿槽2211f处的温度,以更精准地对试管及试管内的样本个别/局部调控温度。
在一实施例中,加热器222f例如为氮化铝陶瓷加热片,氮化铝陶瓷加热片具有高热传导系数、高硬度、低热膨胀系数、抗腐蚀、低介电损失、无毒性、电气绝缘的效果。
上述加热器222热接触于导热盘体221,但并不以此为限。请参阅图18,图18显示本实用新型第八实施例的导风罩、加热器与第一气流产生器的立体示意图。在本实施例中,加热器900g例如为陶瓷加热器并位于第一气流产生器400g的气流流动路径上。在本实施例中,第一气流产生器400g的数量以四个为例,加热器900g的数量以两个为例,且其中两个第一气流产生器400g直接装设于导风罩500g,以及另外两个第一气流产生器400g通过两个加热器900g装设于导风罩500g。如此一来,当搭配加热器900g的第一气流产生器400g运转时,第一气流产生器400g所产生的气流会经过加热器900g的加热再吹向容置槽处,藉以对容置槽处的试管加热。更进一步来说,欲将导热盘体升温时,则将加热器900g及配有加热器900g的两个第一气流产生器400g开启,另外两个第一气流产生器400g关闭。反之,欲将导热盘体降温时,则将加热器900g及配有加热器900g的两个第一气流产生器400g关闭,另外两个第一气流产生器400g开启。在一实施例中,欲将导热盘体降温时,亦可将加热器900g关闭,四个第一气流产生器400g均开启,使得降温效果较佳。
在一实施例中,加热器900g与第一气流产生器400g的位置可以对调,也就是说改成加热器通过第一气流产生器装设于导风罩。
根据上述实施例的基因扩增设备,通过在旋转承座的导热盘体直接设置经过放置试管(样本)处的气流流道,使得气流能直接对试管(样本)进行升降温,以让基因扩增设备符合实时升降温的需求。
再者,通过在加热盘的导热盘体上设置散热鳍片,以进一步提升散热气流对试管的降温速度。
此外,通过将加热盘的加热器直接热接触于导热盘体,且导热盘体在试管放置处有镂空结构,使得加热器所提供的热能可更集中地传导至试管放置处,以让基因扩增设备符合实时升温的需求。
虽然本实用新型以前述的诸项实施例公开如上,然而其并非用以限定本实用新型,任何本领域技术人员,在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下,当可作些许的更动与润饰,因此本实用新型的专利保护范围须视本说明书所附的权利要求书的范围所界定者为准。
Claims (22)
1.一种基因扩增设备,适于对至少一样本进行基因扩增,其特征在于,该基因扩增设备包括:
一支架;
一旋转承座,该旋转承座可转动地设置于该支架,该旋转承座具有一容置槽及一气流流道,该至少一样本放置于该容置槽且该容置槽位于该气流流道或其延伸路径上;
一马达,该马达设于该支架,用以驱动该旋转承座相对该支架转动;以及
一第一气流产生器,该第一气流产生器用以产生一第一气流,该第一气流沿该气流流道流动而流过该容置槽。
2.如权利要求1所述的基因扩增设备,其特征在于,该旋转承座具有多个气流流道且包括多个散热鳍片,该等散热鳍片分隔出该等气流流道,该容置槽位于其中一该气流流道或其延伸路径上,该第一气流产生器所产生的该第一气流用以流向该等气流流道。
3.如权利要求2所述的基因扩增设备,其特征在于,每一该散热鳍片的形状呈平板状,并呈放射状排列。
4.如权利要求2所述的基因扩增设备,其特征在于,每一该散热鳍片的形状呈曲形板状,并呈放射状排列。
5.如权利要求2所述的基因扩增设备,其特征在于,每一该散热鳍片的形状呈柱状,并呈环状排列。
6.如权利要求1所述的基因扩增设备,其特征在于,该基因扩增设备还包括一导风罩,该导风罩具有一导引流道、一入风口及一出风口,该入风口与该出风口分别连通于该导引流道的相异两侧,该第一气流产生器位于该导风罩的该入风口,该导风罩的该出风口连通该气流流道,以令该第一气流产生器所产生的该第一气流经该导引流道流向该气流流道。
7.如权利要求6所述的基因扩增设备,其特征在于,该马达包括一输出轴,该输出轴穿过该导风罩的该导引流道,并连接于该旋转承座。
8.如权利要求6所述的基因扩增设备,其特征在于,该基因扩增设备还包括多个第一气流产生器,该导风罩具有多个入风口,该等第一气流产生器分别设置于该等入风口。
9.如权利要求6所述的基因扩增设备,其特征在于,该支架包括一底部及一支撑部,该支撑部立于该底部,该导风罩介于该旋转承座与该第一气流产生器之间,且该第一气流产生器较该导风罩靠近该底部。
10.如权利要求6所述的基因扩增设备,其特征在于,该基因扩增设备还包括一光学系统,该光学系统固定于该支架,并位于该导风罩周围。
11.如权利要求10所述的基因扩增设备,其特征在于,该基因扩增设备还包括一第二流体产生器,该第二流体产生器装设于该支架并用以产生吹向该光学系统的一第二气流。
12.如权利要求1所述的基因扩增设备,其特征在于,该旋转承座包括一旋转盘、一加热盘及一旋转盘盖,该马达包括一输出轴,该旋转盘固定于该马达的该输出轴,该加热盘固定于该旋转盘,该容置槽位于该旋转盘与该加热盘,该旋转盘盖可拆卸地装设于该旋转盘,并覆盖该容置槽。
13.如权利要求12所述的基因扩增设备,其特征在于,该加热盘包括一导热盘体及一加热器,该加热器对该导热盘体加热。
14.如权利要求13所述的基因扩增设备,其特征在于,该导热盘体具有多个穿槽,该加热盘包括多个加热器,该等加热器围绕该导热盘体的该等穿槽。
15.如权利要求13所述的基因扩增设备,其特征在于,该旋转承座具有多个容置槽及多个气流流道,该加热盘的该导热盘体包括多个散热鳍片,该等散热鳍片位于该导热盘体远离该旋转盘的一侧,该等散热鳍片分隔出该等气流流道,该等容置槽分别位于该等气流流道或其延伸路径上。
16.如权利要求12所述的基因扩增设备,其特征在于,该旋转承座还包括一挡风盘,该挡风盘位于该加热盘远离该旋转盘的一侧,并遮盖于该气流流道的一侧。
17.如权利要求12所述的基因扩增设备,其特征在于,该旋转承座还包括一隔热件,该隔热件介于该旋转盘与该加热盘之间。
18.如权利要求1所述的基因扩增设备,其特征在于,该旋转承座具有多个容置槽,该等容置槽绕该旋转承座的一旋转轴心呈环状排列,该至少一样本适于被置于任一该容置槽之中。
19.如权利要求1所述的基因扩增设备,其特征在于,该基因扩增设备还包括一加热器,该加热器位于该第一气流产生器的该第一气流的流动路径上。
20.一种基因扩增设备,其特征在于,该基因扩增设备包括:
一支架;
一承座,该承座设置于该支架,该承座具有一容置槽及一气流流道,该容置槽位于该气流流道或其延伸路径上;
一导风罩,该导风罩具有一入风口及一出风口,该导风罩的该出风口连通该气流流道;以及
一第一气流产生器,该第一气流产生器位于该导风罩的该入风口,该第一气流产生器用以产生一第一气流,该第一气流自该入风口往该出风口而流向该气流流道并流过该容置槽。
21.如权利要求20所述的基因扩增设备,其特征在于,该基因扩增设备还包括一加热器,该加热器设置于该第一气流产生器及该导风罩之间,该第一气流经过该加热器加热后再流过该容置槽。
22.如权利要求20所述的基因扩增设备,其特征在于,该基因扩增设备还包括一加热器,该加热器热接触于该容置槽,该加热器包括一氮化铝陶瓷加热片。
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