CN212846349U - 一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,其结构包括收集斗、支撑脚、出料口、控制按钮、电源线和开合机构,本实用新型的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,通过在出料口底部设置了开合机构,按动控制按钮使汽缸底部向上收缩,汽缸带动连接条以连接轴中部为支点转动,连接条带动连接轴在支撑块内侧转动,连接轴通过连接块和连接板带动第二挡板左侧向下转动,第二挡板通过合页使第一挡板带动滑轮在滑道处向右滚动,当第一挡板和第二挡板呈打开状态时,收集斗内储存的废弃光刻胶从出料口落入盛放容器中,便于后续回收再利用,提高了光刻胶回收利用的效率。
Description
技术领域
本实用新型是一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,属于半导体芯片制造及晶圆加工领域。
背景技术
光刻是生产晶体管和集成电路的一道重要工艺,是对半导体晶片表面的掩蔽物进行开孔,以便杂质定域扩散的一种加工技术,其主要在清洗烘干的硅片表面旋涂光刻胶,由于光刻胶的流动性及粘附性,硅片边缘涂抹的光刻胶常分布不均匀,容易发生剥离而影响其它部分的图形,因此需要去除硅片边缘多余的光刻胶,为了避免造成不必要的浪费,通常采用收集结构对去除的光刻胶回收再利用。
现有技术防止晶圆污染的光刻胶收集结构,结构相对较为简单,通常以单一收集斗为主要收集元件,不便于对收集的光刻胶进行储存,且难以将储存的光刻胶快速取出备用,降低了光刻胶回收利用的效率。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,以解决现有技术防止晶圆污染的光刻胶收集结构,结构相对较为简单,通常以单一收集斗为主要收集元件,不便于对收集的光刻胶进行储存,且难以将储存的光刻胶快速取出备用,降低了光刻胶回收利用效率的问题。
(二)技术方案
为了实现上述目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现:一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,包括收集斗、支撑脚、出料口、控制按钮、电源线和开合机构,所述收集斗底端四角固定有支撑脚,且收集斗底面中部开设有出料口,所述出料口左侧中部设置有控制按钮,且出料口前端左侧安装有电源线,所述开合机构设置于出料口底部,所述开合机构由滑道、滑轮、第一挡板、第二挡板、合页和驱动元件组成,所述滑道横向开设于出料口底面前后两端,且滑道与滑轮表面滚动连接,所述第一挡板设置于出料口底部左侧,且第一挡板前后两面左侧与滑轮内侧相连接,所述第二挡板设置于出料口底部右侧,且第二挡板左侧通过合页与第一挡板右侧相连接,所述驱动元件设置于出料口右侧。
进一步地,所述驱动元件由连接板、连接块、支撑板、支撑块、连接轴、固定座、汽缸、连接件和连接条组成,所述连接板左侧与第二挡板右侧前后两端固定连接,且连接板顶面中部焊接有连接块,所述支撑板固定于出料口右侧底部前后两端,且支撑板底面中部固定有支撑块,所述连接轴前后两端贯穿连接块顶部与支撑块内侧中部相连接,所述固定座固定于出料口右侧顶端,且固定座底部与汽缸顶部固定连接,所述连接件与汽缸顶端中部相连接,且连接件底端中部通过转轴与连接条底端中部转动连接,所述汽缸和控制按钮均与电源线电连接,所述汽缸与控制按钮电连接。
进一步地,所述连接条底端中部开设有通孔,且通孔内壁与连接轴外壁中部固定连接。
进一步地,所述第一挡板和第二挡板尺寸、结构均相同,且第一挡板和第二挡板顶面外侧均贴合有橡胶密封层。
进一步地,所述滑轮呈圆柱状,且滑轮表面呈光滑状态。
进一步地,所述汽缸可伸缩的最大距离为3cm,且滑轮可滚动的最大距离为10cm。
进一步地,所述合页安装于第一挡板和第二挡板内侧前后两端,且第一挡板和第二挡板内侧面均贴合有橡胶密封层。
进一步地,所述滑道宽度为10mm,且滑轮宽度为9mm。
进一步地,所述滑轮为不锈钢材质。
进一步地,所述连接条为钨钢材质。
(三)有益效果
与现有技术相比,本实用新型提供了一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,具备以下有益效果:
防止晶圆污染的光刻胶收集结构,通过在出料口底部设置了开合机构,按动控制按钮使汽缸底部向上收缩,汽缸带动连接条以连接轴中部为支点转动,连接条带动连接轴在支撑块内侧转动,连接轴通过连接块和连接板带动第二挡板左侧向下转动,第二挡板通过合页使第一挡板带动滑轮在滑道处向右滚动,当第一挡板和第二挡板呈打开状态时,收集斗内储存的废弃光刻胶从出料口落入盛放容器中,便于后续回收再利用,提高了光刻胶回收利用的效率。
附图说明
图1为本实用新型防止晶圆污染的光刻胶收集结构的结构示意图;
图2为本实用新型的开合机构结构示意图;
图3为本实用新型的开合机构主视剖面结构示意图;
图4为本实用新型的驱动元件结构示意图;
图5为本实用新型的驱动元件主视剖面结构示意图。
图中:收集斗-1、支撑脚-2、出料口-3、控制按钮-4、电源线-5、开合机构-6、滑道-61、滑轮-62、第一挡板-63、第二挡板-64、合页-65、驱动元件-66、连接板-661、连接块-662、支撑板-663、支撑块-664、连接轴-665、固定座-666、汽缸-667、连接件-668、连接条-669。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
请参阅图1-5。
如图1,本实用新型提供一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,包括收集斗1、支撑脚2、出料口3、控制按钮4、电源线5和开合机构6。
收集斗1的开口(未区分标注)可以是圆形的,如图1所示,而其斗体(未区分标注)可以是逐渐从倒置的类圆锥形向类棱锥形(棱台形)渐变。当然,也可以就是一种类棱锥形(棱台形)。
收集斗1底端四角固定有支撑脚2。本实施例中,收集斗1的开口具有开口外沿(未标注),收集斗1底端指的是开口外沿的下表面,如图1所示。
且收集斗1底面中部开设有出料口3,便于取出光刻胶。出料口3外形呈立方柱形。出料口3左侧中部设置有控制按钮4。且出料口3前端左侧安装有电源线5。开合机构6设置于出料口3底部。
如图2(需要说明的是,图2是将图1中出料口3与开合机构6的上下位置关系倒过来显示),开合机构6由滑道61、滑轮62、第一挡板63、第二挡板64、合页65和驱动元件66组成,滑道61横向开设于出料口3底面前后两端,且滑道61与滑轮62表面滚动连接,第一挡板63设置于出料口3底部左侧,且第一挡板63前后两面左侧与滑轮62内侧相连接,第二挡板64设置于出料口3底部右侧,且第二挡板64左侧通过合页65与第一挡板63右侧相连接,驱动元件66设置于出料口3右侧。这种设置下,第一挡板63和第二挡板64成为一种能够控制出料口3下方开合的结构。
需要说明的是,合页65设置在第一挡板63和第二挡板64之间,因此,即便当第一挡板63和第二挡板64挡在合在出料口3下方时,仍然有一些间隙,因此,本实施例设置橡胶密封层(未示出,结合参考后续内容),以防止光刻胶漏出。
图3进一步显示了图2所示结构的侧示图,请结合参考图2相应内容。并且图3中,显示了出料口3与开合机构6的正常上下位置关系。
如图4,所述驱动元件66包括连接板661、连接块662、支撑板663、支撑块664、连接轴665、固定座666、汽缸667、连接件668和连接条669。连接板661左侧与第二挡板64右侧前后两端固定连接,且连接板661顶面中部焊接有连接块662,支撑板663固定于出料口3右侧底部前后两端,且支撑板663底面中部固定有支撑块664,连接轴665前后两端贯穿连接块662顶部与支撑块664内侧中部相连接,固定座666固定于出料口3右侧顶端,且固定座666底部与汽缸667顶部固定连接,作为动力元件保证开合机构6正常驱动,连接件668与汽缸667顶端中部相连接,且连接件668底端中部通过转轴与连接条669底端中部转动连接,汽缸667和控制按钮4均与电源线5电连接,汽缸667与控制按钮4电连接。
如图5,显示了驱动元件主视剖面结构示意图,相应内容可以参考图4相关内容。
其中,所述连接条669底端中部开设有通孔(已与连接轴665连接,未单独示出),且通孔内壁与连接轴665外壁中部固定连接,保证连接件668正常带动连接轴665转动。
其中,所述第一挡板63和第二挡板64尺寸、结构均相同,且第一挡板63和第二挡板64顶面外侧均贴合有橡胶密封层(未示出),避免收集斗1内的光刻胶洒落。
其中,所述滑轮62呈圆柱状,且滑轮62表面呈光滑状态,便于滑轮62在滑道61处滚动。
其中,所述汽缸667可伸缩的最大距离为3cm,且滑轮62可滚动的最大距离为10cm,保证第一挡板63和第二挡板64正常使用。
其中,所述合页65安装于第一挡板63和第二挡板64内侧前后两端,且第一挡板63和第二挡板64内侧面均贴合有橡胶密封层,进一步避免收集斗1内的光刻胶洒落。
其中,所述滑道61宽度为10mm,且滑轮62宽度为9mm,保证滑轮62在滑道61处滑动的稳定性。
其中,所述滑轮62为不锈钢材质。
其中,所述连接条669为钨钢材质。
本专利所述的连接条669为钨钢材质,钨钢是指至少含有一种金属碳化物组成的烧结复合材料,其具有硬度高、耐磨、强度和韧性较好、耐热、耐腐蚀等一系列优良性能,特别是它的高硬度和耐磨性,即使在500℃的温度下也基本保持不变,在1000℃时仍有很高的硬度。
当使用者想使用本专利的时候,切割装置将硅片边缘多余的光刻胶去除,废弃的光刻胶落于支撑脚2顶部的收集斗1内储存,需要将储存的光刻胶取出时,在出料口3底部放置盛放容器,将电源线5接于电源处4,保证设备供电正常,按动控制按钮4使固定座666底部的汽缸667运行,汽缸667底部向上收缩后,通过连接件668带动连接条669以连接轴665中部为支点转动,连接条669带动连接轴665在支撑板663顶部的支撑块664内侧转动,连接轴665外壁前后两端的连接块662带动连接板661转动,连接板661带动第二挡板64以连接轴665中部为支点向下转动,第二挡板通过合页65施于第一挡板63右侧向右的作用力,受力后的第一挡板63带动滑轮62在滑道61处向右滚动,使第一挡板63和第二挡板64呈打开状态,收集斗1内储存的废弃光刻胶通过出料口3落入盛放容器中,以便后续回收再利用。本实施例的光刻胶收集结构,解决了现有光刻胶收集结构的不足包括:现有结构相对较为简单,通常以单一收集斗为主要收集元件,不便于对收集的光刻胶进行储存,且难以将储存的光刻胶快速取出备用,降低了光刻胶回收利用效率的问题。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点,对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (10)
1.一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,包括收集斗(1)、支撑脚(2)、出料口(3)、控制按钮(4)和电源线(5),所述收集斗(1)底端四角固定有支撑脚(2),且收集斗(1)底面中部开设有出料口(3),所述出料口(3)左侧中部设置有控制按钮(4),且出料口(3)前端左侧安装有电源线(5);
其特征在于:还包括开合机构(6),所述开合机构(6)设置于出料口(3)底部。
2.根据权利要求1所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,其特征在于:所述开合机构(6)包括滑道(61)、滑轮(62)、第一挡板(63)、第二挡板(64)、合页(65)和驱动元件(66),所述滑道(61)横向开设于出料口(3)底面前后两端,且滑道(61)与滑轮(62)表面滚动连接,所述第一挡板(63)设置于出料口(3)底部左侧,且第一挡板(63)前后两面左侧与滑轮(62)内侧相连接,所述第二挡板(64)设置于出料口(3)底部右侧,且第二挡板(64)左侧通过合页(65)与第一挡板(63)右侧相连接,所述驱动元件(66)设置于出料口(3)右侧。
3.根据权利要求2所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,其特征在于:所述驱动元件(66)由连接板(661)、连接块(662)、支撑板(663)、支撑块(664)、连接轴(665)、固定座(666)、汽缸(667)、连接件(668)和连接条(669)组成,所述连接板(661)左侧与第二挡板(64)右侧前后两端固定连接,且连接板(661)顶面中部焊接有连接块(662),所述支撑板(663)固定于出料口(3)右侧底部前后两端,且支撑板(663)底面中部固定有支撑块(664),所述连接轴(665)前后两端贯穿连接块(662)顶部与支撑块(664)内侧中部相连接。
4.根据权利要求3所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,其特征在于:所述固定座(666)固定于出料口(3)右侧顶端,且固定座(666)底部与汽缸(667)顶部固定连接,所述连接件(668)与汽缸(667)顶端中部相连接,且连接件(668)底端中部通过转轴与连接条(669)底端中部转动连接,所述汽缸(667)和控制按钮(4)均与电源线(5)电连接,所述汽缸(667)与控制按钮(4)电连接。
5.根据权利要求4所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,其特征在于:所述连接条(669)底端中部开设有通孔,且通孔内壁与连接轴(665)外壁中部固定连接。
6.根据权利要求2所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,其特征在于:所述第一挡板(63)和第二挡板(64)尺寸、结构均相同,且第一挡板(63)和第二挡板(64)顶面外侧均贴合有橡胶密封层。
7.根据权利要求2所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,其特征在于:所述滑轮(62)呈圆柱状,且滑轮(62)表面呈光滑状态。
8.根据权利要求3所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,其特征在于:所述汽缸(667)可伸缩的最大距离为3cm,且滑轮(62)可滚动的最大距离为10cm。
9.根据权利要求2所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,其特征在于:所述合页(65)安装于第一挡板(63)和第二挡板(64)内侧前后两端,且第一挡板(63)和第二挡板(64)内侧面均贴合有橡胶密封层。
10.根据权利要求2所述的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构,其特征在于:所述滑道(61)宽度为10mm,且滑轮(62)宽度为9mm。
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CN114602839A (zh) * | 2022-03-08 | 2022-06-10 | 成辉辉 | 一种半导体晶圆生产用光刻胶收集杯结构 |
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CN114602839A (zh) * | 2022-03-08 | 2022-06-10 | 成辉辉 | 一种半导体晶圆生产用光刻胶收集杯结构 |
CN114602839B (zh) * | 2022-03-08 | 2023-11-03 | 成辉辉 | 一种半导体晶圆生产用光刻胶收集杯结构 |
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