CN213680865U - 进料装置和镀膜设备 - Google Patents

Abstract

一种进料装置和镀膜设备。该进料装置适于向反应腔室输入化学单体气体，其中该反应腔室内设有用于放置待镀膜工件的支架，以利用该化学单体气体的聚合在该待镀膜工件的表面形成聚合物膜层。该进料装置包括：至少一第一进料管，其中该至少一第一进料管适于被可连通地设置于该反应腔室的侧壁下部，用于将该化学单体气体从该反应腔室的该侧壁下部输入至该反应腔室的内部；和至少一第二进料管，其中该至少一第二进料管适于被可连通地设置于该反应腔室的侧壁上部，用于将该化学单体气体从该反应腔室的该侧壁上部输入至该反应腔室的内部。

Description

进料装置和镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，特别是涉及一种进料装置和镀膜设备。

背景技术

等离子镀膜作为提升材料表面性能的有效方法，被广泛应用于航空航天、汽车制造、机械重工和五金工具制造等领域。在等离子镀膜过程中，需要将镀膜设备腔室内空气抽出维持低压力状态，同时需要通入工艺气体和化学单体气体用于反应以在被镀膜工件表面生成聚合物膜层。

现有的镀膜装置在整个等离子镀膜过程中需要持续抽气，并且该现有的镀膜装置上的抽气口、进气口以及加料口的位置都是固定的，使得从该加料口加入的化学单体气体存在向抽气口方向扩散的趋势，导致该化学单体气体在该加料口区域和扩散方向区域的密度相对较大。这就出现了在这些区域放置的被镀膜工件表面上的聚合物涂层厚度较厚，而其他区域涂层厚度较薄的现象，造成批量生产的质量不一致。

实用新型内容

本实用新型的一优势在于提供一进料装置和镀膜设备，其能够使腔室内的化学单体气体密度更加均匀，以便保证在所述腔室内的工件获得均匀的膜层。

本实用新型的另一优势在于提供一进料装置和镀膜设备，其中，在本实用新型的一实施例中，所述进料装置能够使在所述腔室的不同层的工件获得厚度一致的膜层，有助于保证批量生产的质量一致性。

本实用新型的另一优势在于提供一进料装置和镀膜设备，其中，在本实用新型的一实施例中，所述进料装置能够采用被错位布置的多个进料管向所述腔室输入化学单体气体，以提高所述化学单体气体在所述腔室内的均匀分布程度，有助于提升工件上镀膜的均匀度。

本实用新型的另一优势在于提供一进料装置和镀膜设备，其中，在本实用新型的一实施例中，所述进料装置能够采用不同孔径的多个进料管向所述腔室输入化学单体气体，以便根据各部分的进料需求来合理地配置相应孔径的所述进料管，达到均匀性地镀膜要求。

本实用新型的另一优势在于提供一进料装置和镀膜设备，其中，在本实用新型的一实施例中，所述进料装置能够采用可伸缩的进料管向所述腔室输入化学单体气体，以便将化学单体气体输送至所述腔室内的不同位置，以增加化学单体气体在所述腔室内的扰动程度，提高所述化学单体气体在所述腔室内分布的均匀性程度。

本实用新型的另一优势在于提供一进料装置和镀膜设备，其中，在本实用新型的一实施例中，所述进料装置能够采用可间歇性启闭的进料管向所述腔室间歇性地输入化学单体气体，以进一步增加所述化学单体气体在所述腔室内的扰动程度，进一步均匀地分布所述化学单体气体。

本实用新型的另一优势在于提供一进料装置和镀膜设备，其中，在本实用新型的一实施例中，所述进料装置能够采用环形进料管向所述腔室均匀地输入化学单体气体，以防因进料不均匀而造成工件上的镀膜均匀度不佳。

本实用新型的另一优势在于提供一进料装置和镀膜设备，其中，为了达到上述目的，在本实用新型中不需要采用昂贵的材料或复杂的结构。因此，本实用新型成功和有效地提供一解决方案，不只提供简单的进料装置和镀膜设备，同时还增加了所述进料装置和镀膜设备的实用性和可靠性。

为了实现上述至少一优势或其他优势和目的，本实用新型提供了一进料装置，适于向反应腔室输入化学单体气体，其中该反应腔室内设有用于放置待镀膜工件的支架，以利用该化学单体气体的聚合在该待镀膜工件的表面形成聚合物膜层，其中所述进料装置包括：

至少一第一进料管，其中所述至少一第一进料管适于被可连通地设置于该反应腔室的侧壁下部，用于将该化学单体气体从该反应腔室的该侧壁下部输入至该反应腔室的内部；和

至少一第二进料管，其中所述至少一第二进料管适于被可连通地设置于该反应腔室的侧壁上部，用于将该化学单体气体从该反应腔室的该侧壁上部输入至该反应腔室的内部。

根据本实用新型的一实施例，所述至少一第一进料管和所述至少一第二进料管适于被左右错位地安装于该反应腔室的四周侧壁。

根据本实用新型的一实施例，所述第一进料管的进料孔径大于所述第二进料管的进料孔径。

根据本实用新型的一实施例，所述至少一第一进料管包括多个所述第一进料管，并且所述至少一第二进料管包括多个所述第二进料管，其中多个所述第一进料管和多个所述第二进料管分别被上下错位地安装于所述反应腔室的所述侧壁下部和所述侧壁上部。

根据本实用新型的一实施例，所述的进料装置，进一步包括多个第一阀门和多个第二阀门，其中所述第一阀门和所述第二阀门分别被对应地设置于所述第一进料管和所述第二进料管，以分别错时地导通或封闭所述第一进料管和所述第二进料管。

根据本实用新型的一实施例，所述第一阀门和所述第二阀门均为脉冲启闭阀门，以分别间歇地开启或封闭所述第一进料管和所述第二进料管。

根据本实用新型的一实施例，所述第一进料管包括一固接外管和一可伸缩内管，其中所述固接外管被固定地安装于所述反应腔室的所述侧壁下部，并位于所述反应腔室的外部，其中所述可伸缩内管被可连通地连接于所述固接外管，并从所述固接外管延伸至所述反应腔室的内部，以在所述反应腔室之内伸缩。

根据本实用新型的另一方面，本实用新型进一步提供了一进料装置，适于向反应腔室输入化学单体气体，其中该反应腔室内设有用于放置待镀膜工件的支架，以利用该化学单体气体的聚合在该待镀膜工件的表面形成聚合物膜层，其中所述进料装置包括：

一进料管，其中所述进料管适于被设置于该反应腔室的侧壁，用于输送该化学单体气体至该反应腔室；和

一环形喷嘴，其中所述环形喷嘴被安装于所述进料管，并且所述环形喷嘴具有环形形状，并限定一中心开口，用于使该反应腔室的该支架贯穿于所述环形喷嘴的所述中心开口，其中所述环形喷嘴包括一内部通道和一环形开口，其中所述内部通道与所述进料管连通，用于接收来自所述进料管的该化学单体气体，其中所述环形开口适于环绕着该反应腔室内的该支架，用于将在所述内部通道内流动的该化学单体气体释放至该反应腔室的内部。

根据本实用新型的一实施例，所述环形喷嘴包括一环形内壳部分和一环形外壳部分，其中所述环形外壳部分连接所述环形内壳部分，并围绕着所述环形内壳部分延伸，以限定出所述内部通道和所述环形开口。

根据本实用新型的另一方面，本实用新型进一步提供了一镀膜设备，用于利用化学单体气体的聚合在待镀膜工件的表面形成聚合物膜层，其中所述镀膜设备包括：

一反应腔室，其中所述反应腔室内设有用于放置该待镀膜工件的支架；和

一进料装置，其中所述进料装置包括：

至少一第一进料管，其中所述至少一第一进料管被可连通地设置于所述反应腔室的侧壁下部，用于将该化学单体气体从所述反应腔室的所述侧壁下部输入至所述反应腔室的内部；和

至少一第二进料管，其中所述至少一第二进料管被可连通地设置于所述反应腔室的侧壁上部，用于将该化学单体气体从所述反应腔室的所述侧壁上部输入至所述反应腔室的内部。

根据本实用新型的另一方面，本实用新型进一步提供了一镀膜设备，用于利用化学单体气体的聚合在待镀膜工件的表面形成聚合物膜层，其中所述镀膜设备包括：

一反应腔室，其中所述反应腔室内设有用于放置该待镀膜工件的支架；和

一进料装置，其中所述进料装置包括：

一进料管，其中所述进料管被设置于所述反应腔室的侧壁，用于输送该化学单体气体至所述反应腔室；和

一环形喷嘴，其中所述环形喷嘴被安装于所述进料管，并且所述环形喷嘴具有环形形状，并限定一中心开口，用于使所述反应腔室的所述支架贯穿于所述环形喷嘴的所述中心开口，其中所述环形喷嘴包括一内部通道和一环形开口，其中所述内部通道与所述进料管连通，用于接收来自所述进料管的该化学单体气体，其中所述环形开口环绕着所述反应腔室内的所述支架，用于将在所述内部通道内流动的该化学单体气体释放至所述反应腔室的内部。

通过对随后的描述和附图的理解，本实用新型进一步的目的和优势将得以充分体现。

本实用新型的这些和其它目的、特点和优势，通过下述的详细说明，附图和权利要求得以充分体现。

附图说明

图1是根据本实用新型的一第一实施例的一镀膜设备的立体示意图。

图2是根据本实用新型的上述第一实施例的所述镀膜设备的结构示意图。

图3A和图3B示出了根据本实用新型的上述第一实施例的所述镀膜设备内气体流动的示意图。

图4和图5示出了根据本实用新型的上述第一实施例的所述镀膜设备的进料装置的一个变形实施方式。

图6是根据本实用新型的一第二实施例的镀膜设备的立体示意图。

图7示出了根据本实用新型的上述第二实施例的所述镀膜设备的局部剖视示意图。

图8示出了根据本实用新型的上述第二实施例的所述镀膜设备的进料装置的立体示意图。

图9示出了根据本实用新型的上述第二实施例的所述进料装置的放大剖视示意图。

具体实施方式

以下描述用于揭露本实用新型以使本领域技术人员能够实现本实用新型。以下描述中的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本实用新型的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本实用新型的精神和范围的其他技术方案。

本领域技术人员应理解的是，在本实用新型的揭露中，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型中，权利要求和说明书中术语“一”应理解为“一个或多个”，即在一个实施例，一个元件的数量可以为一个，而在另外的实施例中，该元件的数量可以为多个。除非在本实用新型的揭露中明确示意该元件的数量只有一个，否则术语“一”并不能理解为唯一或单一，术语“一”不能理解为对数量的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，属于“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或者暗示相对重要性。本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，属于“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接或者一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接连接，也可以是通过媒介间接连结。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

为了克服因化学单体气体的密度分布不均而导致被镀膜工件的表面镀膜膜层的厚度出现薄厚不一致的问题，本申请人在先前的案件中创造性地提出在支架的旋转轴位置处设置带有多个通孔的中空管，并且将该中空管与反应腔室的抽气口连通，这样在通过真空泵经由所述抽气口对所述反应腔室抽真空时，所述反应腔室内的化学单体气体将从进料管的位置向多个所述通孔扩散，也就是说，进入所述反应腔室的化学单体气体将形成沿着每层置物台的径向方向往所述通孔的位置扩散，使得从所述反应腔室的腔壁到所述中空管区域的化学单体气体的密度的均匀度得以提升。

然而，虽然上述技术方案能够在一定程度上提升化学单体气体在所述反应腔室内分布的均匀性，但由于所述进料管的位置往往被固定地设置在所述反应腔室的侧壁中部，因此从所述进料管进入所述反应腔室的所述化学单体气体只能沿着所述支架的径向方向(即垂直于所述支架的旋转轴的方向)扩散至多个所述通孔，而在所述支架的轴向方向(即平行于所述支架的旋转轴的方向)上的扩散趋势较弱，并且在距离所述支架的旋转轴越远的区域处，所述化学单体气体在所述支架的轴向方向上的扩散越弱。这样，所述化学单体气体虽然在所述支架的径向方向上的密度均匀度较高，但在所述支架的轴向方向上的密度均匀度较差，使得位于不同层的置物台上的待镀膜工件的表面镀膜厚度一致性较差(也就是说，与所述进料管距离越近的所述置物台上的待镀膜工件的表面镀膜厚度越厚，而与所述进料管距离越远的所述置物台上的待镀膜工件的表面镀膜厚度越薄)，仍然存在批量生产的质量不一致。因此，为了进一步提高所述反应腔室内的所述化学单体气体的密度均匀度，参考说明书附图之图1至图3B所示，根据本实用新型的第一实施例的进料装置和镀膜设备被阐明。

具体地，如图1和图2所示，所述镀膜设备1可以包括一反应腔室10和一进料装置20。所述反应腔室10内设有用于放置该待镀膜工件800的支架11，并且所述反应腔室10具有多个进料口12和一或多个抽气口13，其中所述进料装置20适于将一化学单体气源700与所述反应腔室10的所述进料口12连通，用于通过所述进料装置20向所述反应腔室10输入化学单体气体；其中所述反应腔室10的所述抽气口13适于通过抽真空管路901与一真空泵900连通，用于在通过所述真空泵900抽真空的条件下，利用所述化学单体气体的聚合在待镀膜工件800的表面形成聚合物膜层。

特别地，如图1和图2所示，所述反应腔室10的多个所述进料口12包括位于所述反应腔室10的侧壁下部101的至少一下部进料口121和位于所述反应腔室10的侧壁上部102的至少一上部进料口122。对应地，所述镀膜设备1的所述进料装置20可以包括至少一第一进料管21和至少一第二进料管22，其中所述第一进料管21适于被连通于所述反应腔室10的所述下部进料口121，并且所述第二进料管22适于被连通于所述反应腔室10的所述上部进料口122，使得所述化学单体气体能够同时从所述反应腔室10的所述侧壁下部101和所述侧壁上部102被输入至所述反应腔室10的内部。换言之，所述进料装置20的所述至少一第一进料管21适于被可连通地设置于所述反应腔室10的所述侧壁下部101，用于将该化学单体气体从所述反应腔室10的所述侧壁下部101输入至所述反应腔室10的内部；所述至少一第二进料管102适于被可连通地设置于所述反应腔室10的所述侧壁上部102，用于将该化学单体气体从所述反应腔室10的所述侧壁上部102输入至所述反应腔室10的内部。

值得注意的是，由于所述进料装置20能够将所述化学单体气体从所述反应腔室10的所述侧壁下部101和所述侧壁上部102同时输入至所述反应腔室10之内，使得所述化学单体气体在所述反应腔室10内上半部空间和下半部空间中的化学单体气体的密度分布一致性得以提高，因此位于上层和下层的置物台上的待镀膜工件800的表面镀膜厚度一致性也得以提高。此外，经由所述进料装置20的所述第一进料管21输入的所述化学单体气体将在所述反应腔室10的下半部空间内发生扰动，并且经由所述进料装置20的所述第二进料管22输入的所述化学单体气体将在所述反应腔室10的上半部空间内发生扰动，使得所述反应腔室10的上半部空间和下半部空间内的化学单体气体能够进一步均匀地分布。换言之，本申请的所述进料装置能够使所述反应腔室10内的化学单体气体密度较为均匀，以便保证在所述反应腔室10内的所述待镀膜工件800获得较为均匀的膜层.

优选地，如图1和图2所示，所述进料装置20中的所述第一进料管21和所述第二进料管22被左右错位地安装于所述反应腔室10的四周侧壁100，也就是说，所述反应腔室10的所述下部进料口121和所述上部进料口122被左右错位地布置，使得所述下部进料口121和所述上部进料口122在所述反应腔室10的底面上的投影互不重合(相互错位)。这样，当通过所述第一进料管21和所述第二进料管22向所述反应腔室10输入所述化学单体气体时，经由所述第一进料管21输入的所述化学单体气体将在所述反应腔室10内由下向上扩散，并且经由所述第二进料管22输入的所述化学单体气体将在所述反应腔室10内由上向下扩散，使得所述化学单体气体在所述反应腔室10内错位地上下扩散以形成内循环流动，有助于提高所述化学单体气体在所述反应腔室10内均匀性分布的效果和效率。

更优选地，所述进料装置20的所述第一进料管21的进料孔径大于所述第二进料管22的进料孔径，使得从所述第一进料管21输入的所述化学单体气体的流量大于所述第二进料管22输入的所述化学单体气体的流量。这是因为气体自身就由自下向上扩散的趋势，使得从所述第一进料管21输入的所述化学单体气体自下向上扩散的程度大于从所述第二进料管22输入的所述化学单体气体自上向下扩散的程度，所以本申请通过使从所述第一进料管21输入的所述化学单体气体的流量大于所述第二进料管22输入的所述化学单体气体的流量，来确保所述化学单体气体在所述反应腔室10内上半部空间和下半部空间的密度分布具有较高的一致性。

根据本申请的上述第一实施例，如图2所示，所述反应腔室10的所述支架11被可旋转地设置于所述反应腔室10内，以形成绕着一旋转轴转动的旋转支架。更具体地，所述支架11通常包括绕着所述旋转轴公转的一或多个行星置物架111，其中每个所述行星置物架111包括一自转轴和一或多层置物台，其中所述置物台被间隔地叠置于所述自转轴，用于在绕着所述旋转轴进行公转的同时，绕着所述自转轴进行自转。可以理解的是，每层所述置物台上均适于放置一个或多个所述待镀膜工件800，使得所述置物台带动所述待镀膜工件800在所述反应腔室10内进行自转和公转，以便批量地实现镀膜工序。

更具体地，如图2所示，所述支架11可以进一步包括一公自互转机构112，其中所述公自互转机构112被设置于所述行星置物架111，用于将所述行星置物架111的公转与所述行星置物架111的自转进行互相转换。换言之，当所述置物台被驱动以绕着所述自转轴旋转时，所述公自互转机构112能够将所述置物台的自转动力转换成所述所述置物台的公转动力，以使所述置物台绕着所述旋转轴进行公转；同样地，当所述置物台被驱动以绕着旋转轴旋转时，所述公自互转机构112也可以将所述置物台的公转动力转换成所述置物台的自转动力，以使所述置物台绕着所述自转轴进行自转。这样，本实用新型的所述支架11就能够只利用一台电机就能够驱动所述置物台在自转(或公转)的同时也能够公转(或自转)。

值得注意的是，由于在对所述镀膜设备1的所述反应腔室10抽真空之前，所述反应腔室10内将充满空气，而所需的化学单体气体通常会与空气发生反应，因此在经由所述进料口12添加所述化学单体气体时，需要将所述反应腔室10内的空气排出干净，以避免所述化学单体气体与所述空气直接接触。在本申请的一示例中，所述进料装置20的所述第一进料管21和/或所述第二进料管22还可以可选择地连通于一工艺气体气源，用于通过该工艺气体气源向所述反应腔室10添加工艺气体，以通过所述工艺气体置换所述反应腔室10内的空气，防止后续添加的所述化学单体气体与所述空气直接接触而发生反应。可以理解的是，本实用新型的所述工艺气体可以但不限于被实施为诸如氮气、氦气、氖气或氩气等不与所述化学单体气体发生反应的气体。

此外，当利用所述镀膜设备对所述待镀膜工件800进行镀膜时，还需要在所述镀膜设备的所述反应腔室10内提供射频电压，以引发所述化学单体气体发生聚合并沉积在所述待镀膜工件800的表面而形成聚合物镀层。因此，在本实用新型的上述第一实施例中，如图1所示，所述镀膜设备可以进一步包括一电极元件30，其中所述电极元件30被设置于所述反应腔室10，用于向所述反应腔室10内的所述化学单体气体放电，以引发所述化学单体气体发生聚合并沉积在所述待镀膜工件800的表面。

示例性地，如图1和图2所示，在本申请的上述第一实施例中，所述进料装置20的所述至少一第一进料管21包括多个所述第一进料管21，并且所述至少一第二进料管22包括多个所述第二进料管22；对应地，所述反应腔室10的所述下部进料口121和所述上部进料口122的数量分别也是多个，并且所述第一进料管21(或所述第二进料管22)分别与所述下部进料口121和所述上部进料口122一一对应。

优选地，如图1和图2所示，多个所述第一进料管21被上下错位地安装于所述反应腔室10的所述侧壁下部101；相应地，多个所述第二进料管22被上下错位地安装于所述反应腔室10的所述侧壁上部102。换言之，多个所述第一进料管21的位置高度彼此不同，并且多个所述第二进料管22的位置高度也彼此不同，使得每个所述第一进料管21和每个所述第二进料管22均能够对应于所述反应腔室10内所述支架11中不同层的置物台，有助于保证不同层的所述置物台所处的环境基本一致，进而确保被置于不同层的所述置物台上的所述待镀膜工件800上的镀膜厚度具有较高的一致性。

例如，在本申请的一示例中，所述第一进料管21和所述第二进料管22的数量分别为四个，也就是说，所述反应腔室10的所述进料口12的数量为八个，以便从各个方位为所述反应腔室10输入所述化学单体气体，提高所述化学单体气体的均匀分布程度。

值得一提的是，尽管在附图1至图5以及接下来的描述中以所述反应腔室10具有八个所述进料口12为例，阐述本实用新型的所述镀膜设备的特征和优势，本领域技术人员可以理解的是，附图1至图5以及接下来的描述中揭露的所述进料口12的具体数量仅为举例，其并不构成对本实用新型的内容和范围的限制，例如，在所述镀膜设备的其他示例中，所述进料口12的数量也可以是三个、五个，甚至更多。

值得注意的是，虽然所述支架11在所述反应腔室10内旋转时会搅动所述反应腔室10内的所述化学单体气体，使得所述化学单体气体的均匀性分布在一定程度上得以提升，但由于所述第一进料管21和所述第二进料管22均被固定地安装于所述反应腔室10的所述四周侧壁100，使得经由所述第一进料管21和所述第二进料管22输送的所述化学单体气体将从所述反应腔室10的固定位置进入，导致所述化学单体气体的扩散路径基本保持不变，造成所述化学单体气体在整个所述反应腔室10内难以快速达到足够高的均匀度，因此，为了解决上述问题，如图1和图2所示，本申请的上述第一实施例的所述镀膜设备1的所述进料装置20可以进一步包括多个第一阀门23和多个第二阀门24，其中所述第一阀门23和所述第二阀门24分别被对应地设置于所述第一进料管21和所述第二进料管22，以错时地导通或封闭所述第一进料管21和所述第二进料管22。

换言之，如图3A和图3B所示，当所述第一阀门23被控制以导通所述第一进料管21时，所述第二阀门24将被控制以封闭所述第二进料管22，使得所述化学单体气体在此时仅能够通过所述第一进料管21进入所述反应腔室10，进而自下而上地扩散；而当所述第一阀门23被控制以封闭所述第一进料管21时，所述第二阀门24将被控制以封闭所述第二进料管22，使得所述化学单体气体在此时仅能够通过所述第二进料管22进入所述反应腔室10，进而自上而下地扩散。这样，所述化学单体气体在不同时刻将会朝向不同的方向扩散，使得其扩散路径发生变化，有利于提高所述化学单体气体在整个所述反应腔室10内达到足够高的均匀度的速度。

优选地，所述第一阀门23和所述第二阀门24均被实施为脉冲启闭阀门，以通过脉冲信号控制阀门的启闭，进而间歇地且错时地开启或封闭所述第一进料管21和所述第二进料管22，使得所述化学单体气体在所述反应腔室10内扩散路径随着时间变化而间歇变化，以便进一步提高所述化学单体气体在整个所述反应腔室10内达到足够高的均匀度的速度。

值得一提的是，为了使所述化学单体气体在所述反应腔室10内快速地达到较高的均匀度，附图4和图5示出了根据本申请的上述第一实施例的所述镀膜设备1的所述进料装置20的一变形实施方式。具体地，相比于根据本实用新型的上述第一实施例，根据本实用新型的所述变形实施方式的不同之处在于：如图4和图5所示，所述进料装置20的所述第一进料管21可以包括一可伸缩内管211和一固接外管212，其中所述固接外管212被固定地安装于所述反应腔室10的所述侧壁下部101并位于所述反应腔室10的外部，其中所述可伸缩内管211被可连通地连接于所述固接外管212，并从所述反应腔室10的所述下部进料口121延伸至所述反应腔室10的内部，以在所述反应腔室10之内伸缩，使得所述可伸缩内管211的出料管口在所述反应腔室10内的位置得以改变，进而改变经由所述可伸缩内管211输入的所述化学单体气体在所述反应腔室10内的扩散路径，从而能够实现提高所述化学单体气体在整个所述反应腔室10内达到足够高的均匀度的速度的目的。

具体地，所述第一进料管21的所述可伸缩内管211可以但不限于被实施为具有伸缩膨胀节的管道，以便被所述化学单体气体的气流冲击而使所述可伸缩内管211进行实时地伸缩，进行实时改变所述化学单体气体在所述反应腔室10内的扩散路径。例如，如图4和图5所示，当所述第一进料管21上的所述第一阀门23被控制以导通所述第一进料管21时，所述第一进料管21的所述可伸缩内管211内的所述化学单体气体的流量将由无到有并逐渐变大，使得所述可伸缩内管211被拉伸以使所述可伸缩内管211的出料管口靠近所述反应腔室10内的所述支架11，有助于提高所述镀膜设备1的镀膜效率；而当所述第一进料管21上的所述第一阀门23被控制以封闭所述第一进料管21时，所述第一进料管21的所述可伸缩内管211内的所述化学单体气体将逐渐变小并由有到无，使得所述可伸缩内管211恢复原状以使所述可伸缩内管211的出料管口远离所述反应腔室10内的所述支架11，以方便取放所述支架10上的所述待镀膜工件800。

优选地，所述可伸缩内管211具有弹性结构，使得所述可伸缩内管211在所述化学单体气体流过所述可伸缩内管211的过程中，发生摆动或晃动，以改变所述可伸缩内管211的出料管口在所述反应腔室10内的位置，进而实时地改变所述化学单体气体的扩散路径。

更优选地，本申请的所述第二进料管22的结构也可以与所述第一进料管21的结构相同，使得经由所述第二进料管22输入的所述化学单体气体的扩散路径也实时地发生改变。

值得注意的是，尽管本申请的上述第一实施例仍然只能够在一定程度上改善所述化学单体气体在所述反应腔室10内的均匀程度，但由于所述镀膜设备1的所述反应腔室10上不得不设置多个所述进料口12，使得所述反应腔室10的结构强度被削弱。与此同时，所述镀膜设备1的所述进料装置20不得不配置同样数量的所述第一进料管21和所述第二进料管22，极易因连接不严而导致所述化学单体气体的泄漏，容易浪费资源并污染环境。因此，为了解决上述问题，附图6至图9示出了根据本申请的一第二实施例的所述镀膜设备1A，其能够在仅设置一个所述进料口12的基础上，就能够改善所述化学单体气体在所述反应腔室10内的均匀程度。

具体地，相比于根据本申请的上述第一实施例，如图6和图7所示，根据本申请的所述第二实施例的所述镀膜设备1A的不同之处在于：所述反应腔室10的所述进料口12的数量仅为一个；与此同时，所述进料装置20A可以包括一进料管21A和一环形喷嘴22A，其中所述进料管21A被设置于所述反应腔室10的所述侧壁100，并且所述进料管21A对应于所述反应腔室10的所述进料口12，其中所述环形喷嘴22A被安装于所述进料管21A，并且所述环形喷嘴22A具有环形形状，并限定一中心开口2203A，使得所述反应腔室10的所述支架11贯穿于所述环形喷嘴22A的所述中心开口2203A。与此同时，所述环形喷嘴22A包括一内部通道2201A和一环形开口2202A，其中所述内部通道2201A与所述进料管21A连通，用于接收来自所述进料管21A的所述化学单体气体；其中所述环形开口2202A环绕着所述反应腔室10内的所述支架11，用于将在所述内部通道2201A内流动的所述化学单体气体释放至所述反应腔室10的内部。

值得注意的是，由于所述环形喷嘴22A的所述环形开口2202A环绕着所述反应腔室10的所述支架11释放所述化学单体气体，因此所述化学单体气体能够在所述支架11的四周同步释放所述化学单体气体；与此同时，从所述环形开口2202A释放的所述化学单体气体将形成环形气流以吸引位于所述反应腔室10内原有的所述化学单体气体，进而带动所述化学单体气体在所述反应腔室10内循环流动，更加利于加速所述化学单体气体在所述反应腔室10内的扩散，进而提高所述化学单体气体在所述反应腔室10内的均匀程度。此外，本申请的所述进料装置20A在所述环形喷嘴22A的作用下，仅利用一个所述进料管21A(即所述反应腔室10的所述侧壁100上仅需开设一个所述进料口12)就能够实现在所述支架11的四周同步释放所述化学单体气体，不仅能够提高所述化学单体气体的分布均匀度，而且还能够提升所述反应腔室10的结构强度，有效地减小所述化学单体气体泄漏的风险。

优选地，如图8和图9所示，所述环形喷嘴22A包括一环形内壳部分221A和一环形外壳部分222A，其中所述环形外壳部分222A连接所述环形内壳部分221A，并围绕着所述环形内壳部分221A延伸，以限定出所述环形喷嘴22A的所述内部通道2201A和所述环形开口2202A。具体地，所述环形喷嘴22A的所述环形内壳部分221A的外表面与所述环形外壳部分222A的内表面之间的狭槽定义出所述环形喷嘴22A的所述环形开口2202A。

更优选地，如图9所示，所述环形喷嘴22A的内周边包括位于所述环形开口2202A附近的柯恩达表面2211A和位于所述柯恩达表面2211A下游的扩散表面2212A，其中所述柯恩达表面2211A用于指导从所述环形开口2202A释放的所述化学单体气体，其中所述扩散表面2212A被布置成沿着远离所述环形开口2202A的方向逐渐远离所述中心开口2203A的中心轴线X，以形成直径逐渐变大的所述中心开口2203A，有助于促进从所述环形开口2202A释放的所述化学单体气体的流动。

特别地，如图9所示，所述环形喷嘴22A的所述内周边进一步包括位于所述扩散表面2212A下游的引导表面2213A，其中所述引导表面2213A与所述扩散表面2212A成一角度，以进一步有助于从所述环形开口2202A释放的所述化学单体气体的流动。优选地，所述引导表面2213A被布置成基本平行于所述中心开口2203A的所述中心轴线X，使得所述化学单体气体沿着所述中心轴线X的方向离开所述环形喷嘴22A，有助于延长所述化学单体气体的流动距离，提高所述化学单体气体在所述反应腔室10内的扰动程度。

本领域的技术人员应理解，上述描述及附图中所示的本实用新型的实施例只作为举例而并不限制本实用新型。本实用新型的目的已经完整并有效地实现。本实用新型的功能及结构原理已在实施例中展示和说明，在没有背离所述原理下，本实用新型的实施方式可以有任何变形或修改。

Claims (11)

1.进料装置，适于向反应腔室输入化学单体气体，其中该反应腔室内设有用于放置待镀膜工件的支架，以利用该化学单体气体的聚合在该待镀膜工件的表面形成聚合物膜层，其特征在于，其中所述进料装置包括：

至少一第一进料管，其中所述至少一第一进料管适于被可连通地设置于该反应腔室的侧壁下部，用于将该化学单体气体从该反应腔室的该侧壁下部输入至该反应腔室的内部；和

至少一第二进料管，其中所述至少一第二进料管适于被可连通地设置于该反应腔室的侧壁上部，用于将该化学单体气体从该反应腔室的该侧壁上部输入至该反应腔室的内部。

2.如权利要求1所述的进料装置，其中，所述至少一第一进料管和所述至少一第二进料管适于被左右错位地安装于该反应腔室的四周侧壁。

3.如权利要求2所述的进料装置，其中，所述第一进料管的进料孔径大于所述第二进料管的进料孔径。

4.如权利要求3所述的进料装置，其中，所述至少一第一进料管包括多个所述第一进料管，并且所述至少一第二进料管包括多个所述第二进料管，其中多个所述第一进料管和多个所述第二进料管分别被上下错位地安装于所述反应腔室的所述侧壁下部和所述侧壁上部。

5.如权利要求4所述的进料装置，进一步包括多个第一阀门和多个第二阀门，其中所述第一阀门和所述第二阀门分别被对应地设置于所述第一进料管和所述第二进料管，以分别错时地导通或封闭所述第一进料管和所述第二进料管。

6.如权利要求5所述的进料装置，其中，所述第一阀门和所述第二阀门均为脉冲启闭阀门，以分别间歇地开启或封闭所述第一进料管和所述第二进料管。

7.如权利要求1至6中任一所述的进料装置，其中，所述第一进料管包括一固接外管和一可伸缩内管，其中所述固接外管被固定地安装于所述反应腔室的所述侧壁下部，并位于所述反应腔室的外部，其中所述可伸缩内管被可连通地连接于所述固接外管，并从所述固接外管延伸至所述反应腔室的内部，以在所述反应腔室之内伸缩。

8.进料装置，适于向反应腔室输入化学单体气体，其中该反应腔室内设有用于放置待镀膜工件的支架，以利用该化学单体气体的聚合在该待镀膜工件的表面形成聚合物膜层，其特征在于，其中所述进料装置包括：

一进料管，其中所述进料管适于被设置于该反应腔室的侧壁，用于输送该化学单体气体至该反应腔室；和

一环形喷嘴，其中所述环形喷嘴被安装于所述进料管，并且所述环形喷嘴具有环形形状，并限定一中心开口，用于使该反应腔室的该支架贯穿于所述环形喷嘴的所述中心开口，其中所述环形喷嘴包括一内部通道和一环形开口，其中所述内部通道与所述进料管连通，用于接收来自所述进料管的该化学单体气体，其中所述环形开口适于环绕着该反应腔室内的该支架，用于将在所述内部通道内流动的该化学单体气体释放至该反应腔室的内部。

9.如权利要求8所述的进料装置，其中，所述环形喷嘴包括一环形内壳部分和一环形外壳部分，其中所述环形外壳部分连接所述环形内壳部分，并围绕着所述环形内壳部分延伸，以限定出所述内部通道和所述环形开口。

10.镀膜设备，用于利用化学单体气体的聚合在待镀膜工件的表面形成聚合物膜层，其特征在于，其中所述镀膜设备包括：

一反应腔室，其中所述反应腔室内设有用于放置该待镀膜工件的支架；和

一进料装置，其中所述进料装置包括：

至少一第一进料管，其中所述至少一第一进料管被可连通地设置于所述反应腔室的侧壁下部，用于将该化学单体气体从所述反应腔室的所述侧壁下部输入至所述反应腔室的内部；和

至少一第二进料管，其中所述至少一第二进料管被可连通地设置于所述反应腔室的侧壁上部，用于将该化学单体气体从所述反应腔室的所述侧壁上部输入至所述反应腔室的内部。

11.镀膜设备，用于利用化学单体气体的聚合在待镀膜工件的表面形成聚合物膜层，其特征在于，其中所述镀膜设备包括：

一反应腔室，其中所述反应腔室内设有用于放置该待镀膜工件的支架；和

一进料装置，其中所述进料装置包括：

一进料管，其中所述进料管被设置于所述反应腔室的侧壁，用于输送该化学单体气体至所述反应腔室；和

一环形喷嘴，其中所述环形喷嘴被安装于所述进料管，并且所述环形喷嘴具有环形形状，并限定一中心开口，用于使所述反应腔室的所述支架贯穿于所述环形喷嘴的所述中心开口，其中所述环形喷嘴包括一内部通道和一环形开口，其中所述内部通道与所述进料管连通，用于接收来自所述进料管的该化学单体气体，其中所述环形开口环绕着所述反应腔室内的所述支架，用于将在所述内部通道内流动的该化学单体气体释放至所述反应腔室的内部。

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