CN213555994U - 一种半导体器件排气设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了半导体器件排气技术领域的一种半导体器件排气设备,包括过滤壳体,过滤壳体的顶部固定连接有水箱,水箱的顶部连通有排气箱,过滤壳体的内腔从上至下依次设置有活性炭吸附板、无纺布板和过滤板,过滤壳体内腔的两侧且位于活性炭吸附板、无纺布板和过滤板的两侧均固定连接有固定块;首先,将吸气板、第三连管、三通管、第二连管和风机安装于半导体器件制造设备内部,通过本实用新型设有的风机通过第二连管与三通管的连通产生吸力,再通过三通管与第三连管和吸气板的连通对制造设备内部的气体进行吸取,在吸取的同时,再通过风机出风端与过滤壳体的连通将废气注入过滤壳体内腔的底部,实现对半导体器件进行排气的效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体器件排气技术领域,具体为一种半导体器件排气设备。
背景技术
半导体器件是导电性介于良导电体与绝缘体之间,利用半导体材料特殊电特性来完成特定功能的电子器件,可用来产生、控制、接收、变换、放大信号和进行能量转换,半导体器件的半导体材料是硅、锗或砷化镓,可用作整流器、振荡器、发光器、放大器、测光器等器材。为了与集成电路相区别,有时也称为分立器件。绝大部分二端器件(即晶体二极管)的基本结构是一个PN结;
在半导体器件制造时需要用到排气设备,现有技术中的排气设备不设有过滤结构,直接将半导体器件产生的废气排出容易影响周边环境,达不到国家废气排放标准,为此,我们提出一种半导体器件排气设备。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种半导体器件排气设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种半导体器件排气设备,包括过滤壳体,所述过滤壳体的顶部固定连接有水箱,所述水箱的顶部连通有排气箱,所述过滤壳体的内腔从上至下依次设置有活性炭吸附板、无纺布板和过滤板,所述过滤壳体内腔的两侧且位于活性炭吸附板、无纺布板和过滤板的两侧均固定连接有固定块,所述固定块的内表面开设有滑轨,所述滑轨的内腔滑动连接有滑块,所述滑块分别与活性炭吸附板、无纺布板和过滤板固定连接,所述过滤壳体的顶部固定连通有第一连管,所述过滤壳体与水箱通过第一连管进行连通,所述过滤壳体后侧的底部安装有风机,且风机的出风端与过滤壳体后侧的底部连通,风机的进风端连通有第二连管,所述第二连管远离风机进风端的一端连通有三通管,所述三通管的顶部与底部均连通有第三连管,两个所述第三连管远离三通管的一端连通有吸气板。
优选的,所述过滤壳体的前表面通过铰链转动连接有活动门,所述活动门前表面的右侧固定连接有视窗。
优选的,所述活动门的表面开设有视窗,所述视窗的内腔嵌设有透光玻璃,所述透光玻璃的材质为钢化玻璃。
优选的,所述排气箱的前侧开设有安装槽,且安装槽的内部固定连接有防尘网板。
优选的,所述排气箱的顶部连通有加水管,且加水管的顶部安装有防尘盖。
优选的,所述水箱右侧的底部连通有排水管,且排水管的表面安装有控水阀门。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
一、首先,将吸气板、第三连管、三通管、第二连管和风机安装于半导体器件制造设备内部,通过本实用新型设有的风机通过第二连管与三通管的连通产生吸力,再通过三通管与第三连管和吸气板的连通对制造设备内部的气体进行吸取,在吸取的同时,再通过风机出风端与过滤壳体的连通将废气注入过滤壳体内腔的底部,实现对半导体器件进行排气的效果;
二、再通过气体上升依次经过过滤板、无纺布板和活性炭吸附板对废气中的杂质以及活性炭物质进行吸附,对废气进行过滤,当废气依次通过过滤板、无纺布板和活性炭吸附板后,通过第一连管将废气注入水箱的内腔,水箱内腔的水对废气进行清洗过滤,实现对废气过滤,能够达到国家排放标准的效果。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图;
图2为本实用新型过滤壳体的剖视结构示意图;
图3为本实用新型的水箱结构示意图;
图4为本实用新型图2中A区的放大结构示意图。
图中:1、过滤壳体;2、水箱;3、排气箱;4、活性炭吸附板;5、无纺布板;6、过滤板;7、固定块;8、滑轨;9、滑块;10、第一连管;11、第二连管;12、三通管;13、第三连管;14、吸气板;15、活动门;16、把手;17、视窗;18、透光玻璃;19、防尘网板。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1、图2、图3和图4,本实用新型提供一种技术方案:一种半导体器件排气设备,包括过滤壳体1,过滤壳体1的顶部固定连接有水箱2,水箱2的顶部连通有排气箱3,过滤壳体1的内腔从上至下依次设置有活性炭吸附板4、无纺布板5和过滤板6,过滤壳体1内腔的两侧且位于活性炭吸附板4、无纺布板5和过滤板6的两侧均固定连接有固定块7,固定块7的内表面开设有滑轨8,滑轨8的内腔滑动连接有滑块9,滑块9分别与活性炭吸附板4、无纺布板5和过滤板6固定连接,过滤壳体1的顶部固定连通有第一连管10,过滤壳体1与水箱2通过第一连管10进行连通,过滤壳体1后侧的底部安装有风机,且风机的出风端与过滤壳体1后侧的底部连通,风机的进风端连通有第二连管11,第二连管11远离风机进风端的一端连通有三通管12,三通管12的顶部与底部均连通有第三连管13,两个第三连管13远离三通管12的一端连通有吸气板14。
请参阅图1,过滤壳体1的前表面通过铰链转动连接有活动门15,活动门15前表面的右侧固定连接有视窗17,能够便于工作人员打开过滤壳体1,便于工作人员对活性炭吸附板4、无纺布板5和过滤板6进行清理或更换;
请参阅图1,活动门15的表面开设有视窗17,视窗17的内腔嵌设有透光玻璃18,透光玻璃18的材质为钢化玻璃,能够便于工作人员观察过滤壳体1的内腔,避免活性炭吸附板4、无纺布板5和过滤板6表面杂质过多,影响正常工作的情况出现;
请参阅图1,排气箱3的前侧开设有安装槽,且安装槽的内部固定连接有防尘网板19,能够对外部的杂物或灰尘进行过滤,避免杂物或灰尘进入水箱2的内腔,对水造成污染的情况出现;
请参阅图,排气箱3的顶部连通有加水管,且加水管的顶部安装有防尘盖,能够便于工作人员对水箱2进行加水,且避免灰尘通过加水管进入水箱2的内腔,对水造成污染的情况出现;
请参阅图1,水箱2右侧的底部连通有排水管,且排水管的表面安装有控水阀门;
在使用时,首先,将吸气板14、第三连管13、三通管12、第二连管11和风机安装于半导体器件制造设备内部,通过本实用新型设有的风机通过第二连管11与三通管12的连通产生吸力,再通过三通管12与第三连管13和吸气板14的连通对制造设备内部的气体进行吸取,在吸取的同时,再通过风机出风端与过滤壳体1的连通将废气注入过滤壳体1内腔的底部,实现对半导体器件进行排气的效果,再通过气体上升依次经过过滤板6、无纺布板5和活性炭吸附板4对废气中的杂质以及活性炭物质进行吸附,对废气进行过滤,当废气依次通过过滤板6、无纺布板5和活性炭吸附板4后,通过第一连管10将废气注入水箱2的内腔,水箱2内腔的水对废气进行清洗过滤,实现对废气过滤,能够达到国家排放标准的效果。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种半导体器件排气设备,包括过滤壳体(1),其特征在于:所述过滤壳体(1)的顶部固定连接有水箱(2),所述水箱(2)的顶部连通有排气箱(3),所述过滤壳体(1)的内腔从上至下依次设置有活性炭吸附板(4)、无纺布板(5)和过滤板(6),所述过滤壳体(1)内腔的两侧且位于活性炭吸附板(4)、无纺布板(5)和过滤板(6)的两侧均固定连接有固定块(7),所述固定块(7)的内表面开设有滑轨(8),所述滑轨(8)的内腔滑动连接有滑块(9),所述滑块(9)分别与活性炭吸附板(4)、无纺布板(5)和过滤板(6)固定连接,所述过滤壳体(1)的顶部固定连通有第一连管(10),所述过滤壳体(1)与水箱(2)通过第一连管(10)进行连通,所述过滤壳体(1)后侧的底部安装有风机,且风机的出风端与过滤壳体(1)后侧的底部连通,风机的进风端连通有第二连管(11),所述第二连管(11)远离风机进风端的一端连通有三通管(12),所述三通管(12)的顶部与底部均连通有第三连管(13),两个所述第三连管(13)远离三通管(12)的一端连通有吸气板(14)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体器件排气设备,其特征在于:所述过滤壳体(1)的前表面通过铰链转动连接有活动门(15),所述活动门(15)前表面的右侧固定连接有视窗(17)。
3.根据权利要求2所述的一种半导体器件排气设备,其特征在于:所述活动门(15)的表面开设有视窗(17),所述视窗(17)的内腔嵌设有透光玻璃(18),所述透光玻璃(18)的材质为钢化玻璃。
4.根据权利要求1所述的一种半导体器件排气设备,其特征在于:所述排气箱(3)的前侧开设有安装槽,且安装槽的内部固定连接有防尘网板(19)。
5.根据权利要求1所述的一种半导体器件排气设备,其特征在于:所述排气箱(3)的顶部连通有加水管,且加水管的顶部安装有防尘盖。
6.根据权利要求1所述的一种半导体器件排气设备,其特征在于:所述水箱(2)右侧的底部连通有排水管,且排水管的表面安装有控水阀门。
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CN202022189249.5U CN213555994U (zh) | 2020-09-29 | 2020-09-29 | 一种半导体器件排气设备 |
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CN202022189249.5U CN213555994U (zh) | 2020-09-29 | 2020-09-29 | 一种半导体器件排气设备 |
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CN (1) | CN213555994U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN113828081A (zh) * | 2021-11-09 | 2021-12-24 | 徐洪波 | 一种工业废气除尘脱硫脱硝装置 |
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2020
- 2020-09-29 CN CN202022189249.5U patent/CN213555994U/zh active Active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN113828081A (zh) * | 2021-11-09 | 2021-12-24 | 徐洪波 | 一种工业废气除尘脱硫脱硝装置 |
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