CN213320762U - 一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置 - Google Patents

一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置 Download PDF

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冯思锦
陈金桂
陈国辉
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Abstract

本实用新型涉及多孔砖加工领域,特别是指一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置,包括机架和清洗机构,本实用新型优点是当需要清理机口时,把盖板覆盖在机架端口使限位块嵌入限位槽内,同时限位块表面的磁条与铸铁机架相吸合,再通过人工或机械臂顶住盖板,打开连接口外接的工厂水管的开关,使水流穿过导水腔和导水管进入机口填满机架,而导水管为螺旋结构使得导水管流出的水流在惯性作用下呈螺旋状流出,且导水管的直径由导水腔至芯杆方向逐渐减小使得从导水管内流出水流的流速较快,会在机口内的水流流场中形成许多小漩涡,使流场内的水流更加波动起伏,加大水流的流动速度和冲刷力度,避免机口残留余泥,提高机口的清理效果和效率。

Description

一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置
技术领域
本实用新型涉及多孔砖加工领域,特别是指一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置。
背景技术
多孔砖特别是非黏土多孔砖具有节能、节地、利废等优点,是一种很好的替代黏土实心砖的新型墙体材料,值得推广,有利于促进我国可持续发展,但传统的多孔砖成型机的机口不易清理干净,导致机口中容易残留余泥影响下一次加工。
发明内容
本实用新型提供一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置,以克服现有技术传统的多孔砖成型机的机口不易清理干净,导致机口中容易残留余泥影响下一次加工的问题。
本实用新型采用如下技术方案:一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置,包括机架和清洗机构,所述清洗机构覆盖于所述机架端口,机架的机口内固定有若干根芯杆;
所述清洗机构包括盖板、导水腔和导水管,所述盖板安装于机架端口上,盖板的内部设有所述导水腔,且导水腔通过连接口外接工厂水管;
所述导水管设有若干根,若干根导水管均安装于盖板的内部,且导水管的首端均与导水腔相连接,导水管的尾端均朝机口方向延伸出盖板表面;
所述导水管呈螺旋结构,且导水管的直径由导水腔至芯杆方向逐渐减小。
作为进一步的改进,所述导水管延伸出盖板的尾端靠近芯杆杆头,且导水管与芯杆分别一一对应。
作为进一步的改进,所述盖板上固定有限位块,限位块可拆卸的安装于机架端口上的限位槽内。
作为进一步的改进,所述限位块表面固定有磁条,机架是由铸铁制成,具有良好的铁磁性,磁条与机架相吸合。
作为进一步的改进,所述盖板与机架之间安装有密封圈,且密封圈设于限位块周围。
由上述对本实用新型结构的描述可知,和现有技术相比,本实用新型具有如下优点:当需要清理机口时,把盖板覆盖在机架端口,使限位块嵌入限位槽内,同时限位块表面的磁条与铸铁机架相吸合,而后利用人工或机械臂顶住盖板,再打开连接口外接的工厂水管的开关,使水流穿过导水腔和导水管进入机口填满机架,而导水管为螺旋结构的设计使得从导水管尾端流出的水流在惯性的作用下会呈螺旋状流出,且由于导水管的直径由导水腔至芯杆方向逐渐减小使得从导水管内流出水流的流速较快,使得会在机口内的水流流场中形成许多小漩涡,使流场内的水流更加波动起伏,进一步加大水流的流动速度和冲刷力度,提高机口的清理效果和清理效率。
附图说明
图1为机架、机口和芯杆的结构示意图。
图2为清洗机构和机架的侧视结构示意图。
图3为清洗机构的立体结构示意图。
具体实施方式
下面参照附图说明本实用新型的具体实施方式。
如附图1至3所示,一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置,包括机架1和清洗机构3,所述清洗机构3覆盖于所述机架1端口,机架1的机口4内固定有若干根芯杆2。
如附图2至3所示,所述清洗机构3包括盖板31、导水腔32和导水管34,所述盖板31安装于机架1端口上,所述盖板31上固定有限位块35,限位块35可拆卸的安装于机架1端口上的限位槽36内,可以实现盖板31和机架1的快速拆卸,所述限位块35表面固定有磁条37,机架1是由铸铁制成,具有良好的铁磁性,磁条37与机架1相吸合,当需要清理机口4时,把盖板31覆盖在机架1端口,使限位块35嵌入限位槽36内,而后利用人工或机械臂顶住盖板31,实现把盖板31安装在机架1上的目的,同时限位块35表面的磁条37与铸铁机架1相吸合,提高盖板31与机架1之间连接的稳定性,避免盖板31在使用过程中脱离机架1砸伤工人的风险。所述盖板31的内部设有所述导水腔32,且导水腔32通过连接口33安装连接阀外接工厂水管,为清理机口4提供水源,连接口33内导入的水流为中低压水流,避免高压水流对芯杆2造成冲击,导致芯杆2松动影响多孔砖上孔洞的成型质量。
如附图2至3所示,所述导水管34设有若干根,若干根导水管34均安装于盖板31的内部,且导水管34的首端均与导水腔32相连接,导水管34的尾端均朝机口4方向延伸出盖板31表面,所述导水管34呈螺旋结构,且导水管34的直径由导水腔32至芯杆2方向逐渐减小,由于导水管3直径的减小使得由连接口33和导水腔32导入的中低压水流会在导水管3内水流流速加快,待水流从导水管3尾端流入机口4内时水流的冲击力变大,会推动机口4内的水流流动,使流场内的水流更加波动起伏,从而加大机口4内的水流对机口4内壁的冲刷力,提高机口4的清理效果和清理效率,同时导水管34为螺旋结构的设计使得从导水管3尾端流出的水流在惯性的作用下会呈螺旋状流出,且由于从导水管3内流出水流的流速较快,使得会在机口4内的水流流场中形成许多小漩涡,使流场内的水流更加波动起伏,加大水流的流动速度和冲刷力度,进一步提高机口4的清理效果和清理效率。而由导水管34加速过后的水流水压相对于高压水流的水压要小的多,在保证提高机口4的清理效果和清理效率的同时,也能够降低水流的水压对芯杆2造成冲击导致芯杆2松动的风险。
如附图2至3所示,所述导水管34延伸出盖板31的尾端靠近芯杆2杆头,且导水管34与芯杆2分别一一对应,由于导水管3直径的减小使得从导水管3内流出水流的流速较快,而利用文丘里效应,即在高速流动的流体附近会产生低压,从而产生吸附作用,可以使导水管3尾端附近产生低压,从而使得机口4内的水流会朝导水管3尾端附近涌动,而导水管34尾端靠近芯杆2杆头,使得水流会冲刷芯杆2杆头,且导水管34为螺旋结构的设计使得从导水管3尾端流出的水流在惯性的作用下会呈螺旋状流出围绕在芯杆2外侧,而由于从导水管3内流出水流的流速较快,使得会在机口4内的水流流场中形成许多小漩涡,这些小旋涡大都围绕在芯杆2外侧对芯杆2进行冲刷清理,减少清理死角,在清理机口4时可同时清理芯杆2,无需取下芯杆2,节约清理时间和清理成本。
如附图2至3所示,所述盖板31与机架1之间安装有密封圈38,且密封圈38设于限位块35周围,密封圈38优选为合成橡胶材料制成,抗压、耐磨且密封性良好,密封圈38的设置能够避免盖板31与机架1在使用过程中出现漏水的风险。
当需要清理机口4时,把盖板31覆盖在机架1端口,使限位块35嵌入限位槽36内,同时限位块35表面的磁条37与铸铁机架1相吸合,而后利用人工或机械臂顶住盖板31,提高盖板31与机架1之间连接的稳定性,避免盖板31在使用过程中脱离机架1砸伤工人的风险,而后打开连接口33外接的工厂水管的开关,使水流进入导水腔32,为清理机口4提供水源,且连接口33内导入的水流为中低压水流,避免高压水流对芯杆2造成冲击,导致芯杆2松动影响多孔砖上孔洞的成型质量,而后导水腔32内的水流穿过导水管3进入机口4填满机架1,而由于导水管34的直径由导水腔32至芯杆2方向逐渐减小使得由连接口33和导水腔32导入的中低压水流会在导水管3内水流流速加快,待水流从导水管3尾端流入机口4内时水流的冲击力变大,会推动机口4内的水流流动,使流场内的水流更加波动起伏,从而加大机口4内的水流对机口4内壁的冲刷力,提高机口4的清理效果和清理效率,同时导水管34为螺旋结构的设计使得从导水管3尾端流出的水流在惯性的作用下会呈螺旋状流出,且由于从导水管3内流出水流的流速较快,使得会在机口4内的水流流场中形成许多小漩涡,使流场内的水流更加波动起伏,进一步加大水流的流动速度和冲刷力度,提高机口4的清理效果和清理效率,而由导水管34加速过后的水流水压相对于高压水流的水压要小的多,在保证提高机口4的清理效果和清理效率的同时,也能够降低水流的水压对芯杆2造成冲击导致芯杆2松动的风险。
上述仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动,均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。

Claims (5)

1.一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置,其特征在于:包括机架和清洗机构,所述清洗机构覆盖于所述机架端口,机架的机口内固定有若干根芯杆;
所述清洗机构包括盖板、导水腔和导水管,所述盖板安装于机架端口上,盖板的内部设有所述导水腔,且导水腔通过连接口外接工厂水管;
所述导水管设有若干根,若干根导水管均安装于盖板的内部,且导水管的首端均与导水腔相连接,导水管的尾端均朝机口方向延伸出盖板表面;
所述导水管呈螺旋结构,且导水管的直径由导水腔至芯杆方向逐渐减小。
2.根据权利要求1所述的一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置,其特征在于:所述导水管延伸出盖板的尾端靠近芯杆杆头,且导水管与芯杆分别一一对应。
3.根据权利要求1所述的一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置,其特征在于:所述盖板上固定有限位块,限位块可拆卸的安装于机架端口上的限位槽内。
4.根据权利要求3所述的一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置,其特征在于:所述限位块表面固定有磁条,机架是由铸铁制成,具有铁磁性,磁条与机架相吸合。
5.根据权利要求1所述的一种快速清理多孔砖成型机口的清洗装置,其特征在于:所述盖板与机架之间安装有密封圈,且密封圈设于限位块周围。
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