CN212934547U - 辐射阴极的限制装置、聚焦头、阴极单元和x射线设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种用于辐射阴极、尤其用于X射线阴极的限制装置。本实用新型还涉及X射线设备的具有限制装置的聚焦头和相应的具有这种聚焦头的X射线设备。限制装置设置用于影响由辐射阴极发出的电子束的射束几何形状。这种辐射阴极例如可以是X射线管或X射线设备的阴极装置、优选例如用于医疗成像的X射线管或X射线设备的阴极装置。根据本实用新型的限制装置具有两个彼此间隔开地布置的金属的、即由金属材料制成的、用于布置在电子束或相应的发射器的不同的侧面的限制元件或限制板材。两个限制元件在此通过限制装置的连接部件相对彼此位置固定地刚性地相互连接，从而限制元件和连接部件包围电子束可以穿过的通孔。

Description

辐射阴极的限制装置、聚焦头、阴极单元和X射线设备

技术领域

本实用新型涉及一种用于辐射阴极、尤其用于X射线阴极的限制装置。本实用新型还涉及用于X射线设备的具有这种限制装置的聚焦头，和相应的具有这种聚焦头的X射线设备。

背景技术

用于产生电子束的辐射阴极和相应的聚焦头是自身已经已知的装置、例如来自于用于医疗成像的X射线设备的装置。然而，针对当前的要求，经常需要特别的措施，并且相应需要特别高的制造费用，因为例如应该维持相对小的或精确的公差，以便实现电子束、相应的焦点和/或产生的X射线辐射的期望的特性。基于该背景，当前已知的辐射或X射线阴极已经具有一定数量的用于成形电子束或产生的焦点的零件。迄今为止，这些单独的部件在手动的制造方法中耗费地装配，其中，在相应的装配工方面通常需要广泛的经验并且在安装期间需要再调节，以便实现需要的公差或特性。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于，能够实现辐射阴极装置的特别简单的和可靠的制造。根据本实用新型，该技术问题通过独立权利要求的主题解决。本实用新型的有利的设计方案和扩展方案在从属权利要求、描述和附图中得到说明。

根据本实用新型的用于辐射阴极的限制装置(或称为限定装置、界定装置)设置用于影响由辐射阴极发出的电子束的射束几何形状。在本实用新型的意义下，这种辐射阴极例如可以是X射线管或X射线设备的阴极装置、优选例如用于医疗成像的X射线管或X射线设备的阴极装置。根据本实用新型的限制装置具有两个彼此间隔开地布置的金属的、即由金属材料制成的、用于布置在电子束或相应的发射器的不同的侧面的限制元件或限制板材。两个限制元件在此通过限制装置的连接部件相对彼此位置固定地、刚性地相互连接，使得限制元件和连接部件包围电子束可以穿过的通孔。

因此，连接部件可以例如是框架，在该框架旁或框架上布置有两个限制元件。连接部件和限制元件同样可以共同形成这种框架。连接部件和限制元件同样可以是单独的相互连接的构件，或一体式地构造为唯一的构件。

限制元件尤其可以至少基本上相互平行地布置，并且例如相对于限制装置的中心点相互对置地布置。限制元件和连接部件或必要时其单独部件或单独零件可以笔直地成形，从而通孔可以具有至少基本上矩形的形状。然而这并非必须是如继续在下面详细阐述的情况。

由于在根据本实用新型的限制装置中，迄今为止设置为单独部件的和迄今为止相应地通过各个设备和工作步骤安装的和彼此独立定向的限制元件现在组合或集成在唯一的构件或唯一的组装的结构组件中，所以有利地促进和简化辐射阴极装置的制造或安装。本实用新型的和在常规的辐射阴极装置中的限制元件尤其用作在相应的发射器或相应的灯丝处、旁或上方的长度、高度和/或宽度限制(或者说界定)。借助限制元件可以以相应期望的或预设的方式并且以当前取决于应用地要求的精密性产生或调节电子束或产生的焦点的几何形状。

在此，公差通常必须维持在10μm的范围内。基于该背景，这尤其可以是特别的挑战，即限制元件的大小或尺寸通常大约可以在1×2×6mm的范围内，并且不仅各个限制元件相对于相应的发射器的布置和对准，而且相对彼此的布置和对准对于最终可实现的聚焦和几何形状来说是很重要的。

相对于单独的限制元件，作为单个构件的更大的限制装置可以明显更简单地在安装期间被操作和对准，其中，基于限制元件相对彼此作为限制装置的部件的预设的位置固定的布置，此外通过避免在安装时的相应的自由度可以实现公差最小化。尤其可以借助唯一的设备并且必要时甚至自动化地定位和安装限制装置，由此，可以简化并且有利地进一步自动化用于相应的辐射阴极装置的制造方法。这可以不仅导致在制造多个相应的辐射阴极装置时更可靠地维持要求的公差或特性和更好的重复精度，而且也导致在制造时的明显的时间节约。

本实用新型的另外的优点是，限制装置的机械稳定性总体上基于其结构和更大的材料量和大小、相对于作为单独的零件的限制元件的机械稳定性得到改进。这又能够实现，尤其进一步调整和优化、即根据应用情况或要求灵活地设计限制装置总体上的和各个限制元件的形状或几何形状。这迄今为止对于作为多个单独零件的限制元件来说通常是不可能的，因为例如由于局部更小的尺寸，因此其稳定性将降低到一定程度，以至于在安装期间预计会发生变形，并且由此实际上无法实现精确而可靠的可定位性。与此相对，通过根据本实用新型的限制装置的几何形状中的改进的灵活性可以有利地例如实现进一步改进的MTF值(MTF：调制传递函数)。

在本实用新型的有利的设计方案中，在设置用于使电子束穿过通孔的穿过方向中，限制元件比连接部件更厚。换言之，限制元件可以沿该方向凸出超过连接部件。相应地，连接部件可以例如比限制元件更扁平地构造，并且使限制元件例如在其下侧相互连接。通过该设计方案，有利地可以最小化连接部件对电子束的大小、几何形状和/或聚焦的影响。连接部件例如可以扁平地构造，从而连接部件在限制装置在辐射阴极处的或在聚焦头处或中的安装位置中没有凸出超过相应的发射器的高度水平。

在本实用新型的另外的有利的设计方案中，限制装置在角部具有倒角，从而限制装置在该角部的几何形状与限制装置在其另外的角部的几何形状有所不同，并且由此根据倒角能够实现限制装置的一对一的对准。限制装置的外侧的角部或棱边例如可以是倾斜的。相应的角部或棱边或设置在那里的倒角可以用作可明确看到的在安装时布置在预设的位置上的特征、即用作编码(或者说编配、匹配)。

在辐射阴极或聚焦头上同样可以设置相对于限制装置的倒角的配对件、例如凸出部等，从而限制装置在其设置的安装位置中的定位仅在正确的对准中是可能的，在辐射阴极或聚焦头上应该安装有限制装置。由此有利地，可以避免定位错误。例如当两个限制元件彼此不同，或限制装置除了倒角以外通常还具有另外的非对称性时，这可以有利地有助于相应的辐射阴极的特性、即性能的进一步改进的精度和可靠性。

在本实用新型的另外的有利的设计方案中，至少一个限制元件的面对通孔的侧面是倒圆的，从而相应的限制元件在面对通孔的侧面上凹形地成形。换言之，至少一个限制元件的面对通孔的侧面因此可以成形为包围通孔的中心点的圆的圆弧段。根据经验证实的是，通过至少一个限制元件的这种设计方案，有利地可以改进产生的焦点的均匀性。

在本实用新型的有利的扩展方案中，限制装置的两个限制元件在其相应的面对通孔的侧面上相应凹形地成形，并且在此具有不同的曲率半径。在此根据经验也证实的是，通过这种非对称的设计方案，可以实现电子束和产生的焦点的更好的几何形状或特性。

本实用新型的另外的方面是用于X射线设备的聚焦头。根据本实用新型的聚焦头具有主体和至少一个保持在其上的用于沿对焦导管(或者说对焦井、对焦轴)发射电子束的发射器以及用于至少一个发射器的电触点。对于每个发射器，根据本实用新型的聚焦头此外具有根据本实用新型的限制装置，其布置为包围相应的发射器。限制装置可以尤其例如在一个表面或平面中包围发射器面或发射器线圈，所述表面或平面至少基本上垂直于电子束的发射方向、即电子束的辐射方向。在该布置中，限制装置可以被来自于或可以来自于发射器的电子束穿过。限制装置和/或触点可以分别直接或间接通过另外的构件同样保持在主体上。根据本实用新型的聚焦头尤其可以是结合根据本实用新型的限制装置提到的聚焦头。相应地，根据本实用新型的聚焦头可以具有一些或所有在那里描述的特性、特征和/或优点。

当聚焦头例如在X射线设备中布置在其设置的安装位置中时，对焦导管 (电子束可以沿其被引导或发射)可以至少部分是聚焦头的一部分，或从该聚焦头开始。

根据本实用新型的聚焦头可以优选具有多个由相应一个发射器和配属的根据本实用新型的限制装置构成的装置。所述装置可以在此相互倾斜地布置，从而例如发射器面或限制装置的主延伸平面可以相互呈与0°和180°不同的并且优选也与90°或270°不同的角度。

如果多个发射器或多个相应的(由相应一个发射器和限制装置构成的)装置设置为聚焦头的一部分，那么可以设置相应的单独的电触点或凸出部。由此有利地，对发射器或装置的个体化的或独立的供电和控制是可能的，由此有利地又可以实现具有特别精确调整的或调节的辐射特性的聚焦头的特别灵活的运行。

在本实用新型的有利的设计方案中，相应的限制装置与聚焦头、例如与主体电连接，并且与发射器电绝缘。因此，限制装置可以例如与聚焦头的主阴极电势连接，或连接至主阴极电势。因此，仅通过或基于该限制装置的位置和几何形状进行通过限制装置导致的电子束或焦点成形。但在此，聚焦头可以构造用于将相应一个发射器和配属于发射器的限制装置或所有发射器和限制装置保持在相同的电势上。在此建议的设计方案能够有利地实现对聚焦头的特别简单的供电和控制以及各个构件、尤其限制装置的特别简单的连接或安装。它们例如可以例如借助脉冲读取器(或激光器)与聚焦头焊接。由此有利地，可以实现构件相互的特别稳定的连接和构件相互的持续稳定且可靠的相对定位。通过发射器与限制装置或主体或剩余的聚焦头的电绝缘，可以至少基本上在没有对聚焦头产生电影响的情况下对发射器进行电加热。这有利地能够实现对聚焦头或电子发射装置和因此最后装备有聚焦头的X 射线设备的特别简单的控制。

在本实用新型的备选的有利的设计方案中，相应的限制装置与剩余的聚焦头电绝缘。如果聚焦头具有多个限制装置，那么多个限制装置可以相互电连接或相互电绝缘。换言之，单独的或个体化的电触点和供电设置用于一个或多个限制装置。限制装置在此也与相应的发射器电绝缘，但限制装置附加地也与聚焦头的其他的构件、例如主体或主阴极电势电绝缘。由此，可以有利地与聚焦头的剩余的构件或部件无关地、尤其与相应的发射器和例如聚焦头的主体无关地对限制装置进行供电、控制和/或开关。由此，有利地可以实现在根据本实用新型的聚焦头的运行时的进一步改进的灵活性，并且因此例如实现对聚焦头的取决于应用或情况的控制或聚焦头的相应灵活的运行。优选地，在相应一个限制装置中，限制装置的限制元件也可以相互电绝缘，并且被控制或供电。为此，相应的连接部件例如可以由电绝缘的材料制成，和 /或可以相应在限制元件与连接部件之间布置电绝缘件。因此，总体上有利地产生控制中的进一步改进的灵活性和粒度。这又可以有利地能够实现对聚焦头总体上的电气性能、以及焦点和/或电子束的形状和/或几何形状、以及必要时电子束的辐射方向的更精确的控制或调整。

因此，例如可以在特定的情况或应用中，通过聚焦头的相应的发射器、相应的限制元件和/或其他的部件的不同的电势可以有利地调整或调节电子束或焦点的几何形状或特性，例如以便满足预设的公差，和/或补偿环境影响或其他的干扰效应。

在本实用新型的另外的有利的设计方案中，在相应的限制装置与主体之间布置有导热的接触元件，用于导出或分配相应的限制元件的热量。因为在聚焦头运行时、在聚焦头上出现的温度可以在800℃的范围内，所以可以通过这种专用的热接触元件确保聚焦头的特别可靠的和稳定的运行。与将限制装置直接布置在主体上相比，例如可以通过接触元件特别简单地增大热接触面，通过热接触面可以发生在限制装置与主体或例如附加设置的冷却回路或冷却元件之间的热交换。

根据是否设置了限制装置和发射器或主体相互的电连接或电绝缘，这可以通过接触元件实现，其方法是将接触元件相应构造为导电的或电绝缘的。

在本实用新型的另外的有利的设计方案中，限制装置、布置在限制装置与发射器之间的电绝缘件和发射器无间隙地相互贴靠。换言之，限制装置可以间接或直接、在任何情况下无间隙地贴靠在绝缘件上，并且绝缘件间接或直接、在任何情况下无间隙地贴靠在发射器上。这是特别有利的，因为实际上可以在没有公差或具有可忽略的很小的公差的情况下制成发射器，并且因此限制装置在发射器上的至少间接的无间隙的贴靠能够实现或确保限制装置的特别精确的和低公差的定位。电绝缘件在此可以是单独的构件、限制装置和/或发射器的涂层或限制装置和/或发射器的一部分。因为限制装置当前应该与发射器电绝缘，所以在本实用新型的意义下、限制装置在发射器上的贴靠理解为在布置在它们之间的电绝缘件的条件下。针对实际的目的，限制元件例如必须经常以在0.01mm的范围内的精度定位在聚焦头中或上。通过在此设置的、限制装置在发射器上的无间隙的布置或定向，产生特别简单的维持这种定位公差的可能性。通过发射器的特别小的制造公差，因此可以有利地最小化在装配聚焦头时的另外的公差。

将限制元件集成到根据本实用新型的限制装置中在此提供如下优点，即限制元件可以以实际上任意的预设的距离和任意的预设的相互对准布置在限制装置内，并且为了实现限制元件相对于发射器的设置的相对定位或定向，例如限制装置的仅一侧或一面必须贴靠在发射器上。因此，通过使用根据本实用新型的限制装置产生特别简单的如下可能性，即如果实际上两个限制元件本身都不直接贴靠在发射器上，而是替代地例如限制装置的连接部件和/或电绝缘件贴靠在发射器上，那么也使两个限制元件在发射器上对准。但在此，连接部件同样可以构造为电绝缘的。因此，连接部件必要时可以是提到的绝缘件或提到的绝缘件的一部分。

在本实用新型的另外的有利的设计方案中，限制装置和主体由相同的材料制成。尤其在使用钨作为材料时，发射器可以由该材料制成。通过材料的因此设置的统一性有利地确保各个构件或部件的相同的热膨胀系数。因此，尽管在聚焦头的运行状态与非运行之间存在相对大的温度差异，但仍然可以使热应力最小化，并且例如特别可靠地避免在各个构件之间的连接、例如焊缝等的断裂。

在本实用新型的有利的扩展方案中，限制装置和主体由钼制成。根据经验证实的是，通过使用钼、例如也基于钼的2623℃的相对高的熔点能够实现聚焦头的特别稳定的和可靠的运行。由此，在聚焦头运行时出现的相对高的温度的情况下，也可以可靠地避免或最小化各个构件的软化和因此可能的形状改变。

在本实用新型的另外的有利的设计方案中，聚焦头具有多个发射器和分别配属的限制装置。在此，限制装置的第一限制装置的限制元件的面对相应的通孔的侧面是笔直的，并且限制装置的第二限制装置的限制元件的面对相应的通孔的侧面凹形地弯曲。换言之，限制装置中的至少两个不同地成形。根据经验证实的是，由此可以实现电子束的特别好的聚焦以及产生的焦点的特别好的均匀性。

本实用新型的另外的方面是用于X射线设备的阴极单元。根据本实用新型的阴极单元在此具有至少一个根据本实用新型的聚焦头。除了聚焦头以外，阴极单元还可以包括另外的构件、例如电触点、电路、加热件、框架、支架、壳体、固定器件等。

本实用新型的另外的方面是尤其用于医疗成像的X射线设备。根据本实用新型的X射线设备具有至少一个根据本实用新型的聚焦头和/或至少一个根据本实用新型的阴极单元。此外，根据本实用新型的X射线设备可以具有其他的常见的部件、例如供电装置(根据设计方案用于对一个或多个发射器和相应的限制装置的共同或单独的供电或电压加载)、控制装置、操作元件或操作界面、阳极和其供电装置、用于输出产生的有效射束的辐射光圈等。在X射线设备中，用于电子束的提到的导管或对焦导管同样可以成形，并且从至少一个发射器延伸到提到的焦点。根据本实用新型的X射线设备可以尤其是结合根据本实用新型的聚焦头和/或结合根据本实用新型的限制装置提到的X射线设备。相应地，根据本实用新型的X射线设备可以具有一些或所有在那里描述的特征、特性和/或优点。

根据本实用新型的限制装置、根据本实用新型的聚焦头和根据本实用新型的X射线设备的迄今为止和随后说明的特性和扩展方案分别可以相互在本实用新型的若干方面之间转移和交换。因此，本实用新型还涉及根据本实用新型的限制装置、根据本实用新型的聚焦头和根据本实用新型的X射线设备的扩展方案，其具有在此为了避免不必要的冗余而没有详细在相应的组合中描述或没有针对本实用新型的每个方面单独描述的设计。

附图说明

由随后对优选实施例的描述以及根据附图得到本实用新型的另外的特征、细节和优点。其中：

图1示出了用于X射线辐射阴极的聚焦头的示意性的立体图，聚焦头具有多个发射器和附属的限制装置；

图2示出了图1的聚焦头的细节的示意性的局部的俯视图；并且

图3示出了在备选的实施方式中的聚焦头的示意性的局部的立体图。

随后阐述的实施例是本实用新型的优选的实施方式。在实施例中，实施方式的所描述的部件分别是单独的、可视为彼此独立的实用新型特征，其也分别彼此独立地改进本实用新型，并且因此也单独或以与所示的组合不同的组合视为本实用新型的组成部分。此外，也可以通过本实用新型的另外的已经描述的特征补充所描述的实施方式。

在附图中，相同的、功能相同的或彼此相应的元件分别设有相同的附图标记。

具体实施方式

图1示出了用于尤其用于医疗应用领域的X射线设备的辐射阴极的聚焦头1的示意性的立体图。聚焦头1当前包括主体2以及多个布置在相应的对焦导管中的和保持在主体2上的用于发射电子束的发射器3。发射器3可以通过相应的电触点4被供应电压。相应的限制装置5配属于每个发射器3，所述限制装置也可以被称为限制模块。

当前由相应两个限制元件6形成限制装置5，限制元件通过相应的连接部件7相互连接。限制装置5在此形成相应的框架，该框架包围相应的中心的或居中的通孔14(参见图3)。限制装置5在此布置为，使得其包围分别配属的发射器3，发射器可以通过相应的通孔14发射电子束。限制元件6在此用作长度和高度限制，以便在聚焦头1运行时影响电子束的大小、几何形状和准直，并且产生具有相应期望的或预设的几何形状和均匀性的相应的焦点。因此，限制装置5可以视为主动电磁偏转(例如通过四极)的备选方案。为此，当前由金属材料、例如钼形成限制装置5。

为了避免热膨胀特性中的差异，当前由和限制装置5相同的材料制成主体2和发射器3。

与在迄今的聚焦头或辐射阴极中不同地，当前不必单独操作限制元件6，并且将其定位、对准和固定在聚焦头1或主体2上。这有利地能够实现更简单地安装整个结构组件、即整个聚焦头1、更少故障的或例如用于实现聚焦电子束在预设的公差以外的结构组件和在制造方面的时间节约，因为结构组件或其各个部件或构件的自动化的装备和焊接实际上是可行的。在此，当前充分利用发射器3的高的制造精度，所述发射器至少可以几乎以零公差被制造。除了电绝缘件以外，限制装置5在此无间隙地间接或直接贴靠在发射器 3上，由此，发射器3的有效的、即为了实际的目的提供的公差自由度也可以充分用于定位限制装置5和进而限制元件6。相对于将限制元件6传统地用作独立的单独零件，在使用当前设置的、限制元件6集成在其中的限制装置5时，不必改变对焦导管的相关的导管尺寸，由此，限制装置5有利地可以在没有附加的费用的情况下集成到现有的制造方法中，并且这例如不会影响相应的MTF值。

聚焦头1的主体2和/或另外的部件以及限制装置5可以相互电连接，并且随后共同通过触点4被供电。但在此，限制装置5与发射器3电绝缘，发射器通过单独的电触点4被供电。因此，发射器3和限制装置5可以被加载以个体化的(不同的或相同的)电势，以便可以电气灵活地控制电子束的聚焦。

在在此示例性示出的聚焦头1中，不是所有限制装置5设计为类似的，而是例如第一限制装置8与第二限制装置9有所不同。第一限制装置8具有带有面对相应的发射器3的笔直的内侧10的限制元件6。与此相对，第二限制装置9具有带有面对相应的发射器3的凹形的内侧11的限制元件6。在此尤其地，第二限制装置9的两个限制元件6可以在其凹形的内侧11具有不同的半径。在此还可以实现不同成形的限制元件6的另外的当前未示出的组合。原则上，为了其中一个限制装置5例如可以使用具有笔直的内侧10的限制元件6和具有凹形的内侧11的限制元件6，或同样完全不同成形的限制元件6。只有以如下方式才能够实现限制元件6的灵活的造型，即限制装置5由于附加的连接部件7而具有足够的形状稳定性。

示例性地，第二限制装置9当前在刚好一个外侧角部或棱边上具有倒角 12，用于对第二限制装置9的定向进行编码。在图2中可更清楚地看到倒角 12，图2示出了聚焦头1的具有第二限制装置9的区域的示意性的局部的俯视图。在此清楚地看到的是，第二限制装置9在倒角12的区域中的外侧的几何形状与第二限制装置9的其他的外侧的角部或棱边的区域中的外侧的几何形状有所不同。由此，能够借助倒角12实现第二限制装置9的一对一的定位和对准。

针对聚焦头1的限制装置5不同地设计或成形或例如在其尺寸中或其他的特性中有所不同的情况，限制装置5可以例如具有不同的倒角12，以便避免或最小化限制装置5的混淆危险和因此聚焦头1的错误的制造。

图3示出了具有在备选的实施方式中的聚焦头1的辐射阴极装置13的示意性的局部的立体图。在此，包围发射器3地还布置了由两个相互对置布置的限制元件6和连接所述限制元件的连接部件7构成的限制装置5。然而在此，限制元件6和连接部件7具有相同的结构高度，其中，在该设计方案中尤其可以一体式地构造限制装置5。通过限制装置5的在此设置的设计方案，限制装置可以用于长度、高度和宽度限制(或界定)，以用于调节或调整在运行时来自发射器3的和穿过通孔14的电子束。

总体而言，在此描述的示例示出了如何能够实现特别简单和可靠地制造辐射阴极。

Claims (15)

1.一种用于辐射阴极(1、13)的限制装置(5)，该限制装置用于影响由辐射阴极(1、13)发出的电子束的射束几何形状，其特征在于，所述限制装置具有两个彼此间隔开布置的、用于布置在电子束的不同的侧面的、金属的限制元件(6)，其中，两个限制元件(6)通过限制装置(5)的连接部件(7)相对彼此位置固定地、刚性地相互连接，使得限制元件(6)和连接部件(7)包围电子束能够穿过的通孔(14)。

2.根据权利要求1所述的限制装置(5)，其特征在于，在设置用于使电子束穿过通孔(14)的穿过方向中，所述限制元件(6)比所述连接部件(7)更厚。

3.根据权利要求1或2所述的限制装置(5)，其特征在于，所述限制装置(5)在角部具有倒角(12)，从而所述限制装置(5)在所述角部的几何形状与其在另外的角部的几何形状有所不同，并且由此根据倒角(12)能够实现限制装置(5)的一对一的对准。

4.根据权利要求1或2所述的限制装置(5)，其特征在于，至少一个限制元件(6)的面对通孔(14)的侧面(11)是倒圆的，从而相应的限制元件(6)在面对通孔(14)的侧面(11)上凹形地成形。

5.根据权利要求4所述的限制装置(5)，其特征在于，两个限制元件(6)在其相应的面对通孔(14)的侧面(11)上以不同的半径凹形地成形。

6.一种用于X射线设备的聚焦头(1)，其具有主体(2)和至少一个保持在主体上的用于沿导管发射电子束的发射器(3)以及用于至少一个发射器(3)的电触点(4)，其特征在于，对于每个发射器(3)，所述聚焦头(1)此外具有根据前述权利要求中任一项所述的限制装置(5)，所述限制装置布置为包围相应的发射器(3)。

7.根据权利要求6所述的聚焦头(1)，其特征在于，所述限制装置(5)与聚焦头(1)电连接，并且与发射器(3)电绝缘。

8.根据权利要求6所述的聚焦头(1)，其特征在于，所述限制装置(5)与剩余的聚焦头(1)电绝缘。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的聚焦头(1)，其特征在于，在限制装置(5)与主体(2)之间布置有导热的接触元件，用于导出限制元件(6)的热量。

10.根据权利要求6至8中任一项所述的聚焦头(1)，其特征在于，所述限制装置(5)、布置在限制装置与发射器(3)之间的电绝缘件和发射器(3)无间隙地相互贴靠。

11.根据权利要求6至8中任一项所述的聚焦头(1)，其特征在于，所述限制装置(5)和主体(2)由相同的材料制成。

12.根据权利要求11所述的聚焦头(1)，其特征在于，所述限制装置(5)和所述主体(2)由钼制成。

13.根据权利要求6至8中任一项所述的聚焦头(1)，其特征在于，所述聚焦头(1)具有多个发射器(3)和分别配属的限制装置(5)，其中，所述限制装置(5、8)的第一限制装置的限制元件(6)的面对相应的通孔(14)的侧面是笔直的，并且第二限制装置(5、9)的限制元件(6)的面对相应的通孔(14)的侧面凹形地弯曲。

14.一种用于X射线设备(13)的阴极单元，其特征在于，其具有根据权利要求6至13中任一项所述的聚焦头(1)。

15.一种X射线设备(13)，其特征在于，其具有根据权利要求14所述的阴极单元和/或根据权利要求6至13中任一项所述的聚焦头(1)。

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