CN212357370U - 一种气体离化冷却机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及涂层设备技术领域，尤其是指一种气体离化冷却机构，其包括装配基体、正极载件、负极载件、气腔基件和冷却组件，冷却组件安装于负极载件的下部，正极载件和负极载件之间产生电场，气腔基件设置于正极载件与负极载件之间，以使气腔基件位于所述电场中，气腔基件设有离子发生腔以及与离子发生腔连通的多个离子发射通孔。本机构能够产生大量的离子，作为溅射镀膜过程的轰击粒子，在气体放电的过程中负极载件处于超级高温状态，对冷却组件导入流动的冷却液，以对负极载件和气腔基件进行有效、快速的降温，延长各个部件的使用寿命。

Description

一种气体离化冷却机构

技术领域

本实用新型涉及涂层设备技术领域，尤其是指一种气体离化冷却机构。

背景技术

溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶)，使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。

用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。但是，在产生大量离子的过程中，整个离子产生机构处于高温状态，容易被烧损，零部件的使用寿命短，无法满足现代化生产的需求。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种气体离化冷却机构，能够产生大量的离子，作为溅射镀膜过程的轰击粒子，还能够实现冷却效果，延长各个部件的使用寿命。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

一种气体离化冷却机构，其包括装配基体、正极载件、负极载件、气腔基件和冷却组件，负极载件安装于装配基体的上部，所述冷却组件安装于负极载件的下部，以用于对负极载件冷却，正极载件和负极载件之间产生电场，气腔基件设置于正极载件与负极载件之间，以使气腔基件位于所述电场中，所述气腔基件设有离子发生腔以及与离子发生腔连通的多个离子发射通孔。

进一步地，所述冷却组件包括冷却托件、进液咀和出液咀，冷却托件安装于负极载件的下部，冷却托件与负极载件围设形成冷却液腔，进液咀和出液咀分别安装于冷却托件的两端，进液咀和出液咀与冷却液腔连通。

进一步地，所述冷却托件和负极载件之间安装有第一密封圈，以用于密封冷却托件和负极载件之间的间隙。

进一步地，所述负极载件安装有充气咀，所述充气咀与离子发生腔连通。

进一步地，所述正极载件安装有电极接线柱，以用于接入电源正极，所述负极载件接入电源负极，以用于对离子发生腔提供电场。

进一步地，所述气体离化冷却机构还包括冷却围板，冷却围板中部设有安装孔，以用于安装气腔基件。

进一步地，所述冷却围板的下部设有注液棒，注液棒设有进液通道和出液通道，冷却围板的上部设有冷却环槽，进液通道和出液通道均与冷却环槽连通，冷却液依次流经进液通道、冷却环槽和出液通道，以用于对气腔基件冷却。

进一步地，所述注液棒外侧套设有绝缘部件，以用于保护注液棒。

进一步地，所述气体离化冷却机构还包括多个磁性部件，所述气腔基件设有多个限位孔，多个限位孔呈环形阵列，形成限位孔环，多个离子发射通孔呈直线阵列，多个离子发射通孔均位于限位孔环内部，多个磁性部件分别限位于多个限位孔。

进一步地，所述气腔基件和负极载件之间安装有第二密封圈，以用于密封气腔基件和负极载件之间的间隙。

本实用新型的有益效果：本机构够产生大量的离子，作为溅射镀膜过程的轰击粒子，在气体放电的过程中负极载件处于超级高温状态，对冷却组件导入流动的冷却液，以对负极载件和气腔基件进行有效、快速的降温，延长各个部件的使用寿命。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图。

图2为本实用新型的剖视图一。

图3为本实用新型的剖视图二。

图4为本实用新型的气腔基件、离子发射通孔、限位孔和限位孔环的结构示意图。

图5为本实用新型的冷却围板的立体结构示意图。

具体实施方式

为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例与附图对本实用新型作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本实用新型的限定。

如图1至图5所示，本实用新型提供的一种气体离化冷却机构，其包括装配基体1、正极载件2、负极载件3、气腔基件4和冷却组件5，负极载件3安装于装配基体1的上部，所述冷却组件5安装于负极载件3的下部，以用于对负极载件3冷却，正极载件2和负极载件3之间产生电场，气腔基件4设置于正极载件2与负极载件4之间，以使气腔基件4位于所述电场中，所述气腔基件4设有离子发生腔6以及与离子发生腔6连通的多个离子发射通孔7。

实际运用中，对离子发生腔6充入气体，在电场作用下离子发生腔6的气体被击穿，而呈现气体放电的物理现象，即辉光放电现象，气体放电形成的等离子体，等离子体是一种电离气体，是离子、电子和高能原子等的集合体，正离子和电子总是成对的出现，总数大致相等，整体呈准电中性，它是一种由带电粒子组成的电离状态，称为物质的第四态-等离子态。溅射镀膜过程中，气体和靶材金属原子被高能电子撞击电离为由电子、气体离子和金属离子等导电粒子组成的等离子体。等离子体从离子发射通孔7移动至外界，作为溅射镀膜过程的轰击粒子。在气体放电的过程中负极载件3处于超级高温状态，对冷却组件5导入流动的冷却液，以对负极载件3和气腔基件4进行有效、快速的降温。本实用新型能够产生大量的离子，作为溅射镀膜过程的轰击粒子，还能够实现冷却效果，延长各个部件的使用寿命。

本实施例中，所述冷却组件5包括冷却托件8、进液咀9和出液咀10，冷却托件8安装于负极载件3的下部，冷却托件8与负极载件3围设形成冷却液腔11，进液咀9和出液咀10分别安装于冷却托件8的两端，进液咀9和出液咀10与冷却液腔11连通。具体的，冷却液从进液咀9导入冷却液腔11内，直接与负极载件3接触，冷却液腔11内的冷却液从出液咀10流出，冷却液处于实时流动的状态，使得负极载件3能够有效、快速的降温，延长使用寿命。

本实施例中，所述冷却托件8和负极载件3之间安装有第一密封圈12，以用于密封冷却托件8和负极载件3之间的间隙。由于冷却液导入冷却液腔11内，第一密封圈12用于防止冷却液溢出冷却液腔11，进一步防止造成冷却液浪费和污染其它零部件。具体的，该第一密封圈12数量为多个，使得密封效果更加全面。

本实施例中，所述负极载件3安装有充气咀13，所述充气咀13与离子发生腔6连通。充气咀13与外界的充气装置连接，对离子发生腔6供给足够的气体。

本实施例中，所述正极载件2安装有电极接线柱14，以用于接入外界的电源正极，所述负极载件3用于接入外界的电源负极，使得在接电以后正极载件2与负极载件3之间能够产生电场。

本实施例中，所述气体离化冷却机构还包括冷却围板15，冷却围板15中部设有安装孔16，以用于安装气腔基件4。安装孔16的形状与气腔基件4的形状相匹配，气腔基件4位于冷却围板15中部。

本实施例中，所述冷却围板15的下部设有注液棒17，注液棒17设有进液通道18和出液通道19，冷却围板15的上部设有冷却环槽20，进液通道18和出液通道19均与冷却环槽20连通，冷却液依次流经进液通道18、冷却环槽20和出液通道19，以用于对气腔基件4冷却。具体的，冷却环槽20所在平面与注液棒17的轴向中心线垂直设置，冷却组件5对负极载件3冷却，由于气腔基件4位于负极载件3上，因此冷却组件5能够对气腔基件4的下部进行冷却，冷却环槽20用于对气腔基件4的边缘处冷却，同时对气腔基件4的多处冷却，能够加强冷却效果，保证气体在离子发生腔6内放电形成的等离子体的过程顺利进行。

本实施例中，所述注液棒17外侧套设有绝缘部件21，以用于保护注液棒17。由于注液棒17设置于负极载件3与正极载件2之间，容易被击穿烧损，绝缘部件21能够使得注液棒17处于被绝缘状态，有效保护注液棒17，延长使用寿命。

本实施例中，所述气体离化冷却机构还包括多个磁性部件(图中未示出)，所述气腔基件4设有多个限位孔23，多个限位孔23呈环形阵列，形成限位孔环25，限位孔环25的形状如图4中所示，多个离子发射通孔7呈直线阵列，多个离子发射通孔7均位于限位孔环25内部，多个磁性部件分别限位于多个限位孔23。具体地，磁性部件用于控制离子从离子发射通孔7发射出去的受力，通过控制磁性部件与离子发射通孔7的位置关系，由磁性部件产生的磁场来改变离子的运动方向和轨迹，使其作为溅射镀膜过程的轰击粒子，轰击靶材的效果好，提高靶材的利用率。

本实施例中，所述气腔基件4和负极载件3之间安装有第二密封圈24，以用于密封气腔基件4和负极载件3之间的间隙，以用于防止漏气。

本实施例中的所有技术特征均可根据实际需要而进行自由组合。

上述实施例为本实用新型较佳的实现方案，除此之外，本实用新型还可以其它方式实现，在不脱离本技术方案构思的前提下任何显而易见的替换均在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种气体离化冷却机构，包括装配基体，其特征在于：还包括正极载件、负极载件、气腔基件和冷却组件，负极载件安装于装配基体的上部，所述冷却组件安装于负极载件的下部，以用于对负极载件冷却，正极载件和负极载件之间产生电场，气腔基件设置于正极载件与负极载件之间，以使气腔基件位于所述电场中，所述气腔基件设有离子发生腔以及与离子发生腔连通的多个离子发射通孔。

2.根据权利要求1所述的一种气体离化冷却机构，其特征在于：所述冷却组件包括冷却托件、进液咀和出液咀，冷却托件安装于负极载件的下部，冷却托件与负极载件围设形成冷却液腔，进液咀和出液咀分别安装于冷却托件的两端，进液咀和出液咀与冷却液腔连通。

3.根据权利要求2所述的一种气体离化冷却机构，其特征在于：所述冷却托件和负极载件之间安装有第一密封圈，以用于密封冷却托件和负极载件之间的间隙。

4.根据权利要求1所述的一种气体离化冷却机构，其特征在于：所述负极载件安装有充气咀，所述充气咀与离子发生腔连通。

5.根据权利要求1所述的一种气体离化冷却机构，其特征在于：所述正极载件安装有电极接线柱，以用于接入电源正极，所述负极载件接入电源负极，以用于对离子发生腔提供电场。

6.根据权利要求1所述的一种气体离化冷却机构，其特征在于：所述气体离化冷却机构还包括冷却围板，冷却围板中部设有安装孔，以用于安装气腔基件。

7.根据权利要求6所述的一种气体离化冷却机构，其特征在于：所述冷却围板的下部设有注液棒，注液棒设有进液通道和出液通道，冷却围板的上部设有冷却环槽，进液通道和出液通道均与冷却环槽连通，冷却液依次流经进液通道、冷却环槽和出液通道，以用于对气腔基件冷却。

8.根据权利要求7所述的一种气体离化冷却机构，其特征在于：所述注液棒外侧套设有绝缘部件，以用于保护注液棒。

9.根据权利要求1所述的一种气体离化冷却机构，其特征在于：所述气体离化冷却机构还包括多个磁性部件，所述气腔基件设有多个限位孔，多个限位孔呈环形阵列，形成限位孔环，多个离子发射通孔呈直线阵列，多个离子发射通孔均位于限位孔环内部，多个磁性部件分别限位于多个限位孔。

10.根据权利要求1所述的一种气体离化冷却机构，其特征在于：所述气腔基件和负极载件之间安装有第二密封圈，以用于密封气腔基件和负极载件之间的间隙。

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