CN2141942Y - 一种二氧化碳激光器 - Google Patents

一种二氧化碳激光器 Download PDF

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Abstract

本实用新型属于电激发气体激光器,是一种用 CO2做增益介质的激光器,该激光器以U形管做谐 振腔,并具有多块反射镜和支撑管。既可用于单臂放 电产生激光,又能双臂双腔同时工作,靠合理地布置, 选配备反射镜提高CO2激光器的各项性能指标,具 有结构紧凑、使用方便和成本低、应用范围较宽等特 点。

Description

本实用新型属于电激发气体激光器,是一种用二氧化碳做增益介质的激光器。
目前的二氧化碳为工作介质的分子激光器多为内腔式平直套管状结构。其石英管长度约为1米长,管内充入CO2气体和He、N2等辅助气体,靠谐振腔内电极的放电和管端的反射镜产生并输出连续功率为40-50瓦的激光光源,该类激光器的输出功率取决于谐振腔的长度和光束截面的尺寸,而谐振腔较粗长,输出功率大,衍射损耗小的激光器,又存在着选频性能较差,影响光的单色性和体积较大,结构复杂等不足。
本实用新型的目的在于提供一种以U型管做谐振腔,具有多块反射镜和支撑管架的CO2激光器,该激光器既可用于单臂放电产生激光,又能双臂双腔同时工作,靠合理的布置选配各反射镜提高CO2激光器的各项性能指标,以克服现有技术所存在的不足。
本实用新型的整体结构是:
放电管5、水冷管4和贮气管3同轴套装,两个放电管的一端相互联接为U型,该U型管与装置在其弯折处的转折镜6和两个端口部位的反射镜9、8构成光学谐振腔,两组筒状电极1、11分别安装在谐振腔内放电管的端口处,回气管2连通贮气管3和谐振腔,在水冷管上还开设水嘴7。
各反射镜的具体选配、布置是:反射镜9为全反射平面镜,反射镜8为部份反射锗平面镜,二者相互平行,两个转折镜6的法线相互垂直,均为敷设半透膜的部份反射镜。
该激光器的结构特征还有:贮气管内的回气管2呈螺旋状与其同轴盘绕在水冷管外壁,并在电极处与谐振腔连通,支撑管10装接在U型管开口端与水冷管连通。
本实用新型的附图是U型CO2激光器结构简图。
附图给出了本实用新型的实施例,结合附图进一步说明如下:
该激光器主要用于产生连续功率为30-40W,谱线在106μm附近的红外激光,石英材料制成的谐振腔的管径约为φ35-40,U型管总长约1000mm,放电管管径为φ10,回气管管径为φ5,支撑管长约120mm,即U型管宽度。筒状电极采用银铜合金材料制成,由一台共阴极高压直流电源供电,各反射镜中除9为全反射镜外,其余为部份反射镜,反射率均小于1,由于该激光器以两块严格平行的反射镜9、8为主构成两个平行平面腔。谐振腔内充入CO2气并添加适量He、N2气后,当两组电极同时放电时,在两块转折反射镜6的作用下其谐振腔有效长度相当于两臂长度之和,输出功率可达30瓦。只有一组电极工作时相当于两臂长度之和,输出功率可达30瓦。只有一组电极工作时为单臂放电,即可成为一台输出功率大于10瓦的激光发生器。
本实用新型所取得的技术进步是:
1、由于在该激光器的谐振腔内合理布置了四个反射镜面,虽然其管腔呈U型,但仍然可等效为一个平面平行腔CO2激光器。既可在三个较短臂腔内使激光器工作在单一纵模下,以提高光束的单色性和相干长度,又能从整体上保证其有较高的双程增益,进而获得较高的功率输出。
2、本实用新型的U型开口处设置支撑管10可有效地防止因温度的波动,机械振动,声波以及重力等因素造的振动干扰,避免      长度形变,从而保证激光器有较好的稳频性。
     光器可广泛应用于精密测量,准直和全息照像、医疗     结构紧凑,各元器件布置合理和使用方便,成本低等

Claims (3)

1、一种二氧化碳激光器,由光学谐振腔,电极和CO2工作物质组成,其特征是放电管5、水冷管4和贮气管3同轴套装,两个放电管的一端相互联接为U型,该U型管与装置在其弯折处的转折镜6和两个端口部位的反射镜9、8构成光学谐振腔,两组筒状电极1、11分别安装在谐振腔内放电管的端口处,回气管2连通贮气管3和谐振腔,在水冷管上还开设水嘴7。
2、根据权利要求1所述的激光器,其特征在于反射镜9为全反射平面镜,反射镜8为部份反射锗平面镜,二者相互平行,两个转折镜6的法线相互垂直,均为敷设半透膜的部份反射镜。
3、根据权利要求1所述的激光器,其特征在于贮气管内的回气管2呈螺旋状与其同轴盘绕在水冷管外壁,并在电极处与谐振腔连通,支撑管10装接在U型管开口端与水冷管连通。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN100369338C (zh) * 2003-12-16 2008-02-13 四川大学 大功率气体激光器的构建方法及装置
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Date Code Title Description
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GR01 Patent grant
C53 Correction of patent for invention or patent application
CB03 Change of inventor or designer information

Designer after: Zhang Chunsheng

Designer after: Chu Mengtao

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