CN211959517U - 振膜及发声器件 - Google Patents

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赵彬
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Abstract

本实用新型公开一种振膜,其包括振动部和由振动部延伸并环绕振动部设置的折环部,折环部包括折环上表面和与折环上表面相对的折环下表面;振膜还包括由折环上表面凸出或凹陷形成的上图形模部以及由折环下表面凸出或凹陷形成的下图形模部,上图形模部和下图形模部正对设置,且上图形模部和下图形模部结构相同。与相关技术相比,本实用新型的振膜及发声器件稳定性好且声学性能更优。

Description

振膜及发声器件
技术领域
本实用新型涉及电声转换领域,尤其涉及一种振膜和运用该振膜的发声器件。
背景技术
在移动电话等便携设备快速发展的过程中,人们对产品的功能性要求越来越强,对于移动电话等电子设备的音乐欣赏这一功能,为了使娱乐效果更强,出现了音乐带振动的模式,由此,发声器件的发展也相应加快。
相关技术的发声器件包括盆架、支撑于所述盆架的振膜和驱动所述振膜振动的音圈。所述振膜包括振动部和由所述振动部延伸并环绕所述振动部设置的折环部。
然而,相关技术的发声器件中,所述折环部的横截面呈弧形结构且折环部的上表面和下表面均为光滑面结构,该结构使得所述振膜的声学性能无法进一步提升,振膜振动时可能产生摇摆,进而导致杂音甚至失真,造成所述发声器件的声学性能受限。
因此,有必要提供一种新的振膜及发声器件解决上述技术问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是克服上述技术问题,提供一种稳定性好且声学性能更优的振膜及发声器件。
为了达到上述目的,本实用新型提供一种振膜,其包括振动部和由所述振动部延伸并环绕所述振动部设置的折环部,所述折环部包括折环上表面和与所述折环上表面相对的折环下表面;所述振膜还包括由所述折环上表面凸出或凹陷形成的上图形模部以及由所述折环下表面凸出或凹陷形成的下图形模部,所述上图形模部和所述下图形模部正对设置,且所述上图形模部和所述下图形模部结构相同。优选的,所述折环部呈带圆角的矩形环状结构,所述上图形模部包括四个且分别位于所述折环部的四个圆角位置;所述下图形模部包括四个且分别位于所述折环部的四个圆角的位置。
优选的,所述上图形模部由所述折环上表面向远离所述折环下表面方向凸出形成;所述下图形模部由所述折环下表面向远离所述折环上表面方向凸出形成。
优选的,所述上图形模部由所述折环上表面向所述折环下表面方向凹陷形成;所述下图形模部由所述折环下表面向所述折环上表面方向凹陷形成。
优选的,所述折环部呈具有圆角的矩形环状结构,所述上图形模部和所述下图形模部均位于所述折环部的圆角位置。
优选的,所述上图形模部包括沿所述折环部的环绕方向间隔设置的多个上特征图形,所述下图形模部包括沿所述折环部的环绕方向间隔设置的多个下特征图形,所述上特征图形和所述下特征图形均呈条形结构且横跨所述折环部。
优选的,所述上特征图形与所述下特征图形一一正对设置,且所述上特征图形与所述下特征图形关于所述折环部呈对称结构。
优选的,所述振膜为硅胶、橡胶、PEEK、TPU中的任意一种材料或多种复合材料制成。
优选的,所述振膜为一体成型结构。
本实用新型提供一种发声器件,包括盆架、固定支撑于所述盆架的振膜和驱动所述振膜振动的音圈,所述振膜为本实用新型所述的振膜。
与现有技术相比,本实用新型提供的振膜在其折环部的折环上表面设置凸出或凹陷形成的上图形模部以及在所述折环下表面设置凸出或凹陷形成的下图形模部,所述上图形模部和所述下图形模部正对设置,且所述上图形模部和所述下图形模部结构相同。该结构使得折环部的折环上表面和折环下表面形成相同类型的图形结构,能够按需针对性的调整提高振膜的结构强度,改善振膜上下振动时R角处容易打折的问题,当该振膜运用于发声器件中时,有效提高了振膜振动的平衡性及稳定性,改善了发声器件的纯音、失真及摇摆,使得发声器件的声学性能更优。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:
图1为本实用新型的振膜实施例一的结构示意图;
图2为本实用新型的振膜实施例一另一角度的结构示意图;
图3为本实用新型的振膜实施例一的截面示意图;
图4为图3中A所示部分的放大图;
图5为本实用新型的振膜实施例二的结构示意图;
图6为本实用新型的振膜实施例二另一角度的结构示意图;
图7为本实用新型的振膜实施例二的截面示意图;
图8为图7中B所示部分的放大图;
图9为本实用新型的发声器件的部分结构分解示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-2,本实用新型提供一种振膜10,其包括振动部1和由所述振动部1延伸并环绕所述振动部1设置的折环部2。
所述振动部1用于振动发声,所述折环部2用于为所述振动部1 振动时提供弹性支撑力以实现振动部1所需的振幅。
所述折环部2包括折环上表面21和与所述折环上表面21相对的折环下表面22。
为了调节改善振膜10的纯音、失真、稳定性、振动平衡性等声学性能,本实施方式中,所述振膜10还包括由所述折环上表面21凸出或凹陷形成的上图形模部23以及由所述折环下表面22凸出或凹陷形成的下图形模部24。所述上图形模部23和所述下图形模部24正对设置,且所述上图形模部23和所述下图形模部24结构相同。具体的,当所述上图形模部23为凸楞结构时,则所述下图形模部24为凸楞结构,此时,所述上图形模部23的凸出方向和所述下图形模部24 的凸出方向相反;当所述上图形模部23为凹槽结构时,则所述下图形模部24为凹槽结构,此时,所述上图形模部23的凹陷方向和所述下图形模部24的凹陷方向相对。
具体的,所述折环部2呈带圆角的矩形环状结构,所述上图形模部23和所述下图形模部24均位于所述折环部的圆角位置。
值得一提的是,所述上图形模部23和所述下图形模部24具体的数量及具体设置的位置是不限的,其可以根据实际设计的需要进行具体的设置,比如,在本实施方式中,所述上图形模部23包括四个且分别位于所述折环部2的四个圆角位置;所述下图形模部24包括四个且分别位于所述折环部2的四个圆角的位置。该结构位置的设置,提升了振膜10圆角(R角)处结构强度,有效改善了振膜10上下振动时圆角(R角)处容易打折的问题,从而进一步改善振动平衡性及稳定性,改善振膜10的纯音、失真及摇摆性能。
本实施方式中,所述上图形模部23和所述下图形模部24结构相同,比如:
所述上图形模部23包括沿所述折环部2的环绕方向间隔设置的多个上特征图形231,所述上特征图形231呈条形结构且横跨所述折环部2。
所述下图形模部24包括沿所述折环部2的环绕方向间隔设置的多个下特征图形241,所述下特征图形241呈条形结构且横跨所述折环部2。
值得一提的是,所述上特征图形231与所述下特征图形241一一正对设置,且所述上特征图形231与所述下特征图形241关于所述折环部2呈对称结构,使得振膜10上下振动时圆角(R角)处的受力更加均匀地分布,有利提高圆角的整体刚度,更有效地避免圆角(R角)处打折的现象,从而更进一步改善振动平衡性及稳定性。
当然,上图形模部23和下图形模部24的具体形状结构仅为一种举例,但并不限于上述举例,只要满足上图形模部23和所述下图形模部24结构相同即实现本实用新型的目的。
上述结构不会过多改变振膜10的整体重量,对其谐振频率F0、声压级SPL等性能无明显影响。而振膜10的上述双面设计使得折环部2的折环上表面21和折环下表面22形成类型相同但朝向不同的图形结构,设计方式灵活多样,能够按需针对性的调整提高振膜的结构强度,有效改善振膜10上下振动时R角处容易打折的问题,有效提高了振膜10振动的平衡性及稳定性,改善了其纯音、失真及摇摆问题,声学性能更优。
本实施方式中,所述振膜10为硅胶、橡胶、PEEK、TPU中的任意一种材料或多种复合材料制成。更优的,所述振膜10为一体成型结构。
本实用新型中,上图形模部23和下图形模部24的形成提供包括但不限于如下两种实施方式:
实施方式一
如图1,为振膜10的正面,其与折环上表面21对应。上图形模部23由折环上表面21向远离折环下表面22方向凸出形成,即上图形模部23呈横跨折环部2的凸楞结构。
如图2,为振膜10的背面,其与折环下表面22对应。下图形模部24由折环下表面22向远离折环上表面21方向凸出形成,即下图形模部24呈横跨折环部2的凸楞结构。
如图3-4所示,位于折环部2同一圆角的位置的多个上特征图形 231分别和多个下特征图形241一一正对设置,且相互正对设置的所述上特征图形231与所述下特征图形241关于折环部呈对称结构。
实施方式二
如图5,为振膜210的正面,其与折环上表面221对应。上图形模部223由折环上表面221向折环下表面221方向凹陷形成,即上图形模部223呈横跨折环部(图未标)的槽状结构。
如图6,为振膜210的背面,其与折环下表面222对应。下图形模部224由折环下表面222向折环上表面221方向凹陷形成,即下图形模部224呈横跨折环部的槽状结构。
如图7-8所示,位于折环部同一圆角的位置的多个上特征图形 2231分别和多个下特征图形2241一一正对设置,且相互正对设置的所述上特征图形2231与所述下特征图形2241关于折环部呈对称结构。
请结合参阅图9,本实用新型提供一种发声器件100,所述发声器件100包括上述振膜10。
具体的,所述发声器件100包括盆架20、固定支撑于所述盆架 20的所述振膜10、驱动所述振膜10振动发声的音圈30和固定于所述盆架20的磁路系统40。
所述盆架20用于固定支撑所述振膜10和所述磁路系统40。
所述音圈30固定于所述振膜10,所述音圈30通电产生电场与所述磁路系统40产生磁场共同作用形成电磁场,从而使所述音圈30 上下反复运动,进而通过所述音圈30驱动所述振膜10振动发声。
与现有技术相比,本实用新型提供的振膜在其折环部的折环上表面设置凸出或凹陷形成的上图形模部以及在所述折环下表面设置凸出或凹陷形成的下图形模部,所述上图形模部和所述下图形模部正对设置,且所述上图形模部和所述下图形模部结构相同。该结构使得折环部的折环上表面和折环下表面形成相同类型的图形结构,能够有效地提高振膜的结构强度,改善振膜上下振动时R角处容易打折的问题,当该振膜运用于发声器件中时,有效提高了振膜振动的平衡性及稳定性,改善了发声器件的纯音、失真及摇摆,使得发声器件的声学性能更优。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (9)

1.一种振膜,其包括振动部和由所述振动部延伸并环绕所述振动部设置的折环部,所述折环部包括折环上表面和与所述折环上表面相对的折环下表面,其特征在于,所述振膜还包括由所述折环上表面凸出或凹陷形成的上图形模部以及由所述折环下表面凸出或凹陷形成的下图形模部,所述上图形模部和所述下图形模部正对设置,且所述上图形模部和所述下图形模部结构相同。
2.根据权利要求1所述的振膜,其特征在于,所述上图形模部由所述折环上表面向远离所述折环下表面方向凸出形成;所述下图形模部由所述折环下表面向远离所述折环上表面方向凸出形成。
3.根据权利要求1所述的振膜,其特征在于,所述上图形模部由所述折环上表面向所述折环下表面方向凹陷形成;所述下图形模部由所述折环下表面向所述折环上表面方向凹陷形成。
4.根据权利要求2-3任意一项所述的振膜,其特征在于,所述折环部呈具有圆角的矩形环状结构,所述上图形模部和所述下图形模部均位于所述折环部的圆角位置。
5.根据权利要求4所述的振膜,其特征在于,所述上图形模部包括沿所述折环部的环绕方向间隔设置的多个上特征图形,所述下图形模部包括沿所述折环部的环绕方向间隔设置的多个下特征图形,所述上特征图形和所述下特征图形均呈条形结构且横跨所述折环部。
6.根据权利要求5所述的振膜,其特征在于,所述上特征图形与所述下特征图形一一正对设置,且所述上特征图形与所述下特征图形关于所述折环部呈对称结构。
7.根据权利要求5所述的振膜,其特征在于,所述振膜为硅胶、橡胶、PEEK、TPU中的任意一种材料。
8.根据权利要求5所述的振膜,其特征在于,所述振膜为一体成型结构。
9.一种发声器件,包括盆架、固定支撑于所述盆架的振膜和驱动所述振膜振动的音圈,其特征在于,所述振膜为权利要求1~8任意一项所述的振膜。
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