CN213803986U - 一种激光熔覆喷嘴 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种激光熔覆喷嘴,包括喷嘴基体,喷嘴基体的顶部开设有激光束腔,喷嘴基体的左右两侧均贯穿有送粉管道,两个送粉管道相对的一侧均与激光束腔相连通,本实用新型涉及激光熔覆技术领域。该激光熔覆喷嘴,通过设有分流缓冲块,分流缓冲块为三棱柱型,且分流缓冲块的长边与送粉管道内壁形成间隙,对激光熔覆粉进到分流缓冲的作用,使其出料均匀,提高了工作质量,通过设有保护块,熔覆过程中的飞溅和火焰大部分率先与保护块接触,从而保护喷嘴基体,提高设备的使用寿命,通过水冷通道与保护块的环形冷却槽相连通,使得保护块可以吸收熔池辐射产生的热量,进一步地提高了防护效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及激光熔覆技术领域,具体为一种激光熔覆喷嘴。
背景技术
激光熔覆亦称激光熔敷或激光包覆,是一种新的表面改性技术,它通过在基材表面添加熔覆材料,并利用高能密度的激光束使之与基材表面薄层一起熔凝的方法,在基层表面形成冶金结合的添料熔覆层。
现有的激光熔覆通常为点式激光熔覆,即通过聚焦镜将激光聚焦到加工件表面形成圆形光斑,通过送粉装置与熔覆喷嘴将熔覆粉末喷射到激光焦点处,在加工件表面形成熔池实现熔覆,为此,本实用新型提供了一种激光熔覆喷嘴。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种激光熔覆喷嘴,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种激光熔覆喷嘴,包括喷嘴基体,所述喷嘴基体的顶部开设有激光束腔,所述喷嘴基体的左右两侧均贯穿有送粉管道,两个所述送粉管道相对的一侧均与激光束腔相连通,所述送粉管道的内腔固定连接有多个分流缓冲块,且喷嘴基体的底部固定连接有保护块,所述保护块的底部开设有与激光束腔相连通的通孔,且保护块的内腔开设有环形冷却槽,所述喷嘴基体的顶部且位于激光束腔的前后两侧均贯穿有水冷通道,所述水冷通道的底端贯穿喷嘴基体并与水冷通道的顶部相连通。
优选的,两个所述送粉管道相互远离的一端均设有进粉口,两个所述送粉管道相互靠近的一端均设有出粉口。
优选的,所述分流缓冲块为三棱柱型,多个所述分流缓冲块呈等距分布,且分流缓冲块的长边与送粉管道内壁形成间隙。
有益效果
本实用新型提供了一种激光熔覆喷嘴。与现有技术相比具备以下有益效果:
(1)、该激光熔覆喷嘴,通过设有分流缓冲块,分流缓冲块为三棱柱型,且分流缓冲块的长边与送粉管道内壁形成间隙,对激光熔覆粉进到分流缓冲的作用,使其出料均匀,提高了工作质量,通过设有保护块,熔覆过程中的飞溅和火焰大部分率先与保护块接触,从而保护喷嘴基体,提高设备的使用寿命,通过水冷通道与保护块的环形冷却槽相连通,使得保护块可以吸收熔池辐射产生的热量,进一步地提高了防护效果。
附图说明
图1为本实用新型的主视图;
图2为本实用新型的右视图;
图3为本实用新型保护块的俯视图。
图中:1、喷嘴基体;2、激光束腔;3、送粉管道;4、分流缓冲块;5、保护块;6、通孔;7、环形冷却槽;8、水冷通道。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3,本实用新型提供一种技术方案:一种激光熔覆喷嘴,包括喷嘴基体1,喷嘴基体1的顶部开设有激光束腔2,喷嘴基体1的左右两侧均贯穿有送粉管道3,两个送粉管道3相对的一侧均与激光束腔2相连通,两个送粉管道3相互远离的一端均设有进粉口,两个送粉管道3相互靠近的一端均设有出粉口,送粉管道3的内腔固定连接有多个分流缓冲块4,分流缓冲块4为三棱柱型,多个分流缓冲块4呈等距分布,且分流缓冲块4的长边与送粉管道3内壁形成间隙,且喷嘴基体1的底部固定连接有保护块5,保护块5的底部开设有与激光束腔2相连通的通孔6,且保护块5的内腔开设有环形冷却槽7,喷嘴基体1的顶部且位于激光束腔2的前后两侧均贯穿有水冷通道8,水冷通道8的底端贯穿喷嘴基体1并与水冷通道8的顶部相连通,两个所述水冷通道8分别与外部冷却系统的进水口和出水口相连通,通过设有分流缓冲块4,分流缓冲块4为三棱柱型,且分流缓冲块4的长边与送粉管道3内壁形成间隙,对激光熔覆粉进到分流缓冲的作用,使其出料均匀,提高了工作质量,通过设有保护块5,熔覆过程中的飞溅和火焰大部分率先与保护块5接触,从而保护喷嘴基体1,提高设备的使用寿命,通过水冷通道8与保护块5的环形冷却槽7相连通,使得保护块5可以吸收熔池辐射产生的热量,进一步地提高了防护效果。
同时本说明书中未作详细描述的内容均属于本领域技术人员公知的现有技术。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (3)
1.一种激光熔覆喷嘴,包括喷嘴基体(1),所述喷嘴基体(1)的顶部开设有激光束腔(2),所述喷嘴基体(1)的左右两侧均贯穿有送粉管道(3),两个所述送粉管道(3)相对的一侧均与激光束腔(2)相连通,其特征在于:所述送粉管道(3)的内腔固定连接有多个分流缓冲块(4),且喷嘴基体(1)的底部固定连接有保护块(5),所述保护块(5)的底部开设有与激光束腔(2)相连通的通孔(6),且保护块(5)的内腔开设有环形冷却槽(7),所述喷嘴基体(1)的顶部且位于激光束腔(2)的前后两侧均贯穿有水冷通道(8),所述水冷通道(8)的底端贯穿喷嘴基体(1)并与水冷通道(8)的顶部相连通。
2.根据权利要求1所述的一种激光熔覆喷嘴,其特征在于:两个所述送粉管道(3)相互远离的一端均设有进粉口,两个所述送粉管道(3)相互靠近的一端均设有出粉口。
3.根据权利要求1所述的一种激光熔覆喷嘴,其特征在于:所述分流缓冲块(4)为三棱柱型,多个所述分流缓冲块(4)呈等距分布,且分流缓冲块(4)的长边与送粉管道(3)内壁形成间隙。
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Cited By (1)
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CN114574855A (zh) * | 2022-03-02 | 2022-06-03 | 上海米右智能科技有限公司 | 一种激光熔覆设备 |
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- 2020-12-03 CN CN202022892334.8U patent/CN213803986U/zh active Active
Cited By (2)
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CN114574855A (zh) * | 2022-03-02 | 2022-06-03 | 上海米右智能科技有限公司 | 一种激光熔覆设备 |
CN114574855B (zh) * | 2022-03-02 | 2024-02-09 | 深圳市众联激光智能装备有限公司 | 一种激光熔覆设备 |
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