CN212778587U - 一种满足大尺寸硅片的烧结炉 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及烧结炉技术领域，且公开了一种满足大尺寸硅片的烧结炉，包括炉体，所述炉体的左右两侧均开设有开口，所述开口的内部设置有网带输送机，所述炉体内壁的前后两侧均固定连接有红外加热灯管，所述红外加热灯管位于网带输送机的上下两侧，所述炉体的底部固定连接有支撑柱，所述炉体的底部开设有气孔，所述气孔的内壁固定连通有进气管，所述进气管的表面固定连通有导气板，所述导气板的上表面开设有导气槽。本实用新型通过设置两个进气管，使炉体内的气场可根据需要进行调节，进而该烧结炉对较大硅片的烧结效果，同时，在导气板、导气槽、密封机构和分流板的配合下，使进气管内的气体均匀的吹在网带输送机上。

Description

一种满足大尺寸硅片的烧结炉

技术领域

本实用新型涉及烧结炉技术领域，尤其涉及一种满足大尺寸硅片的烧结炉。

背景技术

目前，在单晶太阳能电池制造过程中，大多通过烧结炉对硅片进行烧结处理，但现有的烧结炉，大多通过单根气管向炉体内供气，这样会使炉体内的气场无法控制，进而容易导致烧结炉对大尺寸硅片的烧结效果较差。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，如：现有的烧结炉，大多通过单根气管向炉体内供气，这样会使炉体内的气场无法控制，进而容易导致烧结炉对大尺寸硅片的烧结效果较差，而提出的一种满足大尺寸硅片的烧结炉。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种满足大尺寸硅片的烧结炉，包括炉体，所述炉体的左右两侧均开设有开口，所述开口的内部设置有网带输送机，所述炉体内壁的前后两侧均固定连接有红外加热灯管，所述红外加热灯管位于网带输送机的上下两侧。

所述炉体的底部固定连接有支撑柱，所述炉体的底部开设有气孔，所述气孔的内壁固定连通有进气管，所述进气管的表面固定连通有导气板，所述导气板的上表面开设有导气槽，所述进气管的顶部位于导气槽的内部。

所述导气槽内壁的底部开设有通孔，所述导气槽的内壁和进气管的表面均滑动连接有密封机构，所述导气板的上表面固定连接有分流板，所述分流板的内壁与密封机构的表面接触。

优选的，所述密封机构包括滑板，所述滑板的表面与导气槽的内壁接触，所述滑板的内壁与进气管的表面接触，所述滑板的上表面固定连接有密封柱，所述密封柱的表面分流板的内壁接触，所述滑板的底部固定连接有弹簧。

优选的，所述分流板包括盖板，所述盖板的上表面开设有分流孔，所述分流孔的内壁固定连接有分流管，所述分流管的内壁与密封柱的表面接触。

优选的，所述导气板的数量为两个，且两个导气板在炉体的内部呈等距离分布。

优选的，所述炉体的左右两侧均固定连接有内螺纹块，所述内螺纹块位于开口的上方，所述内螺纹块的内壁螺纹连接有螺纹柱，所述螺纹柱的表面固定连接有轴承，所述轴承位于内螺纹块的下方，所述轴承的底部固定连接有L形密封板，所述L形密封板的表面与炉体的表面接触。

优选的，所述滑板与盖板之间最大距离大于密封柱的高度。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

(1)本实用新型通过设置两个进气管，使炉体内的气场可根据需要进行调节，进而该烧结炉对较大硅片的烧结效果，同时，通过设置导气板、导气槽、密封机构和分流板，其中密封机构对分流板上的分流管起到密封作用，当通过进气管向炉体内供气时，进气管内的气体进入至滑板上方，使滑板上方的气压增大，此时，在气压的作用下，使滑板向下移动，当密封柱与分流管分离时，导气板内的空气通过分流管排出，此时，每个分流管内气体流量相等，进而在导气板、导气槽、密封机构和分流板的配合下，使进气管内的气体均匀的吹在网带输送机上。

(2)本实用新型通过设置内螺纹块、螺纹柱、轴承和L形密封板，其中，L形密封板对开口起到密封作用，当使用该烧结炉对硅片进行烧结处理时，可通过转动螺纹柱，调节L形密封板与网带输送机之间间隙，进而防止开口较大，导致炉体内的热量流失较多。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型图1中A处放大图；

图3为本实用新型图1中B处放大图；

图4为本实用新型分流板的俯视图。

图中：1、炉体；2、开口；3、网带输送机；4、红外加热灯管；5、支撑柱；6、气孔；7、进气管；8、导气板；9、导气槽；10、通孔；11、密封机构；111、滑板；112、密封柱；113、弹簧；12、分流板；121、盖板；122、分流孔；123、分流管；13、内螺纹块；14、螺纹柱；15、轴承；16、L形密封板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

参照图1-4，一种满足大尺寸硅片的烧结炉，包括炉体1，炉体1的左右两侧均开设有开口2，开口2的内部设置有网带输送机3，炉体1内壁的前后两侧均固定连接有红外加热灯管4，红外加热灯管4位于网带输送机3的上下两侧。

炉体1的底部固定连接有支撑柱5，炉体1的底部开设有气孔6，气孔6的内壁固定连通有进气管7，进气管7的表面固定连通有导气板8，导气板8的数量为两个，且两个导气板8在炉体1的内部呈等距离分布，导气板8的上表面开设有导气槽9，进气管7的顶部位于导气槽9的内部。

导气槽9内壁的底部开设有通孔10，导气槽9内的空气通过通孔10进行流通，导气槽9的内壁和进气管7的表面均滑动连接有密封机构11，导气板8的上表面固定连接有分流板12，分流板12的内壁与密封机构11的表面接触。

密封机构11包括滑板111，滑板111的表面与导气槽9的内壁接触，滑板111的内壁与进气管7的表面接触，滑板111的上表面固定连接有密封柱112，密封柱112的表面分流板12的内壁接触，滑板111的底部固定连接有弹簧113，弹簧113对滑板111起到推动作用。

分流板12包括盖板121，盖板121的上表面开设有分流孔122，分流孔122的内壁固定连接有分流管123，分流管123的内壁与密封柱112的表面接触，滑板111与盖板121之间最大距离大于密封柱112的高度。

炉体1的左右两侧均固定连接有内螺纹块13，内螺纹块13位于开口2的上方，内螺纹块13的内壁螺纹连接有螺纹柱14，螺纹柱14的表面固定连接有轴承15，轴承15位于内螺纹块13的下方，轴承15的底部固定连接有L形密封板16，L形密封板16的表面与炉体1的表面接触，通过设置内螺纹块13、螺纹柱14、轴承15和L形密封板16，其中，L形密封板16对开口2起到密封作用，当使用该烧结炉对硅片进行烧结处理时，可通过转动螺纹柱14，调节L形密封板16与网带输送机3之间间隙，进而防止开口2较大，导致炉体1内的热量流失较多。

本实用新型中，使用者使用该装置时，将硅片放置在网带输送机3上，通过网带输送机3，使硅片自左向右的穿过炉体1，然后通过炉体1内的红外加热灯管4对硅片进行加热，当通过进气管7对炉体1进行供气时，进气管7内的气体进入至滑板111上方，使滑板111上方的气压增大，此时，在气压的作用下，使滑板111向下移动，当密封柱112与分流管123分离时，导气板8内的空气通过分流管123排出，此时，每个分流管123内气体流量相等，进而在导气板8、导气槽9、密封机构11和分流板12的配合下，使进气管7内的气体均匀的吹在网带输送机3上。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

Claims (6)

1.一种满足大尺寸硅片的烧结炉，包括炉体(1)，其特征在于，所述炉体(1)的左右两侧均开设有开口(2)，所述开口(2)的内部设置有网带输送机(3)，所述炉体(1)内壁的前后两侧均固定连接有红外加热灯管(4)，所述红外加热灯管(4)位于网带输送机(3)的上下两侧；

所述炉体(1)的底部固定连接有支撑柱(5)，所述炉体(1)的底部开设有气孔(6)，所述气孔(6)的内壁固定连通有进气管(7)，所述进气管(7)的表面固定连通有导气板(8)，所述导气板(8)的上表面开设有导气槽(9)，所述进气管(7)的顶部位于导气槽(9)的内部；

所述导气槽(9)内壁的底部开设有通孔(10)，所述导气槽(9)的内壁和进气管(7)的表面均滑动连接有密封机构(11)，所述导气板(8)的上表面固定连接有分流板(12)，所述分流板(12)的内壁与密封机构(11)的表面接触。

2.根据权利要求1所述的一种满足大尺寸硅片的烧结炉，其特征在于，所述密封机构(11)包括滑板(111)，所述滑板(111)的表面与导气槽(9)的内壁接触，所述滑板(111)的内壁与进气管(7)的表面接触，所述滑板(111)的上表面固定连接有密封柱(112)，所述密封柱(112)的表面分流板(12)的内壁接触，所述滑板(111)的底部固定连接有弹簧(113)。

3.根据权利要求2所述的一种满足大尺寸硅片的烧结炉，其特征在于，所述分流板(12)包括盖板(121)，所述盖板(121)的上表面开设有分流孔(122)，所述分流孔(122)的内壁固定连接有分流管(123)，所述分流管(123)的内壁与密封柱(112)的表面接触。

4.根据权利要求1所述的一种满足大尺寸硅片的烧结炉，其特征在于，所述导气板(8)的数量为两个，且两个导气板(8)在炉体(1)的内部呈等距离分布。

5.根据权利要求1所述的一种满足大尺寸硅片的烧结炉，其特征在于，所述炉体(1)的左右两侧均固定连接有内螺纹块(13)，所述内螺纹块(13)位于开口(2)的上方，所述内螺纹块(13)的内壁螺纹连接有螺纹柱(14)，所述螺纹柱(14)的表面固定连接有轴承(15)，所述轴承(15)位于内螺纹块(13)的下方，所述轴承(15)的底部固定连接有L形密封板(16)，所述L形密封板(16)的表面与炉体(1)的表面接触。

6.根据权利要求3所述的一种满足大尺寸硅片的烧结炉，其特征在于，所述滑板(111)与盖板(121)之间最大距离大于密封柱(112)的高度。

Images