CN211931623U - 一种适于藤蔓作物生长的温室大棚 - Google Patents
一种适于藤蔓作物生长的温室大棚 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种适于藤蔓作物生长的温室大棚，其特征在于，所述温室大棚为密闭的立方体，且立方体的外壁设置若干通风孔；所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆，用于引导藤蔓植物向上生长；所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区，用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆。本实用新型具有，节省种植空间，提高种植藤蔓作物效率的技术效果，可广泛应用于温室大棚制造领域。
Description
技术领域
本实用新型涉及温室大棚制造领域，具体为一种适于藤蔓作物生长的温室大棚。
背景技术
藤蔓作物的种植往往在传统的种植模式中，采用与其他非藤蔓作物一起混种，且采用人工插接立杆的方式引导藤蔓，或者专门设置立架以供藤蔓攀爬，该传统种植藤蔓作物的方式耗费种植时间，且后期翻新的工作量大。
实用新型内容
本实用新型的发明目的在于提供一种适于藤蔓作物生长的温室大棚。
本实用新型解决上述技术问题所采取的技术方案如下：
一种适于藤蔓作物生长的温室大棚，所述温室大棚为密闭的立方体，且立方体的外壁设置若干通风孔；
所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆，用于引导藤蔓植物向上生长；
所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区，用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆。
优选地，所述第二生长区包括，在所述立方体内部的顶部按照矩形阵列设置若干单独的栽种盒，每个栽种盒间隔设置，且相邻两栽种盒之间通过连杆连接固定，所述藤蔓作物的藤蔓自所述栽种盒之间的空隙伸出下垂至立杆上。
优选地，所述立杆自上而下伸出的末端设置有若干干涉架体，用于搭设所述藤蔓作物的藤蔓。
优选地，所述立方体内的顶部还均衡设置有若干用于喷洒清水的喷嘴。
优选地，所述温室大棚的顶部为透光的塑料体。
本实用新型的有益技术效果包括：
通过设置立杆，以引导藤蔓植物更好地爬蔓生长，且立杆自上而下垂直设置，可多次重复利用，以及设置有第二生长区，使得作物从上面生长时藤蔓垂下依附于立杆上，有效提高了空间利用率。
本实用新型的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点可通过在所写的说明书、权利要求书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
下面结合附图对本实用新型进行详细的描述，以使得本实用新型的上述优点更加明确。
图1是本实用新型温室大棚的整体结构图；
图2是本实用新型立杆位于立方体的的位置结构图；
图3是本实用新型第二生长区的结构示意图；
图4是本实用新型立杆的结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型进行详细地说明。
如图1-4所示，一种适于藤蔓作物生长的温室大棚1，所述温室大棚1为密闭的立方体，且立方体的外壁设置若干通风孔；
所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆4，用于引导藤蔓植物向上生长；
所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区2，用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆4。
在上述技术方案中，立杆4为可伸缩结构，其包括固定段和伸缩段，固定段固定于立方体内的顶部，伸缩段垂直下设，且可调节伸缩长度，根据实际需求对伸缩长度进行调节，设置时，立杆4的间隔密度应足以容纳施做空间；
第二生长区2设置在立方体内顶部，第二生长区2要定期运送作物生长所需土壤，间隔周期为一个季度的作物成熟后；
其中，立方体包括四根排列成矩形的立柱3，所有立柱3的顶部共同设置一顶架顶架以及立柱3的外侧包覆有塑料布。
在另一种技术方案中，所述第二生长区2包括，在所述立方体内部的顶部按照矩形阵列设置若干单独的栽种盒201，每个栽种盒201间隔设置，且相邻两栽种盒201之间通过连杆202连接固定，所述藤蔓作物的藤蔓自所述栽种盒201之间的空隙伸出下垂至立杆4上。
在上述技术方案中，第二生长区2的栽种盒201间距应设置应足以容纳施做作物种子的空间。
在另一种技术方案中，所述立杆4自上而下伸出的末端设置有若干干涉架体，用于搭设所述藤蔓作物的藤蔓。
在上述技术方案中，干涉架体包括若干垂直于立杆4的横杆401。
在另一种技术方案中，所述立方体内的顶部还均衡设置有若干用于喷洒清水的喷嘴。
在上述技术方案中，喷嘴通过喷管连通有外界的喷灌装置。
在另一种技术方案中，所述温室大棚1的顶部为透光的塑料体。
在上述技术方案中，透明的塑料体用于透光使作物形成生长所需的光合作用。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种适于藤蔓作物生长的温室大棚，其特征在于，所述温室大棚为密闭的立方体，且立方体的外壁设置若干通风孔；
所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆，用于引导藤蔓植物向上生长；
所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区，用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆。
2.根据权利要求1所述的适于藤蔓作物生长的温室大棚，其特征在于，所述第二生长区包括，在所述立方体内部的顶部按照矩形阵列设置若干单独的栽种盒，每个栽种盒间隔设置，且相邻两栽种盒之间通过连杆连接固定，所述藤蔓作物的藤蔓自所述栽种盒之间的空隙伸出下垂至立杆上。
3.根据权利要求1所述的适于藤蔓作物生长的温室大棚，其特征在于，所述立杆自上而下伸出的末端设置有若干干涉架体，用于搭设所述藤蔓作物的藤蔓。
4.根据权利要求1所述的适于藤蔓作物生长的温室大棚，其特征在于，所述立方体内的顶部还均衡设置有若干用于喷洒清水的喷嘴。
5.根据权利要求1所述的适于藤蔓作物生长的温室大棚，其特征在于，所述温室大棚的顶部为透光的塑料体。
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