CN213079289U - 一种炉体喷射清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种炉体喷射清洗装置，取消了现有三维旋转喷头的结构，采用喷头、第一顶升气缸、水平旋转器、第二顶升气缸以及多路连通器组成，喷头设于水平旋转器上部和侧壁，高压水流经多路连通器送入水平旋转器，驱动其高速旋转，实现喷头全方位的喷射清洗，同时，第一顶升气缸、第二顶升气缸上下升降，实现喷头清洗高度的调节。

Description

一种炉体喷射清洗装置

技术领域

本实用新型是一种炉体喷射清洗装置，具体涉及用于多晶硅还原炉的喷射清洗装置，属于多晶硅设备领域。

背景技术

还原炉是多晶硅生产的主要设备，采用炉筒和底盘两大部分组成。在多晶硅的生产过程中，为满足多晶硅提炼和生产的纯度与洁净度，需要对多晶硅还原炉内的残留物以及污垢进行清理。现有还原炉炉筒的清洗方式采用三维洗灌器360°旋转喷射，喷射角度由三维洗灌器安装高度确定，造成某些角落清洗不彻底，污染还原炉内壁并造成大量人工耗时。

为克服现有三维洗灌器清洗不彻底的缺陷，现有专利文献CN202185421U（一种多晶硅还原炉及氢化炉钟罩自动清洗烘干系统，2012.04.11）提供了一种清洗系统，采用三维喷洒喷头对钟罩表面形成360度网状喷射，三维喷洒喷头由高压热水动力装置射出高压水流作为驱动动力，同时还能驱动三维喷洒喷头自由升降，实现对钟罩的全面喷洒。另外，现有专利文献CN104070029A（定点清洗机构，2014.10.01）还提供了一种多晶硅还原炉清洗机构，该清洗机构的三维旋转喷头通过提升杆与提升气缸的活塞联动连接，可通过活塞的控制实现三维旋转喷头的升降，实现任意定点位置的清洗，保证设备的安全使用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种炉体喷射清洗装置，取消了现有三维旋转喷头的结构，采用水平旋转器，水平旋转器上部和侧壁均设置有喷头，在高压水流的驱动下水平旋转器高速旋转，实现喷头全方位的喷射清洗，同时，由气缸带动水平旋转器上下升降，清洗高度易调节。

本实用新型通过下述技术方案实现：一种炉体喷射清洗装置，包括喷头和驱动机构，驱动机构包括第一顶升气缸、水平旋转器和第二顶升气缸，水平旋转器通过多路连通器固定于第一顶升气缸的活塞杆上，水平旋转器内设水路通道和气源通道，水路通道经多路连通器与外部水管连接，气源通道经多路连通器与外部气管连通，水平旋转器侧壁设至少一个支架，喷头分别设于支架和第二顶升气缸的活塞杆上，并分别通过高压软管与水路通道连通，第二顶升气缸的缸体设于水平旋转器顶部，第二顶升气缸缸体的进气口与气源通道连通。

还包括连接支架和第二顶升气缸的活塞杆之间的拉绳，支架铰接于水平旋转器的侧壁。

还包括拉杆，拉杆两端分别铰接于支架和第二顶升气缸的活塞杆上，支架铰接于水平旋转器的侧壁。

所述支架的数量为四个，所述喷头的数量为五个。

本实用新型与现有技术相比，具有以下优点及有益效果：

（1）本实用新型采用多路连通器、水平旋转器和喷头的组合，替换现有的三维旋转喷头，多路连通器向水平旋转器内提供高压水流，高压水流经水平旋转器内部执行机构，推动执行机构产生水平高速旋转的动力，同时通过空隙流入高压软管，再经喷头喷出，根据喷嘴的大小和结构形式，可以产生强大的喷射力，用以清洗设备/物体表面附着物，达到高效的清洗效果。

（2）本实用新型采用第一顶升气缸和第二顶升气缸的配合，可实现喷头高度的升降和喷头喷射角度的变化，实现不同高度和不同角度下对设备/物体表面的清洗，尤其对炉体顶部周围区域的全面清洗，实现无死角清洗。

（3）本实用新型设计合理，采用多路连通器分别连通外部水管和外部气源，经水平旋转器的水路通道和气源通道为喷头旋转和第二顶升气缸提供动力，操作简单，易控制。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图（一）。

图2为本实用新型的结构示意图（二）。

其中，1—喷头，2—第一顶升气缸，3—水平旋转器，4—第二顶升气缸，5—多路连通器，6—支架，7—高压软管，8—拉杆。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型作进一步地详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。

实施例：

本实施例提出了一种炉体喷射清洗装置，适用于设备/物体表面附着物的高压喷射清洗，尤其是炉体设备内表面的清洗，例如多晶硅还原炉等。

如图1所示结构可以知道，该清洗装置主要由喷头1、多路连通器5以及驱动机构组成，驱动机构包括第一顶升气缸2、水平旋转器3和第二顶升气缸4，其中喷头1、多路连通器5和水平旋转器3的组合可以替代现有的三维旋转喷头1。如图1所示，第二顶升气缸4的缸体设于水平旋转器3顶部，水平旋转器3底部设多路连通器5，水平旋转器3侧壁均布四个支架6，喷头1数量为五个，分别设于支架6和第二顶升气缸4的活塞杆上，水平旋转器3内设水路通道和气源通道。

使用时，将水路通道经多路连通器5与外部水管连通，由外部水管向多路连通器5输送高压水流，高压水流经水平旋转器3内部执行机构，推动执行机构产生水平高速旋转的动力，同时通过空隙流入高压软管7，再经喷头1喷出，根据喷嘴的大小和结构形式，可以产生强大的喷射力，用以清洗设备/物体表面附着物，达到高效的清洗效果。同时，气源通道经多路连通器5与外部气管连通，用于向第二顶升气缸4的缸体提供气源。

本实施例中，多路连通器5的流道设计为圆弧形，用于降低流体与气压的阻力，气路和水（碱液）路被隔离在一个零件内，防止串动，保证器件的正常使用。水平旋转器3由介质提供动能驱动齿轮组带动上/下部位旋转，即能做到旋转又能保证不泄漏介质，且旋转后还不会产生对气源的阻隔，保证气源通过水平旋转器3后能正常供应第二顶升气缸4的气源使用。

如图2结构所示，本实施例通过拉杆8（或使用拉绳）以及支架6铰接的方式，可实现喷头1喷射角度的调整。使用时，随第二顶升气缸4的提升，带动拉杆8向上提升支架6，支架6与水平旋转器3为铰接方式，可实现支架6角度的调整，从而实现支架6上喷头1喷射角度的调整。具体使用时，需将拉杆8两端与支架6和第二顶升气缸4的活塞杆进行活动连接，例如铰接方式，便于操作。实际使用时，喷嘴角度设计可同通过第二顶升气缸4的提升高度和拉绳/拉杆8的长度计算得到，具体角度需满足对整个设备进行无死角清洗为目的，同时，喷嘴口径的大小应与高压压力源比例相协调。为保证设备的清洗，可以想到的，喷嘴的开口方向应与支架6保持在同一直线上。

本实施例的具体清洗步骤如下：

（1）开启第一顶升气缸2，第一顶升气缸2的活塞杆慢速逐步向上行走，经加压的高纯水/碱洗水通过多路连通器5进入水平旋转器3的水路通道，将水压转变成动能，驱动水平旋转器3内部的执行器工作，从而带动水平旋转器3外水平设置的4个喷嘴向四周高速喷射高纯水/碱洗水。

（2）当第一顶升气缸2工作时间到后，停留在最大行程，启动第二顶升气缸4，第二顶升气缸4的活塞杆向上行走，支架6上的喷嘴由于拉绳/拉杆8的作用，跟随第二提升气缸行程改变喷射角度，从而清洗高处作业面，直到第二提升气缸全行程后与喷嘴相互形成夹角对顶部周围区域进行清洗。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型做任何形式上的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化，均落入本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种炉体喷射清洗装置，其特征在于：包括喷头（1）和驱动机构，驱动机构包括第一顶升气缸（2）、水平旋转器（3）和第二顶升气缸（4），水平旋转器（3）通过多路连通器（5）固定于第一顶升气缸（2）的活塞杆上，水平旋转器（3）内设水路通道和气源通道，水路通道经多路连通器（5）与外部水管连接，气源通道经多路连通器（5）与外部气管连通，水平旋转器（3）侧壁设至少一个支架（6），喷头（1）分别设于支架（6）和第二顶升气缸（4）的活塞杆上，并分别通过高压软管（7）与水路通道连通，第二顶升气缸（4）的缸体设于水平旋转器（3）顶部，第二顶升气缸（4）缸体的进气口与气源通道连通。

2.根据权利要求1所述的一种炉体喷射清洗装置，其特征在于：还包括连接支架（6）和第二顶升气缸（4）的活塞杆之间的拉绳，支架（6）铰接于水平旋转器（3）的侧壁。

3.根据权利要求1所述的一种炉体喷射清洗装置，其特征在于：还包括拉杆（8），拉杆（8）两端分别铰接于支架（6）和第二顶升气缸（4）的活塞杆上，支架（6）铰接于水平旋转器（3）的侧壁。

4.根据权利要求1所述的一种炉体喷射清洗装置，其特征在于：所述支架（6）的数量为四个，所述喷头（1）的数量为五个。

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