CN212549502U - 一种自清洁反应釜 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种自清洁反应釜，其包括搅拌装置和清洗装置，其中，搅拌装置包括转动设于反应釜壳体内的搅拌轴，于搅拌轴上设有多个第一搅拌杆和第二搅拌杆，在第二搅拌杆的自由端固连有清洁板，清洁板朝向内壁的一侧呈尖状；清洗装置包括主输水通道，于各搅拌杆内与主输水通道连通的第一支输水通道及构造于各清洁板内的第二支输水通道，并于清洁板上设有多个第一喷洗孔，于第一搅拌杆自由端设有第二喷洗孔，且于反应釜壳体外设有输出清洗液的供水部。本实用新型所述的自清洁反应釜，通过构造尖状的清洁板，使反应釜在工作过程中清洁板可刮落内壁附落的搅拌物；并通过构造清洁装置，可进一步冲洗反应釜内壁上的附着物，提升反应釜的清洁效果。

Description

一种自清洁反应釜

技术领域

本实用新型涉及化工反应釜领域，特别涉及一种自清洁反应釜。

背景技术

反应釜是化工反应设备中的重要设备，反应釜的清洁度直接影响反应产物的质量。

在反应釜中，有些反应为固液反应，刚开始反应时并不能完全溶解，是随着反应的进行慢慢溶解消散，且有些反应过程中能产生沉淀，这些反应在搅拌反应时，固定物料往往会飞溅到反应釜内壁上，形成附着在反应釜内壁上的污垢，如果不清洗干净，很容易对下一次反应造成污染。

现有的反应釜内的残留物主要是定期清洗来去除；清洗时，需通过将釜体和釜盖拆开，清洗一次拆装一次，拆装繁琐，在拆装过程中还容易发生损坏内部器件的事件，耽误生产，增加了维修成本；同时，现有的反应釜中搅拌轴一般设于反应釜底部，不能很好的形成搅拌效果，并使其充分搅拌反应，影响反应效率。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型旨在提出一种自清洁反应釜，以便于对反应釜进行清洗，并具有较好的使用效果。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种自清洗反应釜，包括反应釜壳体，于所述反应釜壳体的顶部设有进料口，于所述反应釜壳体的底部分别设有出料口和出液口；所述自清洗反应釜还包括：

搅拌装置，包括转动设于所述反应釜壳体的容腔内、且底端伸出所述反应釜壳体的搅拌轴，和安装于所述反应釜壳体的顶部以驱使所述搅拌轴转到的驱动部；并于所述搅拌轴的底部设有环其周向间隔布置的多个第一搅拌杆，于所述搅拌轴上设有位于所述第一搅拌杆上方、并环所述搅拌轴的周向间隔布置的一组第二搅拌杆，在各所述第二搅拌杆的自由端固连有靠近于所述反应釜壳体的内壁布置的清洁板，所述清洁板的朝向所述内壁的一侧呈尖状；

清洗装置，包括构造于所述搅拌轴内的主输水通道，和设于各所述第一搅拌杆和所述第二搅拌杆内、并与所述主输水通道连通的第一支输水通道，以及构造于各所述清洁板内、并与所述第一支输水通道连通的第二支输水通道，并于所述清洁板上设有朝向所述反应釜壳体的内壁布置的多个第一喷洗孔，于所述第一搅拌杆的自由端设有第二喷洗孔，且于所述反应釜壳体外设有与所述主输水通道的底部连通以输出清洗液的供水部。

进一步地，所述清洁板的横截面呈三角形，各所述第一喷洗孔位于清洁板的两侧面上、并沿所述清洁板的高度方向间隔布置。

进一步地，所述第二搅拌杆为沿所述搅拌轴的轴向间隔布置的两组，且各所述清洁板连接在上下对应布置的两所述第二搅拌杆上。

进一步地，于上下对应布置的两所述第二搅拌杆之间设有加强杆。

进一步地，所述第一搅拌杆呈横置的“Y”字形。

进一步地，于各所述清洁板的顶端设有上喷洗孔，于其底端设有下喷洗孔，且所述上喷洗孔的孔径小于所述下喷洗孔。

进一步地，于各所述清洁板的顶端设有位于所述上喷洗孔上方的挡罩。

进一步地，于所述反应釜壳体外套设有保温壳体，并于所述保温壳体和所述反应釜壳体件填充有保温材料。

进一步地，于所述反应釜壳体外设有与所述出料口连通的接料仓，以及与所述出液口连通的废液仓。

进一步地，于所述出料口处设有控制所述出料口与所述接料仓连通或断开连通的第一控制阀，于所述出液口处设有控制所述出液口与所述废液仓连通或断开连通的第二控制阀，

相对于现有技术，本实用新型具有以下优势：

(1)本实用新型所述的自清洁反应釜，通过构造尖状的清洁板，可使反应釜在工作过程中清洁板刮落内壁附落的搅拌物；并通过构造清洁装置，清洁装置喷洗可进一步增强清洗反应釜内壁上的效果，提升反应釜的清洁效果，具有较好的实用性。

(2)第一喷洗孔位于清洁板的两侧面上并沿清洁板的高度方向间隔布置，可减小第一喷洗孔对尖状位置的干涉效果并增强清洁板对内壁的清洁性。

(3)第二搅拌杆设置为两组，可增强第二搅拌杆在反应釜中的搅拌效果，同时增强搅拌装置的强度。

(4)与上下对应布置的两第二搅拌杆之间设有加强杆，不仅能够增强搅拌装置的结构强度，还能够显著提高搅拌效果。

(5)第一搅拌杆呈横置的“Y”形，如此可增大第一搅拌杆在反应釜中的搅拌面积，提升反应效率。

(6)于各清洁板顶部和底部设有喷洗孔，可进一步增强清洗装置的清洁效果，同时，防止搅拌物进入清洁板后堆积清洁板的底部造成堵塞。

(7)在清洁板的顶端设有喷洗孔的挡罩，如此可进一步减少搅拌物进入清洁板中形成堵塞。

(8)于反应釜壳体外套设有保温壳体，如此可防止反应釜在反应过程中与外界进行热交换，影响反应结果。

附图说明

构成本实用新型的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型实施例所述的一种自清洁反应釜的内部结构示意图；

图2为图1的A-A方向的剖视图；

图3为图2中A部放大图；

图4为本实用新型实施例所述的清洁板的结构示意图。

附图标记说明：

1-反应釜壳体，2-搅拌装置，3-清洗装置，4-保温材料，5-接料仓，6-废液仓；

101-进料口，102-出料口，103-出液口；

201-搅拌轴，202-第一搅拌杆，203-第二搅拌杆，204-清洁板，205-加强杆；

301-主输水通道，302-第一支输水通道，303-第二支输水通道，304-第一喷洗孔，305-第二喷洗孔，306-高压供水部；

214-尖状结构，224-上喷洗孔，234-下喷洗孔，244-挡罩；

501-第一控制阀，601-第二控制阀。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

本实施例设计一种自清洁反应釜，如图1所示，其包括反应釜壳体1，该反应釜壳体1可安装在机架上，于反应釜壳体1的顶部设有进料口101，于反应釜壳体1的底部分别设有出料口102和出液口103。其中，本实施例所述的自清洁反应釜还包括用于对反应釜壳体内物质进行搅拌的搅拌装置2，和用于对反应釜壳体的内壁进行清洗的清洗装置3。

以下先对搅拌装置2进行说明，如图1所示，搅拌装置2包括转动设于反应釜壳体1的容腔内、且底端伸出反应釜壳体1的搅拌轴201，和安装于反应釜壳体1的顶部，并以驱使搅拌轴201转动的驱动部。具体的，驱动部包括通过联轴器连接于搅拌轴201的减速器，及连接于减速器并用于驱动的驱动电机，驱动电机安装在机架上。在此，本实施例中应用的减速器和驱动电机采用现有技术中已有的结构即可，其具体结构及原理不再说明。

如图1所示，于上述搅拌轴201的底部还设有环其周向间隔布置两个第一搅拌杆202。具体的，第一搅拌杆202为呈横置的“Y”字形，且两个第一搅拌杆202对称布置于搅拌轴201的周向两侧，于各第一搅拌杆202朝向反应釜内壁的一侧分别构造有自由端，经由此构造，可增强第一搅拌杆202在反应釜工作过程中的搅拌效果。

于搅拌轴201上设有位于第一搅拌杆202上方、并环搅拌轴201的周向间隔布置的一组第二搅拌杆203，本实施例中的一组第二搅拌杆203具体包括四个。当然，根据具体的使用需求，一组中第二搅拌杆203的数量也可以根据具体的使用需求进行增减。

继续参照图1，本实施例中，为了进一步增强反应釜反应过程中的搅拌效果，使其充分反应，上述第二搅拌杆203为沿搅拌轴的轴向间隔布置的两组。显然，两组第二搅拌杆203中第二搅拌杆203的数量，以及其在搅拌轴上的位置相对应。

另外，在上下对应布置的两第二搅拌杆203的自由端固连有靠近于反应釜壳体1的内壁布置的清洁板204，即位于上方的第二搅拌杆与清洁板的顶部相连，位于下方的第二搅拌杆与清洁板的底部相连。为提高清洁板的使用效果，本实施例中的清洁板204的朝向内壁的一侧呈尖状。

如图1至图4所示，清洁板204具体为三棱柱形，其横截面呈等腰三角形，上述的尖状结构214具体为等腰三角形中两个腰对应侧面的相交位置。相对于尖状结构，清洁板的另一侧面焊接固连于第二搅拌杆203上。如此，当搅拌轴 201在进行周向旋转过程中，清洁板204的尖状结构214刮蹭反应釜内壁的搅拌物并可使其掉落。本实施例中，经由两组第二搅拌杆203的自由端固连有四个清洁板204，其可根据第二搅拌杆203的数量对应选取清洁板204。在此值得说明的是，本实施例中清洁板204的截面形状除了为上述的等腰三角形外，还可以是由三角形和矩形构成的五边形等，只要起到可刮落内壁搅拌物的作用即可。

此外，于上下对应布置的两个第二搅拌杆203之间还分别设有加强杆205，如图所示，加强杆205两端分别焊接固定于上端第二搅拌杆203和相对下端第二搅拌杆203之间。同时，为提高加强杆205在使用时的搅拌效果，本实施例中的加强杆205倾斜布置，如其连接在两个第二搅拌杆203的斜对角处。本实施例中，经由加强杆205的布置，一方面可增强搅拌装置2的整体强度，另一方面又可增大搅拌装置2在反应釜中的搅拌面积，增强搅拌效果。在此，需要说明的是，本实施例中加强杆205还可为交叉布置的两个，此时两加强杆205 分别固定连接在两个第二搅拌杆203的外侧，以使连接后的两加强杆205呈“X”字形。

以下继续对清洗装置3进行说明，如图1所示，清洗装置3包括构造于搅拌轴201内的主输水通道301，和设于各第一搅拌杆202和第二搅拌杆203内、并与主输水通道301连通的第一支输水通道302，以及构造于各清洁板204内、并与第一支输水通道302连通的第二支输水通道303，并于清洁板204上设有朝向反应釜壳体1的内壁布置的多个第一喷洗孔304，且于反应釜壳体1外设有与主输水通道301的底部连通以输出清洗液的高压供水部306。在此，高压供水部306通过管路连接至主输水通道301，且二者经由旋转接头连接，如此，可使主输水通道301对高压供水部306发生相对转动，并防止高压供水部306 和主输水通道301发生干涉。

上述清洗装置3的具体结构如图2至图4所示，第一喷洗孔304开设于清洁板204的尖状结构214的两侧面上、并沿清洁板204的高度方向间隔布置。如此，第一喷洗孔304可对反应釜壳体1内壁喷出清洗液进行冲刷，增强对反应釜内壁的清洁效果。同时，于各清洁板204的顶端设有上喷洗孔224，于其底端设有下喷洗孔234，且上喷洗孔224的孔径小于下喷洗孔234，这样可防止搅拌过程中搅拌物进入清洁板204中，堵塞清洁板204中的第一喷洗孔304；并于各清洁板204的顶端设有位于上喷洗孔224上方的挡罩244，经由此设置可进一步减少搅拌物进入清洁板204中，防止造成堵塞。

如图1所示，为了进一步增强清洗装置3在反应釜中的清洁效果，于上述第一搅拌杆202的自由端还开设有第二喷洗孔305，本实施例中具体为两个第一搅拌杆202的四个自由端，如此可分别从第二喷洗孔305喷出清洗液至反应釜内壁进行冲刷。

为了方便对反应釜清洗和反应的状态切换，于反应釜壳体1外通过管路连接有与出料口102连通的接料仓5，以及与出液口103连通的废液仓6，且于出料口102处设有控制出料口102与接料仓5连通或断开连通的第一控制阀501，于出液口103处设有控制出液口103与废液仓6连通或断开连通的第二控制阀 601。反应釜内的反应物经由出料口进入接料仓5，清洗反应釜壳体的清洗液经由出液口流入到废液仓6。

同时，于反应釜壳体1外套设有保温壳体，并于保温壳体和反应釜壳体1 件填充有保温材料4，此处的保温材料可采用现有技术中的保温材料，如其为塑板、岩棉等。通过设置此结构，可使反应釜在工作状态过程中保持釜内温度稳定，防止其与外界进行热交换，从而防止其影响反应产物。当然，在本实施例中，保温材料可根据实际情况选取，在此不做具体限定。

本实施例中所述的自清洁反应釜在工作时，第一控制阀501和第二控制阀 601均处于关闭状态，反应用搅拌物在釜内经由第一搅拌杆202、第二搅拌杆 203的搅拌充分发生反应，当于反应釜内壁上粘连搅拌物时，随搅拌轴201同轴转动的清洁板204的尖状结构214刮落搅拌物并继续进行搅拌；反应停止时打开第一控制阀501，反应产物随出料口102流进接料仓5中。

本实施例中所述的自清洁反应釜在清洗时，关闭第一控制阀501，打开第二控制阀601，同时高压供水部306开始对主输水通道301供输清洗液，在此过程中，釜内搅拌装置2保持继续搅拌状态，清洗液流经主输水通道301进入第一支输水通道302，并从第二喷洗孔305冲喷出对内壁进行冲洗；随后清洗液进入第二支输水通道303，并从第一喷洗孔304、上喷洗孔224及下喷洗孔 234中喷出，继续对反应釜内壁进行冲洗；冲洗废液经由出液口103流出支废液仓6中进行处理。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种自清洗反应釜，其特征在于，包括反应釜壳体(1)，于所述反应釜壳体(1)的顶部设有进料口(101)，于所述反应釜壳体(1)的底部分别设有出料口(102)和出液口(103)；所述自清洗反应釜还包括：

搅拌装置(2)，包括转动设于所述反应釜壳体(1)的容腔内、且底端伸出所述反应釜壳体(1)的搅拌轴(201)，和安装于所述反应釜壳体(1)的顶部以驱使所述搅拌轴(201)转到的驱动部；并于所述搅拌轴(201)的底部设有环其周向间隔布置的多个第一搅拌杆(202)，于所述搅拌轴(201)上设有位于所述第一搅拌杆(202)上方、并环所述搅拌轴(201)的周向间隔布置的一组第二搅拌杆(203)，在各所述第二搅拌杆(203)的自由端固连有靠近于所述反应釜壳体(1)的内壁布置的清洁板(204)，所述清洁板(204)的朝向所述内壁的一侧呈尖状；

清洗装置(3)，包括构造于所述搅拌轴(201)内的主输水通道(301)，和设于各所述第一搅拌杆(202)和所述第二搅拌杆(203)内、并与所述主输水通道(301)连通的第一支输水通道(302)，以及构造于各所述清洁板(204)内、并与所述第一支输水通道(302)连通的第二支输水通道(303)，并于所述清洁板(204)上设有朝向所述反应釜壳体(1)的内壁布置的多个第一喷洗孔(304)，于所述第一搅拌杆(202)的自由端设有第二喷洗孔(305)，且于所述反应釜壳体(1)外设有与所述主输水通道(301)的底部连通以输出清洗液的高压供水部(306)。

2.根据权利要求1所述的自清洗反应釜，其特征在于：所述清洁板(204)的横截面呈三角形，各所述第一喷洗孔(304)位于清洁板(204)的两侧面上、并沿所述清洁板(204)的高度方向间隔布置。

3.根据权利要求1所述的自清洗反应釜，其特征在于：所述第二搅拌杆(203)为沿所述搅拌轴(201)的轴向间隔布置的两组，且各所述清洁板(204)连接在上下对应布置的两所述第二搅拌杆(203)上。

4.根据权利要求3所述的自清洗反应釜，其特征在于：于上下对应布置的两所述第二搅拌杆(203)之间设有加强杆(205)。

5.根据权利要求1所述的自清洗反应釜，其特征在于：所述第一搅拌杆(202)呈横置的“Y”字形。

6.根据权利要求1所述的自清洗反应釜，其特征在于：于各所述清洁板(204)的顶端设有上喷洗孔(224)，于其底端设有下喷洗孔(234)，且所述上喷洗孔(224)的孔径小于所述下喷洗孔(234)。

7.根据权利要求6所述的自清洗反应釜，其特征在于：于各所述清洁板(204)的顶端设有位于所述上喷洗孔(224)上方的挡罩(244)。

8.根据权利要求1所述的自清洗反应釜，其特征在于：于所述反应釜壳体(1)外套设有保温壳体，并于所述保温壳体和所述反应釜壳体(1)件填充有保温材料(4)。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的自清洗反应釜，其特征在于：于所述反应釜壳体(1)外设有与所述出料口(102)连通的接料仓(5)，以及与所述出液口(103)连通的废液仓(6)。

10.根据权利要求9所述的自清洗反应釜，其特征在于：于所述出料口(102)处设有控制所述出料口(102)与所述接料仓(5)连通或断开连通的第一控制阀(501)，于所述出液口(103)处设有控制所述出液口(103)与所述废液仓(6)连通或断开连通的第二控制阀(601)。

Images