CN212009276U - 显影机喷嘴的清洁装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供的显影机喷嘴清洁装置包括：超声波发生器，所述超声波发生器能产生超声波；第一容器，所述第一容器中用以装载第一液体，所述超声波发生器与所述第一容器的外壁连接；第二容器，所述第二容器中用以装载第二液体，所述第二液体用以容置所述显影机喷嘴；所述第二容器位于所述第一容器内部，当所述第一容器中装载所述第一液体时，所述第二容器外壁位于所述第一容器的第一液体中。据此，能够通过第二液体来清洗显影机喷嘴，超声波发生器产生的超声波能够通过第一容器、第一液体、第二容器、第二液体传递至喷嘴处，增强洗涤效果并且能够缩短洗涤时间，减少宕机时间，提高生产效率；能够避免线形缺陷的产生，提高晶片的刻蚀精度。

Description

显影机喷嘴的清洁装置

技术领域

本实用新型是有关集成电路制造设备，特别涉及一种显影机喷嘴的清洁装置。

背景技术

集成电路(integrated circuit,IC)的制造过程中，晶圆光刻工艺通常采用自动化光阻涂布及显影系统(Track)进行光阻掩膜的制程。参阅图1A所示，显影制程(DeveloperProcess)中显影机喷嘴(Nozzle)01与晶圆(wafer)02之间的间距D01只有1±0.2mm，喷嘴容易粘附显影反应物，参阅图1B所示，造成线形缺陷(line shape defect)。

现有技术中，机台本身的自清洁能力无法完全去除喷嘴处的脏污(显影反应物等)。现有技术的清洗，需要停机6小时，将喷嘴取出至专门的清洗机中进行清洗，增加了机台的宕机时间。

有鉴于现有技术存在显影机喷嘴的清洁耗时长，不方便，影响机台使用效率等技术问题，发明人针对这些缺点研究改进，提出本实用新型的显影机喷嘴的清洁装置。

实用新型内容

为了解决以上技术问题，本实用新型提供一种显影机喷嘴的清洁装置，其目的在于在满足能够不占用机台工作时间的情况下，能够快速的清洗显影机喷嘴，并且能够达到完全去除脏污(显影反应物等)的效果。

为了达到上述目的，本实用新型提供了一种显影机喷嘴的清洁装置，包括：

超声波发生器，所述超声波发生器能产生超声波；

第一容器，所述第一容器中用以装载第一液体，所述超声波发生器与所述第一容器的外壁连接；

第二容器，所述第二容器中用以装载第二液体，所述第二液体用以容置所述显影机喷嘴；

所述第二容器位于所述第一容器内部，当所述第一容器中装载所述第一液体时，所述第二容器外壁位于所述第一容器的第一液体中。

优选地，所述第一容器为敞口长方体形容器，所述超声波发生器贴设于所述第一容器的底部、或侧部；所述第二容器为敞口圆柱体容器。

优选地，所述第一液体为水。

优选地，所述第一液体为去离子水或超纯水。

优选地，所述第二液体为去离子水或超纯水或显影液。

优选地，所述第一容器设有第一供液系统，所述第一供液系统包含第一供液管路、第一控制阀，用以连接机台的第一液体源；所述第一容器还设有第一排液系统，所述第一排液系统包含第一排液管路，所述第一排液管路用以连接机台的液体回收装置；

所述第二容器设有第二供液系统，所述第二供液系统包含第二供液管路、第二控制阀，用以连接机台的第二液体源；所述第二容器还设有第二排液系统，所述第二排液系统包含第二排液管路，所述第二排液管路用以连接机台的液体回收装置。

优选地，所述超声波发生器的启动电路上连接超声波开关；

所述第二控制阀开启后，第二液体浸没所述显影机喷嘴，所述第二控制阀关闭，超声波开关接通电路用以发出超声波。

优选地，所述显影机喷嘴的清洁装置，还包括：

气体喷嘴，所述气体喷嘴与机台的氮气源连接，通过气体阀用以将氮气从所述气体喷嘴中吹出，所述气体喷嘴设置于所述第二容器处，所述气体喷嘴对准所述显影机喷嘴设置。

优选地，所述第二容器还设有第二排液系统，所述第二排液系统包含第二排液管路，所述第二排液管路用以连接机台的液体回收装置；

所述第二排液管路将第二液体从第二容器排空后，所述气体阀开启吹出氮气。

优选地，所述第一容器设置在所述显影机内，位于显影工作平台内，所述显影机喷嘴由机台运动控制装置带动至所述第二容器中。

与现有技术相比，本实用新型提供了显影机喷嘴的清洁装置，包括：超声波发生器，所述超声波发生器能产生超声波；第一容器，所述第一容器中用以装载第一液体，所述超声波发生器与所述第一容器的外壁连接；第二容器，所述第二容器中用以装载第二液体，所述第二液体用以容置所述显影机喷嘴；所述第二容器位于所述第一容器内部，当所述第一容器中装载所述第一液体时，所述第二容器外壁位于所述第一容器的第一液体中。据此，能够通过第二液体来清洗显影机喷嘴，超声波发生器产生的超声波能够通过第一容器、第一液体、第二容器、第二液体传递至喷嘴处，增强洗涤效果并且能够缩短洗涤时间，减少宕机时间，提高生产效率，并且能够避免线形缺陷的产生，提高晶片的刻蚀精度。

附图说明

图1A为现有技术的显影机喷嘴存在的容易沾染显影反应物的技术问题。

图1B为由于显影机喷嘴沾染显影反应物后造成晶圆

图2A为本实用新型的显影机喷嘴的清洁装置的第一实施例的结构示意图。

图2B为本实用新型的显影机喷嘴的清洁装置的第二实施例的结构示意图。

图2C为本实用新型的显影机喷嘴的清洁装置的第二实施例的俯视图的第一容器、第二容器、超声波发生器连接关系的结构示意图。

图3A为本实用新型的显影机喷嘴的清洁装置的第一实施例的供液系统的结构示意图。

图3B为本实用新型的显影机喷嘴的清洁装置的第二实施例的供液系统的结构示意图。

图4A为本实用新型的显影机喷嘴的清洁装置的第一实施例的供氮气系统的结构示意图。

图4B为本实用新型的显影机喷嘴的清洁装置的第二实施例的供氮气系统的结构示意图。

附图标记说明

现有技术：

01 显影机喷嘴 02 晶圆

D01 显影机喷嘴与晶圆之间距离

本实用新型：

1 超声波发生器 11 超声波

12 安装平面 2 第一容器

21 第一容器的外壁 22 第一容器的底部

23 第一容器的侧部 24 第一供液系统

25 第一供液管路 26 第一控制阀

27 第一排液系统 28 第一排液管路

3 第一液体 4 第二容器

41 第二容器外壁 42 第二供液系统

43 第二供液管路 44 第二控制阀

45 第二排液系统 46 第二排液管路

5 第二液体 6 显影机喷嘴

7 气体喷嘴 71 气体阀

8 显影机 81 显影工作平台

S1 机台的第一液体源 S2 机台的第二液体源

S3 机台的氮气源

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型一较佳实施例做详细说明。需要理解的是，本实用新型并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例，这并不影响本实用新型的实质内容。

参阅图2A和2B所示，本实用新型提供的显影机喷嘴清洁装置，包括：超声波发生器1，超声波发生器1能产生超声波11；第一容器2，第一容器2中用以装载第一液体3，超声波发生器1与第一容器2的外壁21连接；第二容器4，第二容器4中用以装载第二液体5，第二液体5用以容置显影机喷嘴6；第二容器4位于第一容器2内部，当第一容器2中装载第一液体3时，第二容器外壁41位于第一容器2中的第一液体3中。第一容器2和第二容器4可以采用架设的方法保持相对位置固定。超声波11通过第一容器2、第一液体3、第二容器4、第二液体5传递，利用超声波11在液体中的空化作用、加速作用及直进流作用对液体和污物直接、间接作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的，从而能够将显影机喷嘴6上沾染的显影反应物清洗干净。

一般地，超声波发生器1具有一个安装平面12，该安装平面12需要与另外一个平面贴合，再通过设置连接件或者胶粘等方式，将两个平面贴合到一起。

参阅图2A和2B所示，第一容器2为敞口长方体形容器。第二容器4为敞口圆柱体容器。因此，第一容器2，就具有5个可以与超声波发生器1的安装平面1贴合的平面。具体的见下面的两个实施例。

参阅图2A，本实用新型提供的显影机喷嘴清洁装置的第一实施例。超声波发生器1贴设于第一容器的底部22。

参阅图2B，本实用新型提供的显影机喷嘴清洁装置的第二实施例。超声波发生器1贴设于第一容器的侧部23。

第一液体3为水。第一液体3的主要作用是超声波11的传播。

第一液体3为去离子水(Deionized water)或超纯水(Ultrapure water)。

第二液体5为去离子水(Deionized water)或超纯水(Ultrapure water)或显影液(developer，简称DEV)。第二液体5的主要作用是清洗显影机的喷嘴。显影液(DEV)可以用来清洗显影反应物，清洗过后，再用离子水或超纯水来清洗掉显影液。

第一容器2设有第一供液系统24，第一供液系统24包含第一供液管路25、第一控制阀26，用以连接机台的第一液体源S1。第一容器2还设有第一排液系统27，第一排液系统27包含第一排液管路28，第一排液管路28用以连接机台的液体回收装置。据此，通过管路能够将机台的第一液体3输送至第一容器2内。离子水或超纯水在半导体机台上均有设置。第一液体3通常采用一种，需要设置一套第一供液系统23。

第二容器4设有第二供液系统42，第二供液系统42包含第二供液管路43、第二控制阀44，用以连接机台的第二液体源S2。第二容器4还设有第二排液系统45，第二排液系统45包含第二排液管路46，第二排液管路46用以连接机台的液体回收装置。第二液体5通常采用二种，需要设置两套第二供液系统42，第二排液系统45也需要设置两套。液体回收装置，可以根据不同的液体设置不同的废液转储容器。第二容器4中先通过显影液的第二供液系统42装入显影液，启动超声波发生器，经过一段时间后，停止超声波发生器，通过显影液的第二排液管路46将显影液排出第二容器4。再通过离子水或超纯水的第二供液系统42向第二容器4中装入显影液，再启动超声波发生器发出超声波，经过一段时间后，停止超声波发生器，通过离子水或超纯水的第二排液管路46将离子水或超纯水排出第二容器4。

超声波发生器4的启动电路上连接超声波开关；第二控制阀44开启后，第二液体5浸没显影机喷嘴6，第二控制阀44关闭，超声波开关接通电路用以发出超声波11。

显影机喷嘴的清洁装置，还包括：气体喷嘴7，气体喷嘴7与机台的氮气源S3连接，通过气体阀71用以将氮气从气体喷嘴7中吹出，气体喷嘴7设置于第二容器4处，气体喷嘴7对准显影机喷嘴6设置。据此，在离子水或超纯水清洗过后，通过向显影机喷嘴6吹出氮气，能够加速离子水或超纯水的蒸发，也可以吹除部分脏污，进一步的提高显影机喷嘴6的清洁度。

第二容器4还设有第二排液系统45，第二排液系统45包含第二排液管路46，第二排液管路46用以连接机台的液体回收装置。第二排液管路46将第二液体5从第二容器4排空后，气体阀71开启吹出氮气。据此，能够将显影机喷嘴6上的第二液体5吹干。

第一容器2设置在显影机8内，位于显影工作平台81内，显影机喷嘴6由机台运动控制装置带动至第二容器4中。

以上所述，即为本实用新型提供的显影机喷嘴的清洁装置的组成部件和连接关系。据此，在第二容器4中加入可以清洗的显影液，启动超声波发生器4产生超声波11用来清洗显影机喷嘴6，再排出显影液后加入离子水或超纯水，启动超声波发生器4产生超声波11用来清洗显影机喷嘴6，进一步的将显影液和脏污洗去，再排出离子水或超纯水后，通过气体喷嘴7向显影机喷嘴6吹出氮气，从而达到清洁显影机喷嘴6的技术效果，进而，减少因脏污而产生的线形缺陷，提高刻蚀精度。在显影机8中设置这一套清洁装置，能够充分利用机台的空闲时间，而且，能够通过机台现有的运动控制装置将显影机喷嘴6带动到第二容器4中，而不用将显影机喷嘴6取出至专门的清洗机器中进行清洗，减少了不必要的拆卸、停机时间，提高生产机器的使用效率。

以上仅为本实用新型的优选实施例，并不用于限定本实用新型。对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显影机喷嘴的清洁装置，其特征在于，包括：

超声波发生器，所述超声波发生器能产生超声波；

第一容器，所述第一容器中用以装载第一液体，所述超声波发生器与所述第一容器的外壁连接；

第二容器，所述第二容器中用以装载第二液体，所述第二液体用以容置所述显影机喷嘴；

所述第二容器位于所述第一容器内部，当所述第一容器中装载所述第一液体时，所述第二容器外壁位于所述第一容器的第一液体中。

2.如权利要求1所述显影机喷嘴的清洁装置，其特征在于，所述第一容器为敞口长方体形容器，所述超声波发生器贴设于所述第一容器的底部、或侧部；所述第二容器为敞口圆柱体容器。

3.如权利要求1所述显影机喷嘴的清洁装置，其特征在于，所述第一液体为水。

4.如权利要求3所述显影机喷嘴的清洁装置，其特征在于，所述第一液体为去离子水或超纯水。

5.如权利要求1所述显影机喷嘴的清洁装置，其特征在于，所述第二液体为去离子水或超纯水或显影液。

6.如权利要求1所述显影机喷嘴的清洁装置，其特征在于，

所述第一容器设有第一供液系统，所述第一供液系统包含第一供液管路、第一控制阀，用以连接机台的第一液体源；所述第一容器还设有第一排液系统，所述第一排液系统包含第一排液管路，所述第一排液管路用以连接机台的液体回收装置；

所述第二容器设有第二供液系统，所述第二供液系统包含第二供液管路、第二控制阀，用以连接机台的第二液体源；所述第二容器还设有第二排液系统，所述第二排液系统包含第二排液管路，所述第二排液管路用以连接机台的液体回收装置。

7.如权利要求6所述显影机喷嘴的清洁装置，其特征在于，所述超声波发生器的启动电路上连接超声波开关；

所述第二控制阀开启后，第二液体浸没所述显影机喷嘴，所述第二控制阀关闭，超声波开关接通电路用以发出超声波。

8.如权利要求1所述显影机喷嘴的清洁装置，其特征在于，还包括：

气体喷嘴，所述气体喷嘴与机台的氮气源连接，通过气体阀用以将氮气从所述气体喷嘴中吹出，所述气体喷嘴设置于所述第二容器处，所述气体喷嘴对准所述显影机喷嘴设置。

9.如权利要求8所述显影机喷嘴的清洁装置，其特征在于，所述第二容器还设有第二排液系统，所述第二排液系统包含第二排液管路，所述第二排液管路用以连接机台的液体回收装置；

所述第二排液管路将第二液体从第二容器排空后，所述气体阀开启吹出氮气。

10.如权利要求1至9其中之一所述显影机喷嘴的清洁装置，其特征在于，所述第一容器设置在所述显影机内，位于显影工作平台内，所述显影机喷嘴由机台运动控制装置带动至所述第二容器中。

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