CN213997057U - 一种等离子除胶清洗机结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种等离子除胶清洗机结构，属于等离子清洗技术领域，其包括机架，所述机架内上下分隔出有反应腔体、电控箱室和配电箱室，所述电控箱室和配电箱室设置于所述反应腔体下方，所述机架位于反应腔体竖直方向一侧连接有保护门，所述机架顶壁设置为可拆卸的盖板，所述盖板设置于反应腔体正上方；所述机架内位于反应腔体下方连接有支杆，所述电控箱室和配电箱室设置为两个箱体，两个所述箱体均挂接于支杆上并与支杆之间为可拆卸连，所述机架上位于保护门正下方连接有防护门，所述防护门扣合于两个所述箱体的开口处。本实用新型具有可对大尺寸工件清洗，其结构更为合理，便于安装和维修的效果。

Description

一种等离子除胶清洗机结构

技术领域

本实用新型涉及等离子清洗技术领域，特别涉及一种等离子除胶清洗机结构。

背景技术

等离子清洗机也叫等离子清洁机，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体也叫做物质的第四态，其活性组分包括：离子、电子、原子、活性基团、光子等，等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。

现有等离子清洗机主要为小机型，用于清洗小尺寸工件，针对尺寸较大工件清洗的等离子清洗机类型较少，其结构不够合理，此问题亟待解决。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种等离子除胶清洗机结构，具有可对大尺寸工件清洗，其结构更为合理，便于安装和维修的效果。

一种等离子除胶清洗机结构，包括机架，所述机架内上下分隔出有反应腔体、电控箱室和配电箱室，所述电控箱室和配电箱室设置于所述反应腔体下方，所述机架位于反应腔体竖直方向一侧连接有保护门，所述机架顶壁设置为可拆卸的盖板，所述盖板设置于反应腔体正上方；

所述机架内位于反应腔体下方连接有支杆，所述电控箱室和配电箱室设置为两个箱体，两个所述箱体均挂接于支杆上并与支杆之间为可拆卸连，所述机架上位于保护门正下方连接有防护门，所述防护门扣合于两个所述箱体的开口处。

本实用新型进一步设置为：所述支杆沿水平方向固定在机架内，两个所述箱体开口处的上下两侧均形成有折边，两条所述折边分别与支杆靠近防护门一侧以及机架侧壁贴合并通过螺栓固定。

本实用新型进一步设置为：设置为电控室的箱体下方安装有RF射频发生器，所述反应腔体下方安装有真空泵系统，所述机架垂直于防护门和保护门的侧壁上可拆卸连接有外防护壳，所述外防护壳扣合于真空泵系统以及反应腔体处。

本实用新型进一步设置为：所述保护门周缘连接有密封环，所述密封环与反应腔体周缘贴合，所述保护门上形成有操作窗，所述操作窗上设置有金属屏蔽网。

本实用新型进一步设置为：所述机架上连接有HMI面板，所述HMI面板的高度为140cm。

本实用新型进一步设置为：所述反应腔体内安装有十六块电极板，所述反应腔体内位于电极板上方设置有冷却回路，所述盖板扣合于冷却回路上。

本实用新型进一步设置为：所述机架顶壁上连接有报警灯。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

1.通过扣合于机架顶部的盖板以及设置为箱体并与支杆可拆卸连接的设置，各部分之间便于搬运拼接，便于检修，结构更为合理；

2.通过连接于保护门上的密封圈以及操作窗上的金属屏蔽网，用于隔离电离辐射，且能够满足电磁兼容要求；

3.通过HMI面板的高度为140cm的设置，便于工作人员的使用，更加符合人体工程学。

附图说明

图1为本实用新型中用于体现整体的结构示意图；

图2为本实用新型中用于体现机架内各部分结构的示意图；

图3为本实用新型中用于体现箱体安装状态的结构示意图。

图中，1、机架；11、电控箱室；12、配电箱室；13、箱体；131、折边； 132、RF射频发生器；14、盖板；15、支杆；16、防护门；17、外防护壳；2、反应腔体；21、保护门；211、密封环；212、操作窗；213、金属屏蔽网；22、电极板；23、冷却回路；3、HMI面板；4、报警灯；5、真空泵系统。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”等用语为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。

实施例：

如图1和图2所示，为本实用新型中设计的一种等离子除胶清洗机结构，包括机架1，机架1内上下分隔出有反应腔体2、电控箱室11和配电箱室12，电控箱和配电室设置于反应腔体2下方，机架1位于反应腔体2竖直方向一侧连接有保护门21，机架1顶壁设置为可拆卸的盖板14，盖板14设置于反应腔体2正上方，反应腔体2内安装有十六块电极板22，反应腔体2内位于电极板22上方设置有冷却回路23，盖板14扣合于冷却回路23上。

如图2和图3所示，机架1内位于反应腔体2下方连接有支杆15，电控箱室11和配电箱室12设置为两个箱体13，两个箱体13均挂接于支杆15上并与支杆15之间为可拆卸连，机架1上位于保护门21正下方连接有防护门16，防护门16扣合于两个箱体13的开口处。支杆15沿水平方向固定在机架 1内，两个箱体13开口处的上下两侧均形成有折边131，两条折边131分别与支杆15靠近防护门16一侧以及机架1侧壁贴合并通过螺栓固定。

如图2和图3所示，设置为电控室的箱体13下方安装有RF射频发生器 132，反应腔体2下方安装有真空泵系统5，真空泵系统5是由罗茨泵和爪式干泵组成的，能够为整个机器提供低真空环境，并可以通过变频器控制反应腔体2内部的真空度，机架1垂直于防护门16和保护门21的侧壁上可拆卸连接有外防护壳17，外防护壳17扣合于真空泵系统5以及反应腔体2处。

如图1和图2所示，保护门21周缘连接有密封环211，密封环211与反应腔体2周缘贴合，保护门21上形成有操作窗212，操作窗212上设置有金属屏蔽网213。机架1上连接有HMI面板3，HMI面板3的高度为140cm，与安装在电控箱室11内的电控箱和配电箱室12内的配电箱组成机器的控制部分，在HMI面板3上可以设定不同的配方程序，对反应的时间，真空度，反应气体流量，反应腔处理温度，处理时间等进行设定。机架1顶壁上连接有报警灯4，用于指示机器的运行状态并报警。

本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。

Claims (7)

1.一种等离子除胶清洗机结构，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)内上下分隔出有反应腔体(2)、电控箱室(11)和配电箱室(12)，所述电控箱室(11)和配电箱室(12)设置于所述反应腔体(2)下方，所述机架(1)位于反应腔体(2)竖直方向一侧连接有保护门(21)，所述机架(1)顶壁设置为可拆卸的盖板(14)，所述盖板(14)设置于反应腔体(2)正上方；

所述机架(1)内位于反应腔体(2)下方连接有支杆(15)，所述电控箱室(11)和配电箱室(12)设置为两个箱体(13)，两个所述箱体(13)均挂接于支杆(15)上并与支杆(15)之间为可拆卸连，所述机架(1)上位于保护门(21)正下方连接有防护门(16)，所述防护门(16)扣合于两个所述箱体(13)的开口处。

2.根据权利要求1所述的一种等离子除胶清洗机结构，其特征在于：所述支杆(15)沿水平方向固定在机架(1)内，两个所述箱体(13)开口处的上下两侧均形成有折边(131)，两条所述折边(131)分别与支杆靠近防护门(16)一侧以及机架(1)侧壁贴合并通过螺栓固定。

3.根据权利要求2所述的一种等离子除胶清洗机结构，其特征在于：设置为电控箱室(11)的箱体(13)下方安装有RF射频发生器(132)，所述反应腔体(2)下方安装有真空泵系统(5)，所述机架(1)垂直于防护门(16)和保护门(21)的侧壁上可拆卸连接有外防护壳(17)，所述外防护壳(17)扣合于真空泵系统(5)以及反应腔体(2)处。

4.根据权利要求3所述的一种等离子除胶清洗机结构，其特征在于：所述保护门(21)周缘连接有密封环(211)，所述密封环(211)与反应腔体(2)周缘贴合，所述保护门(21)上形成有操作窗(212)，所述操作窗(212)上设置有金属屏蔽网(213)。

5.根据权利要求1所述的一种等离子除胶清洗机结构，其特征在于：所述机架(1)上连接有HMI面板(3)，所述HMI面板(3)的高度为140cm。

6.根据权利要求5所述的一种等离子除胶清洗机结构，其特征在于：所述反应腔体(2)内安装有十六块电极板(22)，所述反应腔体(2)内位于电极板(22)上方设置有冷却回路(23)，所述盖板(14)扣合于冷却回路(23)上。

7.根据权利要求6所述的一种等离子除胶清洗机结构，其特征在于：所述机架(1)顶壁上连接有报警灯(4)。

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