CN211955214U - 一种散射法比浊测量装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种散射法比浊测量装置，包括光源、光束整形组件、反应池、散射信号采集器以及阀基座；反应池设置在光束整形组件后的光路上，入射至反应池的光线经过反应池时形成直射的透射光及散射的散射光；阀基座设置在透射光的光路上，阀基座为安装有用于控制液体管路的阀的基座，液体管路与反应池连通以用于向反应池输送液体，阀基座用于将透射光反射出散射法比浊测量装置，透射光反射出散射法比浊测量装置的方向偏离光源发出的光线以及散射光的方向。本实用新型采用阀基座来将透射光反射出散射法比浊测量装置，在不增加反射体的基础上消除了透射光因反射回光源而对光源出射光功率稳定性造成的影响，提高检测精度。

Description

一种散射法比浊测量装置

技术领域

本实用新型涉及浊度测量装置，具体涉及一种散射法比浊测量装置。

背景技术

众所周知，用炎症的标示物来观察人体内发炎的迹象以及程度和进程，已知的标示物有白细胞的数目，红细胞沉降速率，急性期蛋白等。C反应蛋白(CRP) 就是这样一类急性期蛋白，它的浓度在受不同种刺激，如细菌感染，发炎，手术等后会快速增加，因此在临床上具有重要的指导意义。

普通C反应蛋白试剂盒检测范围一般在3-200mg/L，最低检测限一般在3-5 mg/L，灵敏度较低。在儿科干扰性疾病中，由于普通新生儿C反应蛋白含量较低，常规检测反应不出微小的变化；在心血管疾病诊断方面，CRP<1mg/L为低危险性， 1-3mg/L为中度危险性，>3mg/L为高危险性；因此，临床迫切需要检测线更低、检测精度更高的CRP浓度检测方法。近年来，逐步出现超敏C反应蛋白的概念，超敏因其高灵敏度、能检测出较低的C反应蛋白含量，大大迎合了临床的迫切需求。

常见的CRP检测方法均基于血清样本的乳胶比浊法，存在样本前处理以及相应的分析时间长的问题，因此在全血CRP检测应运而生。全血CRP也是基于乳胶散射法，样本溶血后，里面的抗原遇到吸附有抗体的胶乳颗粒时，抗原抗体结合而出现胶乳凝集。单个胶乳颗粒的大小在入射光波长之内，光线可透过。当两个以上胶乳颗粒凝集时，可阻碍光线透过，使透射光减少，同时散射光增加,其变化程度与胶乳凝集的程度成正比，亦与抗原量成正比，通过测量吸光度或者散射光可以得到抗原的量。

目前市面上采用乳胶比浊法的CRP测量系统主要缺陷如下：(1)没有识别到经准直透镜、反应池及其他组件对透射光的反射进而造成反射光进入激光器触发激光器外场干涉效应，从而导致激光器输出功率及输出波长不稳定，从而影响测量精度，不能够对超敏区间进行精确的测量。(2)对于透射光的反射吸收处理引入额外的结构或器件，增加了制造成本。

实用新型内容

本申请内容旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，在本申请提供一种散射法比浊测量装置，所述散射法比浊测量装置包括光源、光束整形组件、反应池、散射信号采集器以及阀基座；

所述光源用于发出光线；

所述光束整形组件设置于所述光源发出光线的光路中，用于调整所述光源发出的光线，并将调整后的光线入射至所述反应池；

所述反应池设置在所述光束整形组件后的光路上，当所述反应池中收容有待测物时，所述入射至所述反应池的光线经过所述反应池时形成直射的透射光及散射的散射光；

所述散射信号采集器在所述散射光的光路上，用于接收所述散射光以及检测所述散射光信号；

所述阀基座设置在所述透射光的光路上，所述阀基座为安装有用于控制液体管路的阀的基座，所述液体管路与所述反应池连通以用于向所述反应池输送液体，所述阀基座用于将所述透射光反射出所述散射法比浊测量装置，所述透射光反射出所述散射法比浊测量装置的方向偏离所述光源发出的光线以及所述散射光的方向。

在进一步的实施例中，所述阀基座包括至少一个基座表面，所述反应池出射的透射光发射至所述基座表面，自所述反应池出射的透射光发射到所述基座表面的入射角不等于90度。

在进一步的实施例中，所述散射法比浊测量装置外还设有用于对其进行保温的保温层结构，且至少部分所述保温层结构设置在所述阀基座反射出的透射光的光路上，用于吸收被所述阀基座反射出的透射光。

在进一步的实施例中，所述保温层结构为具有多孔结构的保温棉。

在进一步的实施例中，所述反应池包括第一侧壁，自所述光束整形组件出射的光线发射至所述第一侧壁，并从所述第一侧壁入射至所述反应池，且自所述光束整形组件出射的光线发射到所述第一侧壁的入射角不等于90度。

在进一步的实施例中，所述光束整形组件包括准直透镜，所述准直透镜包括靠近所述光源的第一表面，所述第一表面为向所述光源方向凸出的曲面结构。

在进一步的实施例中，所述第一表面设置有减反膜。

在进一步的实施例中，所述光源发出的光线的中心光线入射至所述准直透镜的第一表面的入射角不等于90°。

在进一步的实施例中，所述光束整形组件还包括光斑限制光阑，所述光斑限制光阑设置在所述准直透镜与所述反应池之间，所述光斑限制光阑用于控制照射到所述反应池的光斑大小。

在进一步的实施例中，所述光斑限制光阑的通光孔径为1.5-3.2mm。

在进一步的实施例中，所述光斑限制光阑在光轴方向上的长度大于5mm。

在进一步的实施例中，所述光束整形组件还包括小孔光阑，所述小孔光阑设置在所述光源和所述准直透镜之间，所述小孔光阑用于限制入射到所述准直透镜的光束大小。

在进一步的实施例中，所述散射法比浊测量装置还包括相干光处理器件，所述相干光处理器件设置在反射光反射回所述光源的光路中，所述相干光处理器件用于将反射回所述光源的反射光进行光相位调制。

在进一步的实施例中，所述相干光处理器件设置在所述光源和所述光束整形组件之间。

在进一步的实施例中，所述相干光处理器件包括光隔离器、扩散片、毛玻璃中的至少一种。

在进一步的实施例中，所述散射法比浊测量装置还包括相干光处理器件，所述相干光处理器件设置在所述光源和所述光束整形组件之间，所述相干光处理器件用于对所述光源发出的光线进行光相位调制。本实用新型的有益效果：本实用新型提供的散射法比浊测量装置采用阀基座来将透射光反射出散射法比浊测量装置，无需额外增加反射体部件，在不增加成本的基础上消除了透射光T因反射回光源而对光源出射光功率稳定性造成的影响，提高检测精度。

本实用新型还提供另一种散射法比浊测量装置，所述散射法比浊测量装置包括光源、光束整形组件、反应池、散射信号采集器、反射体以及保温层结构；

所述光源用于发出光线；

所述光束整形组件设置于所述光源发出光线的光路中，用于调整所述光源发出的光线，并将调整后的光线入射至所述反应池；

所述反应池设置在所述光束整形组件后的光路上，当所述反应池中收容有待测物时，所述入射至所述反应池的光线经过所述反应池时形成直射的透射光及散射的散射光；

所述散射信号采集器设置在所述散射光的光路上，用于接收所述散射光以及检测所述散射光信号；

所述反射体设置在所述透射光的光路上，用于将所述透射光反射出所述散射法比浊测量装置，所述透射光反射出所述散射法比浊测量装置的方向偏离所述光源发出的光线以及所述散射光的方向；

所述保温层结构包围所述散射法比浊测量装置，用于对所述散射法比浊测量装置进行保温，且至少部分所述保温层结构设置在所述反射体反射出的透射光的光路上，用于吸收被所述反射体反射出的透射光。

本实用新型的有益效果：将对散射法比浊测量装置保温的保温层结构用于吸收被反射体反射出的透射光，无需额外增加透射光吸收部件，在不增加成本的基础上达到吸收透射光的效果，减少透射光因反射回光源而对光源出射光功率稳定性造成的影响，提高检测精度。

附图说明

图1为本实用新型第一实施例提供的一种散射法比浊测量组装置的框图的俯视图。

图2为本实用新型第一实施例提供的一种散射法比浊测量组装置的框图的正视图。

图3为本实用新型第一实施例提供的一种散射法比浊测量组装置的结构图的正视图。

图4为本实用新型第一实施例提供的一种散射法比浊测量组装置的结构图的俯视图。

图5为本实用新型第一实施例提供的一种散射法比浊测量组装置中的反应池部分的示意图。

图6为本实用新型第一实施例提供的一种散射法比浊测量组装置中的第一种准直透镜部分的示意图。

图7为本实用新型第一实施例提供的一种散射法比浊测量组装置中的第二种准直透镜部分的示意图。

图8为本实用新型第一实施例提供的一种散射法比浊测量组装置中的第三种准直透镜部分的示意图。

图9为本实用新型第一实施例提供的一种散射法比浊测量组装置中的第四种准直透镜部分的示意图。

图10为本实用新型第二实施例提供的一种散射法比浊测量组装置的框图的正视图。

图11为本实用新型第三实施例提供的一种散射法比浊测量组装置的框图的正视图。

具体实施方式

以下所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

请参阅图1和图4，本实用新型第一实施例提供一种散射法比浊测量装置10，散射法比浊测量装置10包括光源100、光束整形组件200、反应池300、散射信号采集器400以及阀基座500。

其中，光源100用于发出光线。本申请中，光源100优选采用半导体激光器，且发出的光线的波长在600-700nm之间。

光束整形组件200设置于光源100发出光线的光路中，用于调整光源100发出的光线，并将调整后的光线入射至反应池300。光束整形组件200可包括一个或者多个光学部件组合，根据实际情况选择合适的光学部件对光源100发出的光线进行调整。

反应池300设置在光束整形组件200后的光路上，当反应池300中收容有待测物时，入射至反应池300的光线经过反应池300时形成直射的透射光T及散射的散射光S。

散射信号采集器400在散射光S的光路上，用于接收散射光S以及检测散射光信号。散射信号采集器400还可将检测到的散射光信号传输给处理器进行运算以获得与所述散射光信号相对应的待测物的浊度。或者散射信号采集器400本身带有处理器，当检测得到散射光信号后，其本身带有的处理器经过运算得到与散射光信号相对应的待测物的浊度。

阀基座500设置在透射光T的光路上，阀基座500为安装有用于控制液体管路 600的阀的基座(如图3所示)，液体管路600与反应池300连通以用于向反应池300 输送液体。

具体的，控制液体管路600的阀可以控制液体管路600与反应池300的连通或者关闭，当散射法比浊测量装置10用于检测待测物的浊度时，需要将待测物输送进入反应池300中，此时将控制液体管路600的阀打开，所述待测物通过液体管路 600进入反应池300中。

其中所述液体管路600可以包括多条子管路，当某些待测物需要与其他液体试剂混合后才能用于检测时，液体管路600中的其中一条子管路用于输送待测物至反应池300，另外一条子管路用于输送液体试剂至反应池300，此时所述控制液体管路600的阀用于控制上述两条子管路的开关。阀基座500一方面为安装用于控制液体管路600的阀的基座，另一方面可将控制液体管路600的阀固定在散射法比浊测量装置10中。

阀基座500用于将透射光T反射出散射法比浊测量装置10，透射光T反射出散射法比浊测量装置10的方向偏离光源100发出的光线以及散射光S的方向。

当透射光T反射回光源100后，例如反射回半导体激光器后，触发半导体激光器外场干涉效应，从而导致半导体激光器输出功率及输出波长不稳定，从而影响测量精度，不能够对超敏区间进行精确的测量。当透射光T反射的光线与散射光S 的方向相同或者相交叉，会干扰散射光信号，同样会影响测量精度。

本申请中，一方面，通过阀基座500将透射光T反射出散射法比浊测量装置10，且透射光T反射出散射法比浊测量装置10的方向偏离光源100发出的光线以及散射光S的方向，可以避免透射光T被反射后干扰光源100或者散射光信号，提高检测精度。另一方面，本申请是采用阀基座500来作为透射光T的反射体，无需额外增加反射体部件，在不增加成本的基础上消除了透射光T因反射回光源100而对光源100出射光功率稳定性造成的影响。

本实用新型提供的散射法比浊测量装置10采用阀基座500来将透射光T反射出散射法比浊测量装置10，无需额外增加反射体部件，在不增加成本的基础上消除了透射光T因反射回光源100而对光源100出射光功率稳定性造成的影响，提高检测精度。

在一些实施例中，当散射法比浊测量装置10整体是集成安装在基座架11上时 (如图2和图3所示)，在所述反应池300和所述阀基座500之间的基座架部分开设有透射通道N1，以使自反应池300出射的透射光T能够自透射通道N1入射到阀基座 500上。在所述反应池300和所述散射信号采集器400之间的基座架部分开设有散射通道N2，以使自反应池300出射的散射光S能够自散射通道N2入射到散射信号采集器400中。透射通道N1和散射通道N2可有效隔离开透射光及其他杂光被散射信号采集器400采集从而影响散射光信号质量。其中，透射通道N1和散射通道N2的具体位置关系不限，只要满足两者分隔设置即可。在本实施例中，如图2和图3所示，散射通道N2设置在透射通道N1的下方，在图2和图3中，第三方向C为散射法比浊测量装置10的高度方向。

在进一步的实施例中，阀基座500包括至少一个基座表面510(如图1所示)，反应池300出射的透射光T发射至基座表面510，自反应池300出射的透射光T发射到基座表面510的入射角不等于90度。

也就是说，通过基座表面510将透射光T反射出散射法比浊测量装置10。如果自反应池300出射的透射光T发射到基座表面510的入射角等于90度，那么透射光T 被基座表面510反射返回反应池300中，进而可反射回光源100中而影响光源出射光功率稳定性。本申请中，将阀基座500的基座表面510调偏，使得自反应池300 出射的透射光T发射到基座表面510的入射角不等于90度，进而使得透射光T不能返回至反应池300中，从而降低反射光对光源出射光功率稳定性的影响。其中将阀基座500的基座表面510调偏的方式包括将整个阀基座500调偏，或者将阀基座 500的基座表面510偏离设置，而使得自反应池300出射的透射光T发射到基座表面 510的入射角不等于90度。

在本实施例中，将阀基座500的基座表面510与第一方向A、第二方向B均呈夹角设置(如图1所示)，所述夹角不等于90°，基座表面510与第三方向C平行设置(如图2所示)，使得自反应池300出射的透射光T发射到基座表面510的入射角不等于90度，其中，自反应池300出射的光线为沿第一方向A，第一方向A也是散射法比浊测量装置10的长度方向，也是图1中的左右方向。第二方向B与第一方向 A垂直，第二方向B为散射法比浊测量装置10的宽度方向。第三方向C分别与第一方向A和第二方向B垂直，当散射法比浊测量装置10正常使用时，第三方向C是散射法比浊测量装置10的高度方向，也是图2中的上下方向。

在其他实施例中，阀基座500的基座表面510与第一方向A、第三方向C均呈夹角设置(如图10所示)，所述夹角不等于90°，基座表面510与第二方向B平行设置，而使得自反应池300出射的透射光T发射到基座表面510的入射角不等于90度。

在进一步的实施例中，散射法比浊测量装置10外还设有用于对其进行保温的保温层结构700，且至少部分保温层结构700设置在阀基座500反射出的透射光T的光路上，用于吸收被阀基座500反射出的透射光T。将对散射法比浊测量装置10保温的保温层结构700用于吸收被阀基座500反射出的透射光T，无需额外增加透射光吸收部件，在不增加成本的基础上达到吸收透射光T的效果。在本实施例中，阀基座500将透射光T反射至散射法比浊测量装置10宽度方向上(第二方向B)的部分保温层结构700上。在其他实施例中，阀基座500还可以将透射光T反射至散射法比浊测量装置10上下方向或者其他方向的部分保温层结构700上。

在进一步的实施例中，保温层结构700为具有多孔结构的保温棉。多孔结构的保温棉一方面具有较好的保温效果，另一方面具有较好的光吸收率。

请参阅图5，在进一步的实施例中，反应池300包括第一侧壁310，自光束整形组件200出射的光线发射至第一侧壁310，并从第一侧壁310入射至反应池300，且自光束整形组件200出射的光线发射到第一侧壁310的入射角不等于90度。

如果自光束整形组件200出射的光线发射到第一侧壁310的入射角等于90度，那么光线被第一侧壁310反射原路返回自光束整形组件200中，进而可反射回光源 100中而影响光源出射光功率稳定性。本申请中，将第一侧壁310调偏设置，使得自光束整形组件200出射的光线发射到第一侧壁310的入射角不等于90度，进而使得光线不能返回至光束整形组件200中，从而降低反射光对光源出射光功率稳定性的影响。

在本实施例中，将所述反应池300的第一侧壁310与第一方向A呈夹角设置，所述夹角不等于90度，而使自光束整形组件200出射的光线发射到第一侧壁310的入射角不等于90度。优选的，第一侧壁310与第二方向B的夹角α为7°(如图5所示)。

在其他实施例中，将所述反应池300的第一侧壁310与第三方向C呈夹角设置，所述夹角不等于90度，而使自光束整形组件200出射的光线发射到第一侧壁310的入射角不等于90度。

请参阅图2、图3和图6，在进一步的实施例中，光束整形组件200包括准直透镜210，准直透镜210包括靠近光源100的第一表面211，第一表面211为向光源100 方向凸出的曲面结构。入射至具有凸出的曲面结构的第一表面211的光线至少部分不会返回至光源100，可以有效减少经准直透镜210反射回光源的反射光对光源稳定输出造成影响。

在进一步的实施例中，第一表面211设置有减反膜212。减反膜212可以减少入射至第一表面211的光线的反射，增加透射第一表面211的透射光，进而减少经准直透镜210反射回光源的反射光。优选的采用能够使得第一表面211的反射率小于5‰的减反膜，有效防止经准直透镜210反射回光源100的反射光对光源100稳定输出造成影响。

在进一步的实施例中，准直透镜210还包括与第一表面211背向设置的第二表面213。所述第二表面213设置有减反膜212，进一步增加透射准直透镜210的透射光，减少经准直透镜210反射回光源的反射光。其中第二表面213可为平面或者背离第一表面211方向凸出的曲面结构。

请参阅图7至图9，在进一步的实施例中，光源100发出的光线的中心光线L入射至准直透镜210的第一表面211的入射角不等于90°。

其中，光源100发出的光线一般是光线中间位置的光线强度大于光线周围的光线强度，所述中心光线L是指光强大于预设值的中间位置的光线。当中心光线L 入射至准直透镜210的第一表面211的入射角等于90°时，该具有较强光强的中心光线L会被反射回光源100，会对光源出射光造成较大的影响。本申请中，将中心光线L入射至准直透镜210的第一表面211的入射角不等于90°，可以避免具有较强光强的中心光线L被第一表面211反射回光源100(如图7至图9所示)，进而可以降低反射光对光源100出射光的干扰影响。

具体的，可将准直透镜210的轴线214沿第三方向C偏离中心光线L设置(如图 7所示)，或者将准直透镜210的轴线214沿第三方向C相反的方向偏离中心光线L 设置(如图8所示)，而使中心光线L入射至准直透镜210的第一表面211的入射角不等于90°。其中第三方向C与第一方向A和第二方向B分别垂直，当散射法比浊测量装置10正常使用时，第三方向C为散射法比浊测量装置10高度方向。还可以将准直透镜210的轴线214与中心光线L交叉设置(如图9所示)，而使中心光线L 入射至准直透镜210的第一表面211的入射角不等于90°。

请再次参阅图1至图4，在进一步的实施例中，光束整形组件200还包括光斑限制光阑220，光斑限制光阑220设置在准直透镜210与反应池300之间，光斑限制光阑220用于控制照射到反应池300的光斑大小。优选的，光斑限制光阑220的通光孔径为1.5-3.2mm。更优选的，光斑限制光阑220的通光孔径为2mm。在进一步的实施例中，为有效防止光斑限制光阑220的孔径衍射效应，光斑限制光阑220在光轴方向上的长度大于5mm。

在进一步的实施例中，光束整形组件200还包括小孔光阑230，小孔光阑230 设置在光源100和准直透镜210之间，小孔光阑230用于限制入射到准直透镜210的光束大小。具体的小孔光阑230的大小根据实际情况来选择。

本申请第一实施例的散射法比浊测量装置10的光线路径为：光源100发出的光束经小孔光阑230限制成为一个点光源，后经准直透镜210准直成平行光束，平行光束经光斑限制光阑220限制光斑出射尺寸大小后透过反应池300，光线经过反应池300时形成直射的透射光T及散射的散射光S，透射光T经过透射通道N1到达阀基座500，被阀基座500反射后被保温层结构700吸收，散射光S经散射通道N2到达散射信号采集器400。当反应池300中的待测物为CRP抗原和吸附有抗体的胶乳颗粒时，溶液中抗原抗体结合复合物越多，散射光S越强，以此来对应待测抗原的含量。采用本申请的散射法比浊测量装置10测量CRP抗原的含量，获得较好的吸光度线性，经测试对CRP抗原含量的检测范围在0.2-320mg/L，完全具备超敏及高值的检测能力。本申请中的散射法比浊测量装置10同样对其他待测物具有较高的检测精度。

请参阅图10，为本实用新型第二实施例提供的一种散射法比浊测量装置10a 的示意图，与第一实施例相比，散射法比浊测量装置10a还包括相干光处理器件 800，相干光处理器件800设置在反射光反射回光源100的光路中，相干光处理器件800用于将反射回光源100的反射光进行光相位调制。相干光处理器件800对散射法比浊测量装置10产生的反射光进行相位调制，发生一定的相位变化的反射光与光源100发出的光的具有相位偏差，从而可避免与光源100发射的光发生干涉振荡，而影响光源输出功率，提高检测光源输出功率稳定性，从而保证检测过程具有稳定的测量曲线，达到临床要求的高精准度测量要求。

其中，所述相干光处理器件800可设置散射法比浊测量装置10中光反射率较高的器件前，以用于将反射回光源100的反射光进行光相位调制。可以设置在光源100和光束整形组件200之间(如图10所示)，或者设置在光束整形组件200中的光学部件之间，或者设置在反应池300与光束整形组件200之间，或者透射光路和散射光路中能产生反射回光源100的反射光的器件之前。

在进一步的实施例中，相干光处理器件800包括光隔离器、扩散片、毛玻璃中的至少一种。

在其他实施例中，相干光处理器件800设置在光源100和光束整形组件200之间，相干光处理器件200用于对光源100发出的光线进行光相位调制。使光源100 发出的光线与反射回光源100的反射光具有相位偏差，从而可避免光源100发射的光与反射光发生干涉振荡，影响光源输出功率，提高检测光源输出功率稳定性，从而保证检测过程具有稳定的测量曲线，达到临床要求的高精准度测量要求。

在本实施例中，阀基座500的基座表面510与第一方向A、第三方向C均呈夹角设置，所述夹角不等于90°，基座表面510与第二方向B平行设置，而使得自反应池300出射的透射光T发射到基座表面510的入射角不等于90度。并且将透射光T反射至散射法比浊测量装置10上方的部分保温层结构700上。

请参阅图11，为本实用新型第三实施例提供的一种散射法比浊测量装置10b 的示意图，散射法比浊测量装置10b包括光源100、光束整形组件200、反应池300、散射信号采集器400、反射体900以及保温层结构700。

光源100用于发出光线。

光束整形组件200设置于光源100发出光线的光路中，用于调整光源100发出的光线，并将调整后的光线入射至反应池300。

反应池300设置在光束整形组件200后的光路上，当反应池300中收容有待测物时，入射至反应池300的光线经过反应池300时形成直射的透射光T及散射的散射光S。

散射信号采集器400设置在散射光S的光路上，用于接收散射光S以及检测散射光信号。

反射体900设置在透射光T的光路上，用于将透射光T反射出散射法比浊测量装置10，透射光T反射出散射法比浊测量装置10的方向偏离光源100发出的光线以及散射光S的方向。

保温层结构700包围散射法比浊测量装置10，用于对散射法比浊测量装置10 进行保温，且至少部分保温层结构700设置在反射体900反射出的透射光T的光路上，用于吸收被反射体900反射出的透射光。将对散射法比浊测量装置10保温的保温层结构700用于吸收被反射体900反射出的透射光T，无需额外增加透射光吸收部件，在不增加成本的基础上达到吸收透射光T的效果，减少透射光T因反射回光源100而对光源100出射光功率稳定性造成的影响，提高检测精度。

在本实施例中，反射体900将透射光T反射至散射法比浊测量装置10上方的部分保温层结构700上。在其他实施例中，反射体900还可以将透射光T反射至散射法比浊测量装置10左右方向或者其他方向的部分保温层结构700上。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (17)

1.一种散射法比浊测量装置，其特征在于，所述散射法比浊测量装置包括光源、光束整形组件、反应池、散射信号采集器以及阀基座；

所述光源用于发出光线；

所述光束整形组件设置于所述光源发出光线的光路中，用于调整所述光源发出的光线，并将调整后的光线入射至所述反应池；

所述反应池设置在所述光束整形组件后的光路上，当所述反应池中收容有待测物时，所述入射至所述反应池的光线经过所述反应池时形成直射的透射光及散射的散射光；

所述散射信号采集器在所述散射光的光路上，用于接收所述散射光以及检测所述散射光信号；

所述阀基座设置在所述透射光的光路上，所述阀基座为安装有用于控制液体管路的阀的基座，所述液体管路与所述反应池连通以用于向所述反应池输送液体，所述阀基座用于将所述透射光反射出所述散射法比浊测量装置，所述透射光反射出所述散射法比浊测量装置的方向偏离所述光源发出的光线以及所述散射光的方向。

2.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述阀基座包括至少一个基座表面，所述反应池出射的透射光发射至所述基座表面，自所述反应池出射的透射光发射到所述基座表面的入射角不等于90度。

3.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述散射法比浊测量装置外还设有用于对其进行保温的保温层结构，且至少部分所述保温层结构设置在所述阀基座反射出的透射光的光路上，用于吸收被所述阀基座反射出的透射光。

4.如权利要求3所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述保温层结构为具有多孔结构的保温棉。

5.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述反应池包括第一侧壁，自所述光束整形组件出射的光线发射至所述第一侧壁，并从所述第一侧壁入射至所述反应池，且自所述光束整形组件出射的光线发射到所述第一侧壁的入射角不等于90度。

6.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光束整形组件包括准直透镜，所述准直透镜包括靠近所述光源的第一表面，所述第一表面为向所述光源方向凸出的曲面结构。

7.如权利要求6所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述第一表面设置有减反膜。

8.如权利要求6所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光源发出的光线的中心光线入射至所述准直透镜的第一表面的入射角不等于90°。

9.如权利要求6所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光束整形组件还包括光斑限制光阑，所述光斑限制光阑设置在所述准直透镜与所述反应池之间，所述光斑限制光阑用于控制照射到所述反应池的光斑大小。

10.如权利要求9所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光斑限制光阑的通光孔径为1.5-3.2mm。

11.如权利要求9所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光斑限制光阑在光轴方向上的长度大于5mm。

12.如权利要求6所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光束整形组件还包括小孔光阑，所述小孔光阑设置在所述光源和所述准直透镜之间，所述小孔光阑用于限制入射到所述准直透镜的光束大小。

13.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述散射法比浊测量装置还包括相干光处理器件，所述相干光处理器件设置在反射光反射回所述光源的光路中，所述相干光处理器件用于将反射回所述光源的反射光进行光相位调制。

14.如权利要求13所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述相干光处理器件设置在所述光源和所述光束整形组件之间。

15.如权利要求13所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述相干光处理器件包括光隔离器、扩散片、毛玻璃中的至少一种。

16.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述散射法比浊测量装置还包括相干光处理器件，所述相干光处理器件设置在所述光源和所述光束整形组件之间，所述相干光处理器件用于对所述光源发出的光线进行光相位调制。

17.一种散射法比浊测量装置，其特征在于，所述散射法比浊测量装置包括光源、光束整形组件、反应池、散射信号采集器、反射体以及保温层结构；

所述光源用于发出光线；

所述光束整形组件设置于所述光源发出光线的光路中，用于调整所述光源发出的光线，并将调整后的光线入射至所述反应池；

所述反应池设置在所述光束整形组件后的光路上，当所述反应池中收容有待测物时，所述入射至所述反应池的光线经过所述反应池时形成直射的透射光及散射的散射光；

所述散射信号采集器设置在所述散射光的光路上，用于接收所述散射光以及检测所述散射光信号；

所述反射体设置在所述透射光的光路上，用于将所述透射光反射出所述散射法比浊测量装置，所述透射光反射出所述散射法比浊测量装置的方向偏离所述光源发出的光线以及所述散射光的方向；

所述保温层结构包围所述散射法比浊测量装置，用于对所述散射法比浊测量装置进行保温，且至少部分所述保温层结构设置在所述反射体反射出的透射光的光路上，用于吸收被所述反射体反射出的透射光。

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