CN212647492U - 屏下式指纹侦测模块和显示装置 - Google Patents

屏下式指纹侦测模块和显示装置 Download PDF

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江欣峻
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Abstract

本实用新型公开了一种屏下式指纹侦测模块和显示装置,该屏下式指纹侦测模块包括基板、光源以及光传感器,光源设置于基板上,且光源所产生的光线在出射角为0度的强度小于出射角在35度到75度的范围中的最大强度;光传感器设置于基板上。该显示装置包括显示面板、光源和光传感器,该显示面板具有一显示面;该光源设置于所述显示面板的所述显示面下,其中,该光源所产生的光线在出射角为0度的强度小于出射角在35度到75度的范围中的最大强度;该光传感器设置于所述显示面板的所述显示面下。

Description

屏下式指纹侦测模块和显示装置
技术领域
本实用新型涉及屏下式指纹侦测模块和显示装置。
背景技术
随着科技日新月异,便携式显示装置,例如:智能型手机(smartphone)、平板计算机(tabletPC)或是笔记型计算机(laptopPC)等,已成为了人们生活中必备的工具。随着其功能越来越多元,其中通常储存有大量的私人数据,例如电话簿、相片或个人身份信息等,因而具有一定的隐密性。为了保护这些数据,已发展出将指纹检测技术运用在便携式显示装置中。
在屏占比越来越高的趋势下,目前指纹检测技术有逐渐发展出透过光线在装置内产生全反射的特性来达到屏下指纹影像侦测的效果。然而,此技术在撷取指纹影像的清晰度与效率上仍存在不少缺点,以致于迟迟无法达到市售产品的规格需求。例如,传统用于侦测指纹影像的光线是通过自发光显示面板中作为像素的发光元件所提供,并且为了提升显示面板显示影像的光利用率,作为像素的发光二极管所产生光线的最大强度是在出射角0度,且随着出射角越大强度逐渐下降。在利用全反射的特性来侦测指纹影像的技术中,由于光线的出射角需大于一定角度以上才会产生全反射,且随着出射角越大,光线经过全反射抵达光传感器的强度越弱,并且光传感器所接收到的光线强度会随着入射角越大而越小,因此光传感器所侦测到全反射的光线强度变得非常低。并且,由于发光二极管的光线在小出射角的强度大于大出射角的强度,因此具有指纹影像信息的大出射角光线容易受到小出射角光线的影响,造成指纹影像对比度下降。再者,若持续使用作为像素的发光元件来提供侦测指纹的光线,发光元件在侦测指纹影像时将射出光线的强度提高至大于显示影像的强度,容易降低发光元件的寿命。因此,如何提升指纹影像侦测的效果对于指纹检测技术而言仍是非常重要的议题。
实用新型内容
根据本实用新型的一实施例,提供一种屏下式指纹侦测模块,包括:一基板;一光源,设置于所述基板上,其中,该光源所产生的光线在出射角为0度的强度小于出射角在35度到75度的范围中的最大强度;以及,一光传感器,设置于所述基板上。
根据本实用新型的另一实施例,提供一种显示装置,包括:一显示面板,具有一显示面;一光源,设置于所述显示面板的所述显示面下,其中,该光源所产生的光线在出射角为0度的强度小于出射角在35度到75度的范围中的最大强度;以及,一光传感器,设置于所述显示面板的所述显示面下。
在本实用新型的屏下式指纹侦测模块中,由于光源所产生的光线在出射角为0度的强度可小于出射角在35度到75度的范围中的最大强度,因此不仅可提升光传感器所侦测到的具有指纹影像信息的光线强度,还可降低小角度光线的干扰,从而可提高所侦测到的指纹影像的对比度。此外,由于所采用的光源不同于用于显示影像的发光元件,因此可避免因发光元件用于侦测指纹影像而造成的寿命缩短的问题。
附图说明
图1是本实用新型第一实施例的显示装置的剖视示意图;
图2是本实用新型一实施例的光源与传统用于侦测影像的光源所产生的光线的出射角与相对强度的关系示意图;
图3是第一实施例的第一范例的发光元件与光源的剖视示意图;
图4是图3所示光源所产生的光线的出射角与相对强度的关系示意图;
图5是第一实施例的一变化实施例的显示装置的俯视示意图;
图6是沿着图5的剖线A-A’的剖视示意图;
图7是第一实施例的第二范例的光源的剖视示意图;
图8是图7的光源所产生的光线的出射角与相对强度的关系示意图;
图9是第一实施例的第三范例的光源的剖视示意图;
图10是图9的光源所产生的光线的出射角与相对强度的关系示意图;
图11是本实用新型第二实施例的显示装置的剖视示意图;
图12是本实用新型第三实施例的显示装置的剖视示意图。
附图标记说明:
1,2,3 显示装置
102,236 基板
104 发光元件
104a 第一发光元件
104b 第二发光元件
104c 第三发光元件
106 保护层
108 覆盖板
110 光源
112 光传感器
112a 光侦测元件
114 手指
116 周围环境介质
118 下电极
12 显示面板
120 有机层
120a 电洞注入层
120b 电洞传输层
120c 发光层
120d 电子传输层
120e 电子注入层
122 上电极
124 遮光元件
124a 第一开口
124b 第二开口
124c 第三开口
126 载板
128,132 发光二极管芯片
12S1 显示面
12S2 背面
130 透镜结构
130a 上内凹部
130b 下内凹部
130c 凸出部
132a 发光面
134 膜层
14 屏下式指纹感测模块
C1,C2 曲线
D1 法线方向
D2,D3 方向
L 光线
L1 斜向光线
L2 正向光线
P1 第一部分
P2 第二部分
α 出射角
θ 入射角
具体实施方式
下面对照附图并结合优选的实施方式对本实用新型作进一步说明。
本领域技术人员可经由参考以下的详细描述并同时结合附图而理解本实用新型,须注意的是,为了使公众能容易了解并使图式简洁,本实用新型的附图只绘出屏下式指纹侦测模块和显示装置的一部分,且附图中的特定元件并非完全依照实际比例绘制。此外,图中各元件的数量及尺寸仅作为示意,并非用来限制本实用新型的保护范围。
应了解到,当元件或膜层被称为在另一个元件或膜层「上」或「连接到」另一个元件或膜层时,它可以直接在此另一元件或膜层上或直接连接到此另一元件或膜层,或者两者之间存在有插入的元件或膜层。相反地,当元件被称为「直接」在另一个元件或膜层「上」或「直接连接到」另一个元件或膜层时,两者之间不存在有插入的元件或膜层。
图1为本实用新型第一实施例的显示装置的剖视示意图。如图1所示,该显示装置1可包括显示面板12以及屏下式指纹侦测模块14。显示面板12可具有显示面12S1,同时作为显示影像以及让手指触摸以进行指纹侦测的表面。显示面板12可为自发光显示面板,例如可包括基板102以及复数个发光元件104,其中发光元件104可作为显示面板12的像素或子像素,用以显示影像。举例来说,基板102可例如包括用以控制发光元件104的阵列电路层(图未示)以及用以承载发光元件104与阵列电路层的支撑基板(图未示)。阵列电路层可例如包括薄膜晶体管、扫描线、数据线、电源线以及储存电容等用以控制发光元件104所产生的光线的亮暗的元件,但不限于此。本领域技术人员应知阵列电路层可依据设计需求作出其它的变化。在本实施例中,支撑基板可为透明或不透明。支撑基板可例如为硬性或软性基板。硬性基板可例如包括玻璃、石英、陶瓷、蓝宝石、其它适合作为基板的材料或前述的组合,但不以此为限。软性基板可例如包括聚酰亚胺(polyimide,PI)基板、聚碳酸(polycarbonate,PC)基板、聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate,PET)基板等塑胶基板、其它适当的基板或其组合,但不以此为限。此外,发光元件104可例如包括有机发光二极管、无机发光二极管或其它合适的发光元件。
在一些实施例中,如图1所示,显示面板12还可包括保护层106,覆盖于发光元件104上,用以保护发光元件104,例如当发光元件104为有机发光二极管时,保护层106可防止发光元件104受到水氧的破坏。保护层106可例如包括有机材料、无机材料、上述的组合或其他合适的保护材料。有机材料可例如包括高分子材料或其他合适的材料,无机材料可例如包括氧化硅、氮化硅、上述的组合或其他合适的材料。举例来说,保护层106可包括多层无机材料与多层有机材料的交替堆栈,但不限于此。在一些实施例中,保护层106还可包括盖层(cappinglayer),设置于无机材料与有机材料的交替堆栈与发光元件104之间,但不限于此。在本实施例中,显示面板12还可选择性包括覆盖板108,设置于保护层106上,以作为让手指触摸的基板,使得覆盖板108的外表面可作为显示面12S1,但不以此为限。举例来说,覆盖板108可包括玻璃、塑胶或其他基板材料,但不限于此。为了简洁,图1并未完整显示出显示面板12的完整结构,且不以所绘示的为限。
在图1的实施例中,屏下式指纹侦测模块14可整合在显示面板12中,因此屏下式指纹侦测模块14可在垂直显示面12S1的法线方向D1上位于显示面板12的显示面12S1的正下方,使得屏下式指纹侦测模块14可侦测触摸于显示面12S1上的手指114的指纹影像。具体来说,本实施例的屏下式指纹侦测模块14可包括光源110以及光传感器112,其中光源110、光传感器112与发光元件104可设置于显示面板12中的同一基板102上。举例来说,光源110、光传感器112与发光元件104可位于同一平面或位于不同平面上。并且,为了避免发光元件104影响指纹侦测,在垂直于显示面12S1的法线方向D1上,光源110、光传感器112与发光元件104可彼此错开。举例来说,光源110与光传感器112可分别设置于两相邻发光元件104之间的间隙中。
如图1所示,光源110可用于产生侦测指纹影像的光线L,并将光线L射向手指114触摸的显示面12S1。光源110所产生的光线L可例如包括可见光或不可见光。光传感器112可侦测从显示面12S1反射的光线L,以侦测手指114的指纹影像。光传感器112可例如包括复数个光侦测元件112a。光侦测元件112a可设置于光源110的至少一侧。在图1的实施例中,光侦测元件112a可设置在光源110的周围,且例如以阵列排列,但不限于此。相较于光侦测元件112a的分布范围而言,光源110可接近点光源,举例来说,光源110在平行于显示面12S1的水平方向(例如方向D2)上的宽度可小于或等于450微米,但不限于此。光侦测元件112a可侦测的光线波长范围可搭配光源110的光线L而作对应的调整。光侦测元件112a可例如包括光电二极管、光电晶体或其他合适的光侦测元件,但不以此为限。在本实施例中,光源110与光传感器112可例如通过显示面板12的阵列电路层控制,但不限于此。
下文将进一步描述屏下式指纹侦测模块14侦测指纹的方式。如图1所示,当显示面12S1有手指触摸时,手指114指纹的波峰会与显示面12S1接触,而波谷则不会与显示面12S1接触而是与显示面12S1之间存在间隙,且间隙中可存在周围环境介质116。周围环境介质116可例如包括空气或其他环境介质材料。由于手指114皮肤的折射率可接近显示面板12最上层的膜层或基板(例如覆盖板108)的折射率,因此光线L在指纹波峰与显示面板12接触的界面不易产生全反射,且照射到指纹波峰与显示面板12的界面的光线L的大部分可穿过界面而进入手指114中。举例来说,皮肤的折射率可为约1.4,当覆盖板108由玻璃形成时,覆盖板108的折射率可为1.55。另一方面,由于周围环境介质116(例如空气)的折射率小于覆盖板108的折射率,因此光线L在周围环境介质116与显示面板12的界面处(即手指114不与显示面板12接触的区域)容易发生全反射。如此一来,光传感器112可接收到从显示面12S1反射且具有亮暗指纹图案的光线L,进而可侦测到手指114的指纹影像。
需说明的是,在本实施例中,光源110所产生的光线L在出射角α为0度(即在法线方向D1上)的强度可小于出射角α在约35度到约75度的范围中(如35度≤α≤75度)的最大强度,使得光源110所产生的大部分光线L可用于侦测指纹影像,以提升光传感器112所接收到的指纹亮暗的对比度。本文的出射角α与入射角θ可分别定义为光线L的行进方向与法线方向D1的夹角。具体请参考图2,其为本实用新型一实施例的光源与传统用于侦测影像的光源所产生的光线的出射角与相对强度的关系示意图。如图2所示,曲线C1与曲线C2分别为本实施例的光源与传统用于侦测影像的光线的出射角与相对强度的关系。在曲线C1中,光线在出射角从约35度(°)到约75度的范围中(斜向光线)的最大强度可大于光线在出射角为0度(正向光线)的强度,其中图1所示的光线L可区分为斜向光线L1与正向光线L2,其中斜向光线L1可例如定义为出射角为大于或等于约35度的光线,而正向光线L2可例如定义为出射角小于35度的光线。举例来说,如图2曲线C1所示,光线的最大强度可位于出射角在约60度,且光线在出射角为0度的强度为谷值,并且光线在出射角在0度到60度的范围中的强度可随着出射角增加而增加,在出射角60度以上,则强度随着出射角越大而越小,因此本实施例光源的光线可例如具有蝙蝠翼状的光型。举例来说,光线在出射角从约35度到约60度的范围中(斜向光线)的强度可大于光线在出射角为0度(正向光线)的强度,但不限于此。在曲线C2中,光线的最大强度是位于出射角0度,且随着出射角越大,光线强度越小。换言之,曲线C2的正向光线的强度大于斜向光线的强度。由此可知,本实施例的光源的斜向光线强度对正向光线强度的比例可大于传统用于侦测影像的光源的斜向光线强度对正向光线强度的比例,使得所产生的大部分光线可作为用于侦测指纹影像的斜向光线。
进一步而言,如图1所示,当光源110所产生的光线L的出射角α可与入射界面的入射角θ相同或接近时,产生全反射的光线L是出射角α大于一定角度以上的光线(例如斜向光线L1),因此光传感器112所侦测到具有指纹影像信息的光线是全反射的斜向光线L1。并且,全反射的斜向光线L1入射光传感器112的入射角会接近光线入射显示面12S1的入射角θ。在本实施例中,由于光源110所产生的斜向光线L1的强度增加,因此可提升产生全反射的斜向光线L1的强度,进而提升抵达光传感器112的光线强度,并可弥补因光传感器112接收较大入射角的斜向光线L1所产生的损失。从而可提升光传感器112所侦测到的光线强度。并且,透过斜向光线L1的强度大于正向光线L2的强度,可降低正向光线L2经面板内元件反射、绕射,或是进入手指内经皮肤组织漫射后对光传感器112所侦测到的指纹影像的影响,进而提高光传感器112所侦测到指纹影像的对比度。此外,由于屏下式指纹侦测模块14用于产生侦测指纹影像的光源110不同于用于显示影像的发光元件104,因此可避免因发光元件104用于侦测指纹影像所造成寿命缩短的问题。
请参考图3与图4,图3为第一实施例的第一范例的发光元件与光源的剖视示意图,图4为图3的光源所产生的光线的出射角与相对强度的关系示意图。如图3所示,在本范例中,光源110与发光元件104可例如为有机发光二极管,其包括下电极118、有机层120以及上电极122,且有机层120设置于下电极118与上电极122之间。上电极122与下电极118可包括金属材料,使得上电极122与下电极118之间的空间可作为微共振腔(microcavity),且通过调整微共振腔的厚度(也就是调整有机层120的厚度)可改变光线在微共振腔中所产生的干涉行为,进而调整有机发光二极管所产生光线的光型。举例来说,当光线在微共振腔中有较多的相长性干涉(constructiveinterference)时,出射角较小的正向光线可具有较大的强度,而当光线在微共振腔中有较多的相消性干涉(destructive interference)时,出射角较大的斜向光线可具有较大的强度。在图3的实施例中,有机层120可包括电洞注入层120a、电洞传输层120b、发光层120c、电子传输层120d以及电子注入层120e,依序形成在下电极118上,但不限于此。调整有机层120的厚度可例如调整电洞注入层120a、电洞传输层120b、发光层120c、电子传输层120d以及电子注入层120e中的至少一层的厚度。
举例来说,发光元件104可包括第一发光元件104a、第二发光元件104b与第三发光元件104c,分别用于产生不同的颜色,例如分别产生绿色、蓝色与红色,但不限于此。当光源110与第一发光元件104a均产生绿光时,光源110的电洞注入层120a、发光层120c、电子传输层120d以及电子注入层120e的厚度可分别相同于第一发光元件104a的电洞注入层120a、发光层120c、电子传输层120d以及电子注入层120e的厚度,且通过将光源110的电洞传输层120b的厚度调整为不同于第一发光元件104a的电洞传输层120b,可使光源110的光线在出射角在约35度到约75度的范围中的最大强度大于出射角为约0度的强度,如图4所示。光线的最大强度可例如位于出射角在约50度,光线在出射角从约35度到约70度的范围中(斜向光线)的强度可例如大于光线在出射角为0度(正向光线)的强度,但不限于此。举例来说,光源110与第一发光元件104a的电洞传输层120b的厚度可分别为190纳米与145纳米,但不限于此。由于光源110的电洞注入层120a、发光层120c、电子传输层120d以及电子注入层120e可分别与第一发光元件104a的电洞注入层120a、发光层120c、电子传输层120d以及电子注入层120e同时形成,因此可降低制作光源110的成本以及复杂度。
如图3所示,在一些实施例中,由于第一发光元件104a、第二发光元件104b与第三发光元件104c分别用于产生不同的颜色,因此第一发光元件104a、第二发光元件104b与第三发光元件104c中的微共振腔的厚度彼此不相同。举例来说,第一发光元件104a的电洞注入层120a、发光层120c、电子传输层120d以及电子注入层120e的厚度分别相同于第二发光元件104b的电洞注入层120a、发光层120c、电子传输层120d以及电子注入层120e的厚度与第三发光元件104c的电洞注入层120a、发光层120c、电子传输层120d以及电子注入层120e的厚度,且第一发光元件104a、第二发光元件104b与第三发光元件104c的电洞传输层120b可具有不同的厚度,但不限于此。
请参考图5至图6,图5为第一实施例的一变化实施例的显示装置的俯视示意图,图6为沿着图5中的剖线A-A’的剖视示意图。如图5与图6所示,本变化实施例的显示装置1还可选择性包括遮光元件124,设置于光源110上,用于遮蔽光源110所产生的出射角小于35度的正向光线,从而可进一步提升所侦测到的指纹影像的对比度。在图5与图6的实施例中,遮光元件124可设置于保护层106上,但不限于此。在本变化实施例中,遮光元件124可具有第一部分P1以及第一开口124a,第一部分P1在法线方向D1上与光源110重叠,且第一部分P1在水平方向(例如方向D2)上的宽度可大于光源110在水平方向上的宽度,而第一开口124a在法线方向D1上围绕光源110,使得光源110所产生出射角在约35度到75度的光线可通过第一开口124a射出。通过遮光元件124与光源110之间的间距以及遮光元件124的宽度可调整光源110从第一开口124a射出光线的出射角。
在一些实施例中,遮光元件124还可选择性在法线方向D1上设置于光传感器112上。具体来说,遮光元件124还可具有多个第二部分P2以及多个第二开口124b,第二部分P2在法线方向D1可上与对应的光侦测元件112a重叠,且第二部分P2在水平方向(例如方向D2)上的宽度可大于光侦测元件112a在水平方向上的宽度,而第二开口124b在法线方向D1上围绕光侦测元件112a,使得光侦测元件112a可接收入射角在约35度到75度的光线,从而可提升所侦测到的指纹影像的对比度。通过遮光元件124与光侦测元件112a之间的间距以及遮光元件124的宽度可调整光侦测元件112a从第二开口124b接收光线的入射角。
在图5与图6的实施例中,遮光元件124可具有多个第三开口124c,且第三开口124c在法线方向D1上设置于对应的发光元件104上,使得发光元件104所产生的光线不被遮光元件124阻挡。换言之,遮光元件124沿着法线方向D1投影到基板102的上表面的投影是位于相邻发光元件104之间,因此遮光元件124还可降低相邻且产生不同颜色的发光元件104的光线混和。
请参考图7与图8,图7为第一实施例的第二范例的光源的剖视示意图,图8为图7的光源所产生的光线的出射角与相对强度的关系示意图。如图7所示,本范例的光源110与图3所示的光源110的差异在于,本范例的光源110可为发光二极管封装结构,其包括载板126、发光二极管芯片128以及透镜结构130。发光二极管芯片128与透镜结构130设置于载板126上,且发光二极管芯片128设置于载板126与透镜结构130之间,因此通过透镜结构130可使光源110所产生的光线在出射角从约35度到75度的范围中的最大强度大于出射角约0度的强度。在图7所示的范例中,透镜结构130可具有上内凹部130a、下内凹部130b以及两凸出部130c。下内凹部130b与载板126接合,且发光二极管芯片128设置于下内凹部130b中。凸出部130c连接上内凹部130a并位于上内凹部130a的两相对侧,且上内凹部130a在垂直载板126上表面的方向D3上与发光二极管芯片128重叠。发光二极管芯片128所产生的光线可从下内凹部130b射入透镜结构130,经过折射之后可从两凸出部130c射出,使得光源110所产生的光线在出射角较大的强度可大于出射角较小的强度,如图8所示。本实用新型的透镜结构不以图7所示的结构为限,也可为其他合适的结构,以达到光线在出射角从约35度到75度的范围中的最大强度大于出射角约0度的强度的效果。
请参考图9与图10,图9为第一实施例的第三范例的光源的剖视示意图,图10为图9的光源所产生的光线的出射角与相对强度的关系示意图。如图9所示,本范例的光源110与图3所示的光源110的差异在于,本范例的光源110可为发光二极管芯片结构,其包括用于产生光线的发光二极管芯片132以及多层膜层134,其中膜层134依序堆栈在发光二极管芯片132的发光面132a上,且膜层134的折射率由下而上依序递减,使得从发光二极管芯片132产生的光线L可基于膜层134的折射率差异而朝发光二极管芯片结构110的侧面射出,进而提升出射角较大的光线的强度,并降低出射角较小的光线的强度。在图9的实施例中,膜层134的数量可例如为5层,使得出射角在约35度到75度的范围中的光线L的最大强度可大于出射角为约0度的光线L强度,如图10所示。本实用新型的膜层数量可依据实际需求作对应调整。
请参考图11,其为本实用新型第二实施例的显示装置的剖视示意图。如图11所示,本实施例所提供的显示装置2与图1所示的显示装置1的差异在于,本实施例的屏下式指纹侦测模块14可与显示面板12彼此分开制作。在图11所示的实施例中,屏下式指纹侦测模块14可设置于显示面板12相对于显示面12S1的背面12S2。举例来说,屏下式指纹侦测模块14可与显示面板12分开形成。在此情况下,屏下式指纹侦测模块14可例如通过黏着层(图未示)黏贴于显示面板12的背面12S2或通过框架(图未示)固定于显示面板12的背面12S2下。并且,显示面板12的基板102可包括透明基板,使光源110的光线L可穿透基板102并作为侦测指纹影像的光线。
具体来说,如图11所示,本实施例的屏下式指纹侦测模块14可包括基板236、光源110以及光传感器112,其中基板236可设置于显示面板12的背面12S2,且光源110与光传感器112可设置于基板236上。基板可例如包括可挠性或不可挠性的电路板、支撑基板或其他合适的基板材料。在本实施例中,光源110所产生的光线L在出射角α为0度(即在法线方向D1上)的强度可小于出射角α在约35度到约75度(如35度≤α≤75度)的范围中的最大强度,使得光源110所产生的大部分光线L可用于侦测指纹影像,以提升光传感器112所接收到的指纹亮暗的对比度。举例来说,光源110在平行于基板236的上表面的水平方向(例如方向D2)上的宽度可小于或等于450微米,但不限于此。由于本实施例的光源110可适用上述任一实施例与范例的光源,且光传感器112可适用上述实施例的光传感器112,因此在此不多赘述。
请参考图12,其为本实用新型第三实施例的显示装置的剖视示意图。如图12所示,本实施例所提供的显示装置3与图1所示的显示装置1的差异在于,本实施例的屏下式指纹侦测模块14的一部分可未整合在显示面板12中。在图12所示的实施例中,屏下式指纹侦测模块14的光源110可设置在显示面板12中的基板102上。举例来说,光源110的至少一部分可通过发光元件104的制程形成,进而可节省制作光源110的成本,但不限于此。具体来说,如图12所示,本实施例的屏下式指纹侦测模块14的基板236可设置于显示面板12的背面12S2,且光传感器112可设置于基板236上,使得光源110与光传感器112可设置于不同的平面上。在此情况下,光传感器112与基板236可例如通过黏着层(图未示)黏贴于显示面板12的背面12S2或通过框架(图未示)固定于显示面板12的背面12S2下。并且,显示面板12的基板102可包括透明基板,使光源110的光线L可穿透基板102被光传感器112接收。基板236可例如包括可挠性或不可挠性的电路板、支撑基板或其他合适的基板材料。在本实施例中,光源110所产生的光线L在出射角α为0度(即在法线方向D1上)的强度可小于出射角α在约35度到约75度的范围中(如35度≤α≤75度)的最大强度,使得光源110所产生的大部分光线L可用于侦测指纹影像,以提升光传感器112所接收到的指纹亮暗的对比度。由于本实施例的光源110可适用上述任一实施例与范例的光源,且光传感器112可适用上述实施例的光传感器112,因此在此不多赘述。
综上所述,在本实用新型的屏下式指纹侦测模块中,由于光源所产生的光线在出射角为0度的强度可小于出射角为35度到75度范围中的最大强度,因此不仅可提升光传感器所侦测到具有指纹影像信息的光线强度,还可降低小角度光线的干扰,藉此可提高所侦测到的指纹影像的对比度。此外,由于光源不同于用于显示影像的发光元件,因此可避免因发光元件用于侦测指纹影像而造成的寿命缩短。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明,不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干等同替代或明显变型,而且性能或用途相同,都应当视为属于本实用新型的保护范围。

Claims (14)

1.一种屏下式指纹侦测模块,其特征在于,包括:
一基板;
一光源,设置于所述基板上,其中,该光源所产生的光线在出射角为0度的强度小于出射角在35度到75度的范围中的最大强度;以及,
一光传感器,设置于所述基板上。
2.如权利要求1所述的屏下式指纹侦测模块,其特征在于,所述光源在平行于所述基板的上表面的一水平方向上的宽度小于或等于450微米。
3.如权利要求1所述的屏下式指纹侦测模块,其特征在于,所述光源包括发光二极管封装结构、有机发光二极管或发光二极管芯片。
4.如权利要求1所述的屏下式指纹侦测模块,其特征在于,所述光源所产生的所述光线具有蝙蝠翼状的光型。
5.一种显示装置,其特征在于,包括:
一显示面板,具有一显示面;
一光源,设置于所述显示面板的所述显示面下,其中,该光源所产生的光线在出射角为0度的强度小于出射角在35度到75度的范围中的最大强度;以及,
一光传感器,设置于所述显示面板的所述显示面下。
6.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述光源在平行于所述显示面板的显示面的一水平方向上的宽度小于或等于450微米。
7.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述光源与所述光传感器设置于所述显示面板中。
8.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述光源与所述光传感器设置于所述显示面板的一背面,所述背面与所述显示面相对。
9.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述光源设置于所述显示面板中,且所述光传感器设置于所述显示面板的一背面,所述背面与所述显示面相对。
10.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述光源包括发光二极管封装结构、有机发光二极管或发光二极管芯片。
11.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述光源具有蝙蝠翼状的光型。
12.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,还包括一遮光元件,设置于所述光源上。
13.如权利要求12所述的显示装置,其特征在于,所述遮光元件设置于所述光传感器上。
14.如权利要求12所述的显示装置,其特征在于,所述显示面板包括复数个发光元件,所述遮光元件具有多个开口,且所述多个开口的其中一个设置于对应的所述复数个发光元件的其中一个上。
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