CN212207213U - 色谱柱温控装置及色谱分析装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了色谱柱温控装置和色谱分析装置，所述色谱柱温控该装置包括：基体内具有环形凹槽；色谱柱适于环绕在所述环形凹槽内；盖体与所述基体连接，封堵所述凹槽；加热器件设置在所述盖体和/基体内；制冷器件连接所述基体和/或盖体。本实用新型具有体积小、时间迟滞小、温度均匀性好等优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及色谱分析，特别涉及色谱柱温控装置及色谱分析装置。
背景技术
色谱柱是色谱分析仪器最核心的部件，在精确温度控制的情况下，色谱柱将被测混合组分按照设计要求分离开，并被检测器分析。
色谱柱的温度控制是色谱性能至关重要的技术保证，通常采用空气强制加热的方式，有airless的方式，也有airbath方式。这些方式由于都是空气传热，必须将色谱柱和检测器等温度敏感的部件设置在温度均匀的风场中。这种技术路线存在几个问题：
1.为了获得温度均匀的风场，所以色谱温度控制箱的体积大；
2.需要用风扇来强制传热，电机和风扇等运动部件可靠性低；
3.作为传热介质的空气，热容小，传热效率低，容易受到外部温度的影响，同时变温的速度迟滞；
所以这样技术路线的色谱柱箱只能在温度恒定控制的小屋中应用，而且体积大，变温慢，给在线色谱的设计和恶劣环境的应用带来的技术限制。
实用新型内容
为解决上述现有技术方案中的不足，本实用新型提供了一种体积小、温度迟滞小、温度均匀性好的色谱柱温控装置。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：
色谱柱温控装置，所述色谱柱温控装置包括：
基体，所述基体内具有环形凹槽；色谱柱适于环绕在所述环形凹槽内；
盖体，所述盖体与所述基体连接，封堵所述凹槽；
加热器件，所述加热器件设置在所述盖体和/基体内；
制冷器件，所述制冷器件连接所述基体和/或盖体。
本实用新型的目的还在于提供了应用上述色谱柱温控装置的流体检测装置，该发明目的是通过以下技术方案得以实现的：
色谱分析装置，所述色谱分析装置包括色谱柱和检测器；所述色谱分析装置还包括：
温控装置，所述温控装置采用上述的色谱柱温控装置，所述色谱柱环绕地设置在环形凹槽内。
与现有技术相比，本实用新型具有的有益效果为：
1.体积小；
色谱柱环绕地设置在环形凹槽内，有限的体积内延长了色谱柱的长度；同时，加热器件设置在基体和/盖体内，利用热传导去加热和制冷色谱柱，有效地缩小了色谱柱温控装置(色谱分析装置)的体积；
2.温度迟滞小；
调整基体和盖体的温度，再利用热传导去调控色谱柱的温度，色谱柱完全处于基体和盖体围成的空间内，加热或制冷快，减小了温度调整所需时间；
导热物质和导热层的使用，进一步缩短了温控所需时间；
3.温度均匀性好、稳定性好；
色谱柱完全处于基体和盖体围成的空间内，并在环形凹槽内填充导热物质，显著地提升了温度均匀性及稳定性。
附图说明
参照附图，本实用新型的公开内容将变得更易理解。本领域技术人员容易理解的是：这些附图仅仅用于举例说明本实用新型的技术方案，而并非意在对本实用新型的保护范围构成限制。图中：
图1是根据本实用新型实施例的色谱柱温控装置的结构简图。
具体实施方式
图1和以下说明描述了本实用新型的可选实施方式以教导本领域技术人员如何实施和再现本实用新型。为了教导本实用新型技术方案，已简化或省略了一些常规方面。本领域技术人员应该理解源自这些实施方式的变型或替换将在本实用新型的范围内。本领域技术人员应该理解下述特征能够以各种方式组合以形成本实用新型的多个变型。由此，本实用新型并不局限于下述可选实施方式，而仅由权利要求和它们的等同物限定。
实施例1：
图1示意性地给出了本实用新型实施例的色谱柱温控装置的结构简图，如图1所示，所述色谱柱温控装置包括：
基体11，采用导热性好的材料，如金属，所述基体11内具有环形凹槽；色谱柱61适于环绕在所述环形凹槽内；
盖体21，采用导热性好的材料，如金属，所述盖体21与所述基体11连接，封堵所述凹槽；
加热器件31，所述加热器件31设置在所述盖体21和/基体11内；
制冷器件41，如TEC，所述制冷器件41连接所述基体11和/或盖体21。
为了缩小基体的体积，进一步地，所述基体具有向上的柱状凸起12，所述环形凹槽设置在所述柱状凸起12内；阀51设置在所述盖体21和基体11的凸起外缘之间，并适于与所述色谱柱61连接。
实施例2：
根据本实用新型实施例1的色谱柱温控装置在色谱分析装置中的应用例。
在该应用例中，如图1所示，基体11采用不锈钢，具有圆柱形凸起12，内部具有环形凹槽；色谱柱61环绕在设置环形凹槽内，一端连接设置在盖体21和基体11之间的第一阀51，另一端连接设置在盖体21和基体11之间的第二阀52；导热硅脂填充在所述环形凹槽内；盖体采用不锈钢，封堵所述环形凹槽的开口，盖体和基体之间具有导热硅脂；电加热器件设置在盖体和基体内部；TEC设置在盖体的背离基体的一侧；保温层包裹在盖体、基体和TEC的外围。
Claims (9)
1.色谱柱温控装置，其特征在于：所述色谱柱温控该装置包括：
基体，所述基体内具有环形凹槽；色谱柱适于环绕在所述环形凹槽内；
盖体，所述盖体与所述基体连接，封堵所述凹槽；
加热器件，所述加热器件设置在所述盖体和/基体内；
制冷器件，所述制冷器件连接所述基体和/或盖体。
2.根据权利要求1所述的色谱柱温控装置，其特征在于：所述基体具有向上的柱状凸起，所述环形凹槽设置在所述柱状凸起内。
3.根据权利要求1所述的色谱柱温控装置，其特征在于：所述色谱柱温控装置还包括：
阀，所述阀设置在所述盖体和基体的凸起外缘之间，并适于与所述色谱柱连接。
4.根据权利要求1所述的色谱柱温控装置，其特征在于：所述制冷器件采用TEC。
5.色谱分析装置，所述色谱分析装置包括色谱柱和检测器；其特征在于：所述色谱分析装置还包括：
温控装置，所述温控装置采用权利要求1-4任一所述的色谱柱温控装置，所述色谱柱环绕地设置在环形凹槽内。
6.根据权利要求5所述的色谱分析装置，其特征在于：所述环形凹槽内填充导热物质。
7.根据权利要求5所述的色谱分析装置，其特征在于：所述色谱分析装置还包括：
保温层，所述保温层包裹所述基体、盖体和制冷器件。
8.根据权利要求5所述的色谱分析装置，其特征在于：所述盖体和基体之间具有导热层。
9.根据权利要求5所述的色谱分析装置，其特征在于：所述基体和盖体采用金属。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201922500974.7U CN212207213U (zh) | 2019-12-31 | 2019-12-31 | 色谱柱温控装置及色谱分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201922500974.7U CN212207213U (zh) | 2019-12-31 | 2019-12-31 | 色谱柱温控装置及色谱分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN212207213U true CN212207213U (zh) | 2020-12-22 |
Family
ID=73810799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201922500974.7U Active CN212207213U (zh) | 2019-12-31 | 2019-12-31 | 色谱柱温控装置及色谱分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN212207213U (zh) |
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2019
- 2019-12-31 CN CN201922500974.7U patent/CN212207213U/zh active Active
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