CN212643521U - 一种带密封结构的压力容器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型实施例提供了一种带密封结构的压力容器,属于压力容器制造技术领域,压力容器包括一密封结构,所述密封结构包括:容器体一部,所述容器体一部包括:第一密封面,所述第一密封面为容器体一部的一个端面;密封槽,所述密封槽内凹设置在第一密封面上;以及压力通道,所述压力通道贯通设置在容器体一部内,且所述压力通道的第一端连通所述密封槽;盖体,所述盖体包括一第二密封面,且所述第二密封面对于第一密封面设置;以及密封圈,所述密封圈设置在密封槽内,且所述密封圈贴合所述盖体;其中,所述压力通道的第二端连通一压力源,并通过压力源使得密封圈压在盖体上。达到密封圈和盖体紧密贴合的技术效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及压力容器制造技术领域,尤其涉及一种带密封结构的压力容器。
背景技术
目前在压力容器中,容器体和盖体之间通过设置传统密封圈进行密封,具体的密封方式为:先在容器体上垫设传统密封圈,然后放下盖体,并利用螺栓螺母将盖体向下紧压容器体,以使得传统密封圈密封容器体和盖体之间的缝隙,如烧结炉上就是此类密封结构。
但是上述的密封结构主要依靠传统密封圈紧密的贴合在盖体和容器体上,在传统密封圈经过多次压紧形变后,传统密封圈的厚度会被压缩。存在螺栓螺母拧到标准扭力后,传统密封圈与盖体存在间隙的问题,导致目前的密封结构密封性能不可靠。
所以,现有技术的技术问题在于:密封圈和盖体存在间隙。
发明内容
本申请实施例提供一种密封结构和压力容器烧结炉,解决了现有技术中密封圈和盖体存在间隙的技术问题;达到密封圈和盖体紧密贴合的技术效果。
本申请实施例提供一种带密封结构的压力容器,压力容器包括一密封结构,所述密封结构包括:容器体一部,所述容器体一部包括:第一密封面,所述第一密封面为容器体一部的一个端面;密封槽,所述密封槽内凹设置在第一密封面上;以及压力通道,所述压力通道贯通设置在容器体一部内,且所述压力通道的第一端连通所述密封槽;盖体,所述盖体包括一第二密封面,且所述第二密封面对于第一密封面设置;以及密封圈,所述密封圈设置在密封槽内,且所述密封圈贴合所述盖体;其中,所述压力通道的第二端连通一压力源,并通过压力源使得密封圈压在盖体上。
作为优选,所述第一密封面和第二密封面均为平面,或第一密封面和第二密封面为互补的一组端面。
作为优选,所述第一密封面和第二密封面之间贴合。
作为优选,所述密封圈嵌设在密封槽内。
作为优选,所述密封圈包括:第二端面,所述第二端面为密封圈的底面,且所述第二端面为内凹状。
作为优选,所述第二端面具体为由边缘向中心内凹。
作为优选,所述第二端面具体为一个内外两侧对称的内凹状。
作为优选,所述压力容器包括容器体,所述容器体一部为容器体的一部分,且所述容器体设置有一容置腔,且所述容置腔内可容置一定压力;其中,所述压力通道的第二端连通所述容置腔。
作为优选,所述盖体贴合设置在容置腔一端面上,并通过盖体使得容置腔的一端面为密封状态。
作为优选,所述密封槽的横截面形状为上宽下窄;且所述密封圈的横截面形状和所述密封槽的横截面形状一致。
本申请实施例中的上述一个或多个技术方案,至少具有如下一种或多种技术效果:
1、本申请实施例中,通过在容器体一部上设置密封槽和压力通道,压力通道的两端分别连通压力源和密封槽,利用压力源的压力使得密封圈始终顶紧贴合在盖体上;解决了现有技术中密封圈和盖体存在间隙的技术问题;达到密封圈和盖体紧密贴合的技术效果。
2、本申请实施例中,通过优化密封圈的形状,将密封圈的第二端面设置为内凹状,且第二端面的内外两侧对称,使得压力源中的压力可以稳定推动密封圈,使得密封圈和盖体之间贴合平整。
3、本申请实施例中,通过容器体设置容置腔,利用容置腔可以容置压力的优势,使得容置腔可以充当压力源,为密封圈提供顶紧盖体的动力。当密封结构运用在如压力容器烧结炉时,容置腔可以作为压力容器烧结炉的主工作腔,用来进行烧结工作,同时利用烧结产生的压力和/或向主工作腔打入的气压来作为密封圈顶紧盖体的动力。
附图说明
图1为本申请实施例中一种带密封结构的压力容器的主视向剖视结构示意图;
图2为图1中A处密封结构的放大图;
图3为本申请实施例中密封圈的剖视结构示意图。
附图标记:1、容器体;11、容器体一部;111、密封槽;112、压力通道;12、容器体二部;13、容器体三部;14、容置腔;2、盖体;3、夹箍;4、密封圈;41、第一端面;42、第二端面;43、第三端面;44、第四端面。
具体实施方式
本文中为部件所编序号本身,例如“第一”、“第二”等,仅用于区分所描述的对象,不具有任何顺序或技术含义。而本申请所说“连接”、“联接”,如无特别说明,均包括直接和间接连接(联接)。在本申请的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
本申请实施例提供了一种带密封结构的压力容器,通过在容器体一部11上设置密封槽111和压力通道112,压力通道112的两端分别连通压力源和密封槽111,利用压力源的压力使得密封圈4始终顶紧贴合在盖体2上;解决了现有技术中密封圈4和盖体2存在间隙的技术问题;达到密封圈4和盖体2紧密贴合的技术效果。
为了更好的理解上述技术方案,下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。
一种带密封结构的压力容器,参考说明书附图1;压力容器包括容器体1、盖体2以及密封圈3,其中,容器体1可以是一整体部件,也可以是多个部件拼接构成,如容器体1可以是由容器体一部11、容器体二部、以及容器体三部组合构成,其中,容器体一部11对应盖体2。具体来说,容器体1、盖体2以及密封圈3构成一个密封结构,容器体一部11和盖体2贴合,密封圈4位于两者之间,密封圈4受到一个来自压力源的压力,使得密封圈4可以紧密贴合在盖体2上。
容器体一部11,参考说明书附图2;容器体一部11包括:第一密封面、密封槽111以及压力通道112;第一密封面为容器体一部11的一个端面,优选第一密封面为容器体一部11的上端面。密封槽111,密封槽111内凹设置在第一密封面上,密封槽111的横截面形状为上宽下窄;且密封圈4的横截面形状和密封槽111的横截面形状一致,以便于密封圈4在置入密封槽111内不出现晃动和移位;此外为了密封槽111和密封圈4之间的气密性,可以将密封槽111的横截面形状设置为上窄下宽,使得密封圈4向外运动时可以紧密的贴合密封槽111的槽壁。压力通道112,压力通道112贯通设置在容器体一部11内,且压力通道112的第一端连通密封槽111。压力通道112可以采用浇筑成型,也可以采用钻孔的形式。需要说明的是,为了保证密封圈4可以均匀的受力,达到密封圈4均匀的向外运动,优选压力通道112分为至少两段,第一段位于密封槽111的下方,且第一段压力通道112垂直于密封槽111的底面连通密封槽111;第二段压力通道112用来连通第一段压力通道112和压力源,并通过压力源使得密封圈4压在盖体2上。
需要说明的是,容器体1内有一容置腔14,且容置腔14内可容置一定压力;压力通道112的第二端连通容置腔14。这样不需要外接一个压力源,利用密封结构的保护对象内的压力即可达到高效密封。可以理解的是,盖体本身的作用就是用来密封容置腔14,也就是本专利申请中可以利用被保护对象的内部压力来进一步提升密封性能。
盖体2,盖体2包括一第二密封面,且第二密封面对于第一密封面设置,且第一密封面和第二密封面之间贴合。可以理解的是,第一密封面和第二密封面均为平面,或第一密封面和第二密封面为互补的一组端面。
密封圈4,参考说明书附图3;密封圈4嵌设在密封槽111内,且密封圈4贴合盖体2。密封圈4包括:第一端面41、第二端面42、第三端面43以及第四端面44。第一端面41为密封圈4的上顶面;第二端面42为密封圈4的底面,且第二端面42为内凹状,具体为一个内外两侧对称的内凹状,且优选内凹的样式为由边缘向中心内凹。优选第一端面41的尺寸大于第二端面42的尺寸,以便于在保持对密封圈4大压强的情况下,稳定作用在盖体2上。第三端面43为密封圈4的外侧端面,第四端面44为密封圈4的内侧端面;当压力源来自密封结构的保护对象时,优选第三端面43为一个竖直面,第四端面44为一个由下向上向内侧倾斜的面,这样的设计,可以在压力源对密封圈4作用时,密封圈4向上运动以贴合盖体2,此时,密封圈4的第三端面43和密封槽111之间依旧可以保持贴合,而第四端面44和密封槽111之间会出现间隙,以使得压力经过第四端面44重新回到容置腔14内,以使得密封槽111的第二端面42和倾斜状的第四端面44均受到压力,在两个端面的压力作用下,使得密封圈4顶紧盖体2,使得密封圈4的第三端面43顶紧密封槽111,保证高效的密封。
压力容器可具体为一烧结炉,容器体一部11作为压力容器烧结炉的一端,利用容器体1内的容置腔14可以容置压力,利用烧结过程中容置腔14内会产生压力,将该压力直接运用到密封圈4的密封上,减少密封结构需要外置一压力源的弊端。需要说的是,压力容器烧结炉采用该密封结构时,优选容器体1和盖体2之间设置一个夹箍3,用来避免盖体2相对于容器体1的横向移动。
工作原理:
容置体1内设置有容置腔14,所述容置腔14内可以存储压力。在盖体2和容器体一部11贴合的基础上,容置腔14内的压力通过压力通道112给密封槽111提供向上运动的动力,密封圈4在该动力的作用下顶紧并贴合在盖体2上,使得密封圈4和盖体2紧密贴合。
技术效果:
1、本申请实施例中,通过在容器体一部上设置密封槽和压力通道,压力通道的两端分别连通压力源和密封槽,利用压力源的压力使得密封圈始终顶紧贴合在盖体上;解决了现有技术中密封圈和盖体存在间隙的技术问题;达到密封圈和盖体紧密贴合的技术效果。
2、本申请实施例中,通过优化密封圈的形状,将密封圈的第二端面设置为内凹状,且第二端面的内外两侧对称,使得压力源中的压力可以稳定推动密封圈,使得密封圈和盖体之间贴合平整。
3、本申请实施例中,通过容器体一部内构件容置腔,利用容置腔可以容置压力的优势,使得容置腔可以充当压力源,为密封圈提供顶紧盖体的动力。当密封结构运用在压力容器烧结炉时,容置腔可以作为压力容器烧结炉的主工作腔,用来进行烧结工作,同时利用烧结产生的压力和/或向主工作腔打入的气压来作为密封圈顶紧盖体的动力。
尽管已描述了本实用新型的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本实用新型范围的所有变更和修改。
显然,本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样,倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内,则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种带密封结构的压力容器,其特征在于,压力容器包括一密封结构,所述密封结构包括:
容器体一部,所述容器体一部包括:
第一密封面,所述第一密封面为容器体一部的一个端面;
密封槽,所述密封槽内凹设置在第一密封面上;以及
压力通道,所述压力通道贯通设置在容器体一部内,且所述压力通道的第一端连通所述密封槽;
盖体,所述盖体包括一第二密封面,且所述第二密封面对于第一密封面设置;以及
密封圈,所述密封圈设置在密封槽内,且所述密封圈贴合所述盖体;
其中,所述压力通道的第二端连通一压力源,并通过压力源使得密封圈压在盖体上。
2.如权利要求1所述的带密封结构的压力容器,其特征在于,所述第一密封面和第二密封面之间贴合。
3.如权利要求1所述的带密封结构的压力容器,其特征在于,所述密封圈嵌设在密封槽内。
4.如权利要求1所述的带密封结构的压力容器,其特征在于,所述密封槽的横截面形状为上宽下窄;且所述密封圈的横截面形状和所述密封槽的横截面形状一致。
5.如权利要求1所述的带密封结构的压力容器,其特征在于,所述第一密封面和第二密封面均为平面,或第一密封面和第二密封面为互补的一组端面。
6.如权利要求1所述的带密封结构的压力容器,其特征在于,所述密封圈包括:
第二端面,所述第二端面为密封圈的底面,且所述第二端面为内凹状。
7.如权利要求6所述的带密封结构的压力容器,其特征在于,所述第二端面具体为由边缘向中心内凹。
8.如权利要求6所述的带密封结构的压力容器,其特征在于,所述第二端面具体为一个内外两侧对称的内凹状。
9.如权利要求1-8中任意一项所述的带密封结构的压力容器,其特征在于,所述压力容器包括容器体,所述容器体一部为容器体的一部分,且所述容器体设置有一容置腔,且所述容置腔内可容置一定压力;其中,所述压力通道的第二端连通所述容置腔。
10.如权利要求9所述的带密封结构的压力容器,其特征在于,所述盖体贴合设置在容置腔一端面上,并通过盖体使得容置腔的一端面为密封状态。
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