CN214585017U - 一种侧向进样xrf分析用样品杯 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种侧向进样XRF分析用样品杯，包括样品杯体、分析薄膜、膜套环、橡胶圈、压杆，所述压杆在轴向上设置密封凹槽和排气孔，橡胶圈设置在密封凹槽，压杆放置在样品杯体内，膜套环将分析薄膜固定在样品杯体。本实用新型制作出的样品可以被有效压实，且样品表面平整、分布均匀，在侧向进样的XRF分析仪器上进样、测量时也可以保证样品表面与探测平面的紧密贴合，进而得到与样品中真实元素含量高度一致的测量结果，减小因样品松散、表面不平整、分布不均匀对X射线激发、荧光产生、测量过程所造成的影响，具有结构简单，测量数据准确，效果好的特点。

Description

一种侧向进样XRF分析用样品杯

技术领域

本实用新型属于试验用设备技术领域，尤其涉及X射线荧光(XRF)分析仪器使用的一种侧向进样XRF分析用样品杯。

背景技术

与实验室元素分析技术相比，X射线荧光分析技术具有成本低、速度快、非破坏式检测、多元素同时测量、操作方便的优势，现有技术中，基于X射线荧光分析技术的仪器通常体积小、重量轻、便于携带和实现自动化的特点，在固体、液体等类型样品的成分检测中，X射线荧光分析技术得到了越来越多的应用。

常规的X射线荧光分析仪普遍采用上照式激发，即待测样品垂直向下放入分析仪器，分析仪器的X射线源向上出射，照射在待测样品的下表面，用于接收待测样品中荧光信号的探测器也放置在待测样品之下，这种类型分析仪器所采用的样品杯都是同样的结构形式，即一端开口，放入样品，然后用分析薄膜封口，再倒扣过来放入分析仪器中，薄膜朝下，样品依靠自身重力聚集在分析薄膜上。虽然XRF分析仪器的形式多种多样，但是所有的XRF分析仪器，都需要把待测样品经过一定的前处理，然后放入仪器专用的样品杯中，再放入仪器进行数十秒到几百秒数据收集，最后对收集得到的数据进行计算，得出待测样品中的元素种类和含量。XRF仪器所基于的物理原理决定了样品表面的平整度、压实程度都会对测量结果产生比较大的影响。

目前的样品杯，如果盛放粉末样品，封膜并倒扣过来之后，仅靠粉末自身的重力，无法达到压实、平整的效果，通常样品颗粒分布松散，且表面常有沟壑，分布不均匀，这些因素都会影响探测器所采集到的信号，进而不能如实反映样品中元素的准确含量；此外，在上照式XRF分析仪器结构中，粉末样品或者液体样品依靠分析薄膜支撑，虽然样品杯自身重力作用可以使样品杯端面紧密贴合在探测平面，但是在测量过程中如果分析薄膜破裂，样品会洒落在探测器的窗口上，该窗口的厚度是微米级别，非常脆弱，且损坏后无法维修，只能更换探测器，成本非常昂贵。采用侧向进样、测量的形式，可以有效避免分析薄膜破裂后直接污染或者损坏探测器，但是可能会导致样品表面与探测平面没有紧密贴合的问题，同样严重影响测量结果的准确度。

实用新型内容

针对上述背景技术的阐述，本实用新型提供一种侧向进样XRF分析用样品杯。

为了达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种侧向进样XRF分析用样品杯，包括样品杯体、分析薄膜、膜套环、橡胶圈、压杆，所述压杆在轴向上设置密封凹槽和排气孔，橡胶圈设置在密封凹槽，压杆放置在样品杯体内，膜套环将分析薄膜固定在样品杯体。

上述技术方案中，还包括不锈钢片，所述不锈钢片设置在样品杯体上。

上述技术方案中，还包括杯座，所述杯座包括底座，在底座上设置支撑柱，支撑柱端部设置磁铁支架，在磁铁支架内环形设置磁铁。

上述技术方案中，所述磁铁支架与不锈钢片之间设置间隙。

上述技术方案中，所述间隙的尺寸0.2-1.5mm。

上述技术方案中，所述样品杯体设置摩擦结构。

上述技术方案中，所述摩擦结构选择直纹结构和/或网纹结构。

本实用新型制作出的样品可以被有效压实，且样品表面平整、分布均匀，在侧向进样的XRF分析仪器上进样、测量时也可以保证样品表面与探测平面的紧密贴合，进而得到与样品中真实元素含量高度一致的测量结果，减小因样品松散、表面不平整、分布不均匀对X射线激发、荧光产生、测量过程所造成的影响，具有结构简单，测量数据准确，效果好的特点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型专利实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型专利的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例结构示意图；

图2为本实用新型实施例的A-A剖面结构示意图；

图3为本实用新型实施例使用结构示意图；

图4为本实用新型实施例使用结构示意图；

其中，1样品杯体，2分析薄膜，3膜套环，4待测样品，5橡胶圈，6压杆，601排气孔，7不锈钢片，8磁铁支架、9进样口支撑，10探测平面，11间隙，12直纹。

具体实施方式

下面将结合本实用新型专利的附图，对本实用新型专利的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型专利一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型专利中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型专利保护的范围。

根据图1—图2所示，作为实施例所示的一种侧向进样XRF分析用样品杯，包括样品杯体、分析薄膜、膜套环、橡胶圈、压杆，不锈钢片，杯座，样品杯体上设置手柄，手柄上设置凹槽，不锈钢片设置在凹槽内，手柄，外侧设置直纹结构和/或网纹结构的摩擦结构，压杆在轴向上设置密封凹槽和排气孔，O型橡胶圈设置在密封凹槽，压杆放置在样品杯体内，膜套环将分析薄膜固定在样品杯体。杯座包括底座，在底座上设置支撑柱，支撑柱端部设置磁铁支架，在磁铁支架内环形设置小磁铁。

使用过程为：样品杯体放置在平面上，使用膜套环把分析薄膜绷紧在样品杯体上，然后把样品杯体倒置放在坚硬的平面上，使用取样勺把待测粉末样品放入样品杯体，之后把压杆从样品杯体的后端逐渐推入，压杆的平端面会逐渐挤压粉末样品，直到粉末样品被完全压实为止，在这个过程中，样品杯体内的空气可以从压杆轴向预留的小排气孔逐渐排出，粉末样品则不会受到影响。

根据图3—图4所示，制样完成之后，用手捏着样品杯体外侧的直纹，依次穿过磁铁支架、进样口支撑，当样品杯分析薄膜距离探测平面比较近的时候，磁铁支架内环形布置的小磁铁开始吸引样品杯的不锈钢片，此时松手，磁铁会吸附不锈钢片，使分析薄膜的表面紧密地贴合在探测平面上，样品杯体在制作时，样品杯体的长度略大些，这个增加的长度为0.2-1.5mm，这样样品杯体的不锈钢片与磁铁支架之间预留有0.2-1.5mm的间隙，优选的尺寸为0.4-0.8mm，目的是防止出现不锈钢片与磁铁支架接触后，分析薄膜尚未与探测平面贴合的现象，保证分析薄膜的表面与探测平面紧密贴合。

以上所述，仅为本实用新型专利的具体实施方式，但本实用新型专利的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型专利揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型专利的保护范围之内。因此，本实用新型专利的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种侧向进样XRF分析用样品杯，其特征在于：包括样品杯体、分析薄膜、膜套环、橡胶圈、压杆，所述压杆在轴向上设置密封凹槽和排气孔，橡胶圈设置在密封凹槽，压杆放置在样品杯体内，膜套环将分析薄膜固定在样品杯体。

2.根据权利要求1所述一种侧向进样XRF分析用样品杯，其特征在于：还包括不锈钢片，所述不锈钢片设置在样品杯体上。

3.根据权利要求1或2所述一种侧向进样XRF分析用样品杯，其特征在于：还包括杯座，所述杯座包括底座，在底座上设置支撑柱，支撑柱端部设置磁铁支架，在磁铁支架内环形设置磁铁。

4.根据权利要求3所述一种侧向进样XRF分析用样品杯，其特征在于：所述磁铁支架与不锈钢片之间设置间隙。

5.根据权利要求4所述一种侧向进样XRF分析用样品杯，其特征在于：所述间隙的尺寸0.2-1.5mm。

6.根据权利要求5所述一种侧向进样XRF分析用样品杯，其特征在于：所述间隙的尺寸0.4-0.8mm。

7.根据权利要求4所述一种侧向进样XRF分析用样品杯，其特征在于：所述样品杯体设置摩擦结构，所述摩擦结构选择直纹结构和/或网纹结构。

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