CN214685533U - 立式加工中心粉末集中处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种立式加工中心粉末集中处理装置,包括机架,机架上设置有移动组件,移动组件上设置有工作台,所述移动组件上还设置有集水框,集水框位于工作台周围;所述机架上还设置有排屑槽和沉淀池,排屑槽内设置有排屑螺杆,排屑槽的一端连通外部,所述排屑槽上开设有若干漏水孔,漏水孔连通沉淀池,所述集水框与排屑槽之间设置有导水机构,本实用新型能够集中对加工过程中产生的废屑粉末及冷却液进行集中的收集处理,避免任意的飞溅,便于收集清理。
Description
技术领域
本实用新型属于立式加工中心技术领域,更具体的说涉及一种立式加工中心粉末集中处理装置。
背景技术
立式加工中心是指主轴轴线与工作台垂直设置的加工中心,主要适用于加工板类、盘类、模具及小型壳体类复杂零件。立式加工中心能完成铣、镗削、钻削、攻螺纹和用切削螺纹等工序。立式加工中心最少是三轴二联动,一般可实现三轴三联动。有的可进行五轴、六轴控制。立式加工中心立柱高度是有限的,对箱体类工件加工范围要减少,这是立式加工中心的缺点。但立式加工中心工件装夹、定位方便;刃具运动轨迹易观察,调试程序检查测量方便,可及时发现问题,进行停机处理或修改;冷却条件易建立,切削液能直接到达刀具和加工表面;三个坐标轴与笛卡儿坐标系吻合,感觉直观与图样视角一致,切屑易排除和掉落,避免划伤加工过的表面。与相应的卧式加工中心相比,结构简单,占地面积较小,价格较低。
在加工过程中,产生大量的废屑粉末,同时需要大量的冷却液,冷却液在冲刷过程中使粉末在工作台上向四周流动,有些粉末被冲刷至死角处,难以清理。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种能够集中对加工过程中产生的废屑粉末及冷却液进行集中的收集处理,避免任意的飞溅,便于收集清理。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种立式加工中心粉末集中处理装置,包括机架,机架上设置有移动组件,移动组件上设置有工作台,所述移动组件上还设置有集水框,集水框位于工作台周围;所述机架上还设置有排屑槽和沉淀池,排屑槽内设置有排屑螺杆,排屑槽的一端连通外部,所述排屑槽上开设有若干漏水孔,漏水孔连通沉淀池,所述集水框与排屑槽之间设置有导水机构。
进一步的所述导水机构包括过渡槽和接水槽,所述过渡槽位于机架上,过渡槽底部倾斜布置,过渡槽的最低处连通排屑槽,所述接水槽固定于移动组件上,接水槽连通集水框和过渡槽。
进一步的所述过渡槽的侧面与底面呈钝角倾斜布置。
进一步的所述排屑槽沿横向布置,过渡槽沿纵向布置,所述过渡槽设置有两个,两个过渡槽分别位于移动组件横向的两侧。
进一步的所述接水槽包括横槽和两个竖槽,两个竖槽分别连接于横槽的两端,所述横槽连通集水框,两个竖槽分别连通过渡槽。
进一步的所述接水槽位于集水框下方,接水槽上设置有排水口,排水口连接接水槽。
进一步的所述排屑槽的底面倾斜布置,所述沉淀池位于排屑槽的下方,且沉淀池位于排屑槽的低处。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:通过设置集水框,将加工过程中产生的废屑及冷却液全部集中在一起,防止飞溅至集水框外侧,含有废屑的冷却液将通过导水机构进入排屑槽内,冷却液通过漏水孔进入沉淀池进行回收利用,而废屑将通过排屑螺杆推出至排屑槽以进行集中收集;对所有的废屑粉末集中的收集清理,避免废屑粉末卡在加工中心的角落,对丝杆等其他运动部件进行保护,防止粉末进入而造成异常磨损。
附图说明
图1为具有粉末集中处理装置的加工中心立体结构图;
图2为本实用新型立式加工中心粉末集中处理装置的立体结构图;
图3为本实用新型立式加工中心粉末集中处理装置的主视图;
图4为本实用新型立式加工中心粉末集中处理装置的俯视图;
图5为图4中A部的放大图;
图6为本实用新型立式加工中心粉末集中处理装置的立体结构图(去除一个过渡槽后)。
附图标记:1、机架;11、纵向移动副;12、横向移动副;2、工作台;3、集水框;34、排水口;41、接水槽;411、横槽;412、竖槽;42、过渡槽;5、排屑槽;51;排屑螺杆;52、漏水孔;6、沉淀池。
具体实施方式
参照图1至图6对本实用新型立式加工管中心粉末集中处理装置的实施例做进一步说明。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”,“横向(X)”、“纵向(Y)”、“竖向(Z)”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不能理解为限制本实用新型的具体保护范围。
此外,如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括一个或者多个该特征,在本实用新型描述中,“数个”、“若干”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
一种立式加工中心粉末集中处理装置,包括机架1,机架1上设置有移动组件,移动组件上设置有工作台2,所述移动组件上还设置有集水框3,集水框3位于工作台2周围;所述机架1上还设置有排屑槽5和沉淀池6,排屑槽5内设置有排屑螺杆51,排屑槽5的一端连通外部,所述排屑槽5上开设有若干漏水孔52,漏水孔52连通沉淀池6,所述集水框3与排屑槽5之间设置有导水机构。
如图2所示,在本实施例中集水框3位于工作台2的周围,其底部低于工作台2,顶部高于工作台2,在加工过程中,废屑粉末和冷却液都被集水框3阻挡,防止飞溅到外侧,且集水框3置于移动组件上,与工作台2同步移动,始终与工作台2保持相对固定。
本实施例中优选的所述导水机构包括过渡槽42和接水槽41,所述过渡槽42位于机架1上,过渡槽42底部倾斜布置,过渡槽42的最低处连通排屑槽5,所述接水槽41固定于移动组件上,接水槽41连通集水框3和过渡槽42。
具体的如图2和图4所示,本实施例中所述排屑槽5沿横向布置,过渡槽42沿纵向布置,所述过渡槽42设置有两个,两个过渡槽42分别位于移动组件横向的两侧。
为更易理解本实用新型,参阅图2所示,本实用新型中的移动组件包括纵向移动副11和横向移动副12,纵向移动副11固定于机架1上,横向移动副12连接在纵向移动副11上方,工作台2和集水框3均固定于横向移动副12上。
其中所述过渡槽42的侧面与底面呈钝角倾斜布置,其中过渡槽42靠近移动组件的那一个侧面向纵向移动副11方向延伸可以贴在纵向移动副11上,而另一个侧面则向相反方向延伸。
在工作过程中,工作台2在平面上沿着横向和纵向移动,则集水框3同步移动,保持接收加工产生的废屑粉末和冷却液,与此同时接水槽41也与工作台2和集水框3同步移动,接水槽41接收集水框3的废屑粉末和冷却液,由于过渡槽42整体沿纵向延伸,且其具有沿横向延伸的侧面,使得无论接水槽41移动至任何位置,其均位于过渡槽42的上方,使得废屑粉末和冷却液顺利的排入过渡槽42内,再由过渡槽42导入排屑槽5内。
本实施例优选的所述接水槽41包括横槽411和两个竖槽412,两个竖槽412分别连接于横槽411的两端,所述横槽411连通集水框3,两个竖槽412分别连通过渡槽42。
在移动过程中,竖槽412的开口始终位于过渡槽42的上方。
本实施例优选的竖槽412底端的开口为倾斜口,其朝向排屑槽5的一侧高于另一侧。
本实施例优选的所述接水槽41位于集水框3下方,接水槽41上设置有排水口34,排水口34连接接水槽41。
在集水框3上其底面可以为倾斜布置,排水口34位于低处。
本实施例优选的所述排屑槽5的底面倾斜布置,所述沉淀池6位于排屑槽5的下方,且沉淀池6位于排屑槽5的低处,其中沉淀池6位于一个过渡槽42下方,如图6所示,沉淀池6一部分与排屑槽5在竖直方向上重叠,在此重叠部分具有漏水孔52,冷却液沿着漏水孔52进入沉淀池6以等待回用,而废屑粉末则经由排屑螺杆51推出排屑槽5统一收集。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (7)
1.一种立式加工中心粉末集中处理装置,包括机架,机架上设置有移动组件,移动组件上设置有工作台,其特征在于:所述移动组件上还设置有集水框,集水框位于工作台周围;所述机架上还设置有排屑槽和沉淀池,排屑槽内设置有排屑螺杆,排屑槽的一端连通外部,所述排屑槽上开设有若干漏水孔,漏水孔连通沉淀池,所述集水框与排屑槽之间设置有导水机构。
2.根据权利要求1所述的立式加工中心粉末集中处理装置,其特征在于:所述导水机构包括过渡槽和接水槽,所述过渡槽位于机架上,过渡槽底部倾斜布置,过渡槽的最低处连通排屑槽,所述接水槽固定于移动组件上,接水槽连通集水框和过渡槽。
3.根据权利要求2所述的立式加工中心粉末集中处理装置,其特征在于:所述过渡槽的侧面与底面呈钝角倾斜布置。
4.根据权利要求3所述的立式加工中心粉末集中处理装置,其特征在于:所述排屑槽沿横向布置,过渡槽沿纵向布置,所述过渡槽设置有两个,两个过渡槽分别位于移动组件横向的两侧。
5.根据权利要求4所述的立式加工中心粉末集中处理装置,其特征在于:所述接水槽包括横槽和两个竖槽,两个竖槽分别连接于横槽的两端,所述横槽连通集水框,两个竖槽分别连通过渡槽。
6.根据权利要求5所述的立式加工中心粉末集中处理装置,其特征在于:所述接水槽位于集水框下方,接水槽上设置有排水口,排水口连接接水槽。
7.根据权利要求6所述的立式加工中心粉末集中处理装置,其特征在于:所述排屑槽的底面倾斜布置,所述沉淀池位于排屑槽的下方,且沉淀池位于排屑槽的低处。
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CN202120906473.3U CN214685533U (zh) | 2021-04-28 | 2021-04-28 | 立式加工中心粉末集中处理装置 |
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CN214685533U true CN214685533U (zh) | 2021-11-12 |
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CN202120906473.3U Active CN214685533U (zh) | 2021-04-28 | 2021-04-28 | 立式加工中心粉末集中处理装置 |
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CN112935916A (zh) * | 2021-04-28 | 2021-06-11 | 亿铨机械(嘉兴)有限公司 | 立式加工中心粉末集中处理装置 |
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- 2021-04-28 CN CN202120906473.3U patent/CN214685533U/zh active Active
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