CN213435492U - 一种膏药原料清理装置 - Google Patents

Abstract

一种膏药原料清理装置，其目的在于解决现有膏药原料清理设备筛检不够彻底的问题；包括箱体，箱体上方设有进料口，进料口上设置有可转动开启的挡板，箱体上设置有控制挡板的控制箱，箱体内部设有位于进料口下方的输送带，输送带呈矩形形状运转，输送带上均布有筛孔，箱体内设有位于上侧输送带下方的第一收集箱，输送带右侧设有隔板，隔板上均布有网孔，右侧的输送带内部设有风机，风机朝向隔板方向，隔板将箱体右侧分隔成第二收集箱，输送带下方为原料箱；本实用新型结构巧妙，使用方便，将原料投入到箱体内，在箱体内部原料内杂质能够分别经过输送带筛孔和风机的双重筛选，将杂质最大化的清理干净，从而提升最终的产品质量。

Description

一种膏药原料清理装置

技术领域

本实用新型涉及膏药生产设备技术领域，特别是涉及一种膏药原料清理装置。

背景技术

在膏药生产前，需要将原料先进行清理，将原料中含有的杂质祛除干净，从而提高产品质量，现有工艺中，大多仍采用人工筛选的方式，使用网筛将原料进行过滤筛检，而在大批量的生产中，这样的工艺方法会极大的增大工人的工作量，且效率较低，无法满足大批量生产的需求，因此，采用原料清理设备来进行筛检是必然趋势，目前已经有清理设备面世，但这些清理设备基本上都采用振动筛的方式，仅将原料中明显与原料本身不符的杂质从原料中剔除，但是有些形状类似而重量明显不达标的杂质却无法剔除，仍然会进入到下道工序中，影响最终产品的质量，因此，我们需要对其进行改进。

实用新型内容

为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供了一种膏药原料清理装置，其目的在于解决现有膏药原料清理设备筛检不够彻底的问题。

其解决技术问题的技术方案是：一种膏药原料清理装置，包括箱体，箱体上方设有进料口，进料口上设置有可转动开启的挡板，箱体上设置有控制挡板的控制箱，箱体内部设有位于进料口下方的输送带，输送带呈矩形形状运转，输送带上均布有筛孔，箱体内设有位于上侧输送带下方的第一收集箱，输送带右侧设有隔板，隔板上均布有网孔，右侧的输送带内部设有风机，风机朝向隔板方向，隔板将箱体右侧分隔成第二收集箱，输送带下方为原料箱。

本实用新型结构巧妙，使用方便，将原料投入到箱体内，挡板能够避免在对原料清理时杂质溅落到周边环境中，污染周边环境；在箱体内部原料内杂质能够分别经过输送带筛孔和风机的双重筛选，将杂质最大化的清理干净，从而提升最终的产品质量。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型的主视结构剖视示意图。

图3是本实用新型中控制箱的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细说明。

由图1至图3可知，一种膏药原料清理装置，包括箱体1，箱体1上方设有进料口2，进料口2上设置有可转动开启的挡板3，箱体1上设置有控制挡板3的控制箱4，箱体1内部设有位于进料口2下方的输送带5，输送带5呈矩形形状运转，输送带5上均布有筛孔，箱体1内设有位于上侧输送带5下方的第一收集箱6，输送带5右侧设有隔板7，隔板7上均布有网孔，右侧的输送带5内部设有风机8，风机8朝向隔板7方向，隔板7将箱体1右侧分隔成第二收集箱9，输送带5下方为原料箱10。

在清理膏药原料，尤其是片状原料时，使用本装置进行清理，将会十分方便，将原料从进料口2投入到箱体1内，投入时挡板3开启，当投入后将挡板3封闭进料筐，避免在清理时，较轻的杂质从进料口2内飘出，对周边环境造成不良影响。

原料在输送带5上，经过筛孔的过滤作用，明显小于原料尺寸的杂质从筛孔掉落进第一收集箱6内，其余杂质混合原料在输送带5作用下继续行进，当运行到右侧从输送带5上掉落时，在风机8作用下，原料和杂质均被吹向隔板7，隔板7上有网孔，隔板7上网孔较大，能够穿过较大的杂质，通过调节输送带5与隔板7之间的距离，使得原料本身不会从网孔内穿过，而质量较轻但体积较大的杂质被风机8吹向网孔，进入第二收集箱9内，此时没有杂质的原料掉落在原料箱10内。

输送带5的行进和风机8的控制均由控制单元进行控制，控制单元为本领域常规技术，在此不做详细描述。

为了便于控制挡板3的启闭，进料口2两侧分别设有第一转轴11和第二转轴12，挡板3设有两个且分别固定在第一转轴11和第二转轴12上，控制箱4内设有分别与第一转轴11连接的第一齿轮13和与第二转轴12外端连接的第二齿轮14，第一齿轮13同轴固定有第一支架15，第二齿轮14同轴固定有第二支架16，第一支架15内设有与第一齿轮13啮合的第一齿条17，第二支架16内设有与第二齿轮14啮合的第二齿条18，第一齿条17和第二齿条18同时固定在滑块19上，滑块19在控制箱4上竖直滑动，控制箱4上开设有竖直的滑槽20，滑块19在滑槽20内竖直滑动，滑块19包括两个分别与第一齿条17、第二齿轮14滑动套接的套管。

由于第一支架15和第一齿轮13同轴固定，当挡板3开启或关闭时，第一齿轮13带动第一支架15同步转动，而第一齿条17与第一齿轮13啮合，因此第一齿条17与第一齿轮13之间无相对位移，将会保持同步转动，同理第二齿条18与第二齿轮14相对静止，保持同步转动，由于第一齿条17和第二齿条18同时固定在滑块19上，因此，第一齿轮13和第二齿轮14同时反向转动，当需要开启进料口2时，向下滑动滑块19，第一齿条17和第二齿条18带动第一齿轮13和第二齿轮14转动，使得挡板3不阻挡进料口2位置，且由于第一齿轮13、第一支架15、第一齿条17、滑块19和滑槽20形成的受力情况与第二齿轮14、第二支架16、第二齿条18、滑块19和滑槽20形成的受力情况刚好在滑块19处抵消，使得第一齿轮13和第二齿轮14不会反向转动，从而避免在进料时挡板3关闭进料口2。

为实现挡板3对进料口2的封堵作用，控制箱4内滑动设有分别与第一齿轮13啮合的第三齿条21和与第二齿轮14啮合的第四齿条22，第三齿条21经第一弹簧23与控制箱4连接，第四齿条22经第二弹簧24与控制箱4连接，第一弹簧23和第二弹簧24分别推动第三齿条21和第四齿轮移动，从而使得第一齿轮13和第二齿轮14转动，使得挡板3将进料口2封闭。

当进料完成后，向上滑动滑块19，使得挡板3复位将进料口2挡住，由于有第一弹簧23和第二弹簧24的存在，只需要将滑块19推过死点后，第一齿轮13和第二齿轮14在第一弹簧23和第二弹簧24的作用下会自动进行复位，从而使挡板3将进料口2封堵，避免杂质外泄。

本实用新型与现有技术相比，具有以下有益效果：原料在进行清理时，箱体内部形成密封的腔室，避免杂质外泄对环境造成破坏，保护工作环境；原料经过输送带以及风机的双重筛选作用，能够最大限度的将杂质进行清理，避免杂质进入后序的工作中，从而提升最终的产品质量。

Claims (6)

1.一种膏药原料清理装置，其特征在于，包括箱体（1），箱体（1）上方设有进料口（2），进料口（2）上设置有可转动开启的挡板（3），箱体（1）上设置有控制挡板（3）的控制箱（4），箱体（1）内部设有位于进料口（2）下方的输送带（5），输送带（5）呈矩形形状运转，输送带（5）上均布有筛孔，箱体（1）内设有位于上侧输送带（5）下方的第一收集箱（6），输送带（5）右侧设有隔板（7），隔板（7）上均布有网孔，右侧的输送带（5）内部设有风机（8），风机（8）朝向隔板（7）方向，隔板（7）将箱体（1）右侧分隔成第二收集箱（9），输送带（5）下方为原料箱（10）。

2.根据权利要求1所述的一种膏药原料清理装置，其特征在于，所述的进料口（2）两侧分别设有第一转轴（11）和第二转轴（12），挡板（3）设有两个且分别固定在第一转轴（11）和第二转轴（12）上。

3.根据权利要求2所述的一种膏药原料清理装置，其特征在于，所述的控制箱（4）内设有分别与第一转轴（11）连接的第一齿轮（13）和与第二转轴（12）外端连接的第二齿轮（14），第一齿轮（13）同轴固定有第一支架（15），第二齿轮（14）同轴固定有第二支架（16），第一支架（15）内设有与第一齿轮（13）啮合的第一齿条（17），第二支架（16）内设有与第二齿轮（14）啮合的第二齿条（18），第一齿条（17）和第二齿条（18）同时固定在滑块（19）上，滑块（19）在控制箱（4）上竖直滑动。

4.根据权利要求3所述的一种膏药原料清理装置，其特征在于，所述的控制箱（4）上开设有竖直的滑槽（20），滑块（19）在滑槽（20）内竖直滑动。

5.根据权利要求3所述的一种膏药原料清理装置，其特征在于，所述的滑块（19）包括两个分别与第一齿条（17）、第二齿轮（14）滑动套接的套管。

6.根据权利要求3所述的一种膏药原料清理装置，其特征在于，所述的控制箱（4）内滑动设有分别与第一齿轮（13）啮合的第三齿条（21）和与第二齿轮（14）啮合的第四齿条（22），第三齿条（21）经第一弹簧（23）与控制箱（4）连接，第四齿条（22）经第二弹簧（24）与控制箱（4）连接，第一弹簧（23）和第二弹簧（24）分别推动第三齿条（21）和第四齿轮移动，从而使得第一齿轮（13）和第二齿轮（14）转动，使得挡板（3）将进料口（2）封闭。

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