CN211645376U - 进气分配结构以及等离子体设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了进气分配结构，包括进气管，进气管的一端设有气流导向盘，气流导向盘的远离进气管的侧面与外部真空筒连接，进气管与气流导向盘同轴设置；气流导向盘包括为腔体结构的圆盘体，圆盘体的中部设有与进气管连通的聚气腔，圆盘体上设有多个呈曲线延伸的分流导向通道，分流导向通道的一端与聚气腔连通，分流导向通道的另一端穿过圆盘体与真空筒连通。还公开了等离子体设备。通过设置分配结构，气流经过进气管后会先聚集在聚气腔内，然后沿着分流导向通道曲线移动，行进气流最终从圆盘体进入到真空筒的筒内空间。可对气流进行导向分散和冲击弱化，使得气体更平稳地充满真空筒，有利于提高气相沉积的平稳性。

Description

进气分配结构以及等离子体设备

技术领域

本实用新型涉及气相沉积技术领域，具体涉及进气分配结构以及等离子体设备。

背景技术

等离子体化学气相沉积是指用等离子体激活反应气体，促进在基体表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术。其工作原理是：在高频或者直流电场的作用下，原气体电离形成等离子体，利用低温等离子体作为能量源，通入适量的反应气体，利用等离子体放电，使反应气体激活并实现化学气相沉积的功能。

真空等离子体设备主要由真空腔体、真空获得系统、气体输送系统、等离子发生系统以及控制系统组成，现有技术中的真空腔体包括形成腔体的腔体壁，腔体的一端进气一端排气，在连接进气管道时，由于进气端的气流都是从中心部直接进气，没有对气流弱化导向，导致气流对等离子体的冲击较大，不利于沉积反应的平稳进行。

实用新型内容

为解决上述技术缺陷，本实用新型采用的技术方案在于，提供进气分配结构，包括进气管，所述进气管的一端设有气流导向盘，所述气流导向盘的远离进气管的侧面与外部真空筒连接，所述进气管与气流导向盘同轴设置；所述气流导向盘包括为腔体结构的圆盘体，所述圆盘体的中部设有与进气管连通的聚气腔，所述圆盘体上设有多个呈曲线延伸的分流导向通道，所述分流导向通道的一端与聚气腔连通，所述分流导向通道的另一端穿过圆盘体与真空筒连通。

进一步地，所述分流导向通道连通聚气腔的一端到与真空筒连通的一端的宽度逐渐变大。

进一步地，所述分流导向通道沿聚气腔的周向呈等间距环形分布，且所述分流导向通道设有15-20个。

进一步的，所述进气管远离气流导向盘的一端安装有滤尘组件，所述滤尘组件包括缓流管，所述缓流管的一端设有第一环形板，所述第一环形板的一侧与进气管固定，所述缓流管内设有与第一环形板另一侧固定的过滤架，所述过滤架的外表面上可拆卸设有第一过滤罩。

进一步的，所述过滤架的外表面上还可拆卸设有与第一过滤罩保持间隙设置的第二过滤罩，所述第二过滤罩位于第一过滤罩外，且第二过滤罩的滤孔直径大于第一过滤罩的滤孔直径。

进一步地，所述第一过滤罩、第二过滤罩均为锥形罩，且所述第一过滤罩为柔性布罩，所述第二过滤罩为金属网罩。

一种等离子体设备，包括上述的进气分配结构。

与现有技术比较本实用新型技术方案的有益效果为：

1、本实用新型提供的进气分配结构，通过设置分配结构，气流经过进气管后会先聚集在聚气腔内，然后沿着分流导向通道曲线移动，行进气流最终从圆盘体进入到真空筒的筒内空间。可对气流进行导向分散和冲击弱化，使得气体更平稳地充满真空筒，有利于提高气相沉积的平稳性。

2、分流导向通道与聚气腔连通的一端宽度较小，分流导向通道与真空筒连通的一端宽度较大，且分流导向通道呈曲线延伸，有利于降低气体的流速，提升气流的平稳性。

3、在进气管端部设置缓流管，进一步减缓接入的气体的流速，设置第一过滤罩除了能过滤气体中的杂质，起到净化气流的作用，能保证气相沉积的质量，还能协调降低气体的流速；设置第二过滤罩，除了可避免大直径异物进入进气管，起到保护型拦截的作用，还能对第一过滤罩起到防护的作用。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的进气分配结构第一方位与真空筒连接的结构图；

图2是本实用新型实施例提供的进气分配结构第二方位的结构图；

图3是本实用新型实施例提供的气流导向盘的横截面视图；

图4是本实用新型实施例提供的进气管与气流导向盘的纵截面视图；

图5是本实用新型实施例提供的滤尘组件的纵截面视图。

其中，附图标记为：

1、进气管，2、气流导向盘，21、圆盘体，211、聚气腔，212、分流导向通道，3、真空筒，4、滤尘组件，41、缓流管，42、第一环形板，43、过滤架，44、第一过滤罩，45、第二过滤罩，5、安装孔。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。

实施例1

请参阅图1-图5所示，本实用新型提供了进气分配结构，包括进气管1，进气管1的一端设有气流导向盘2，气流导向盘2的远离进气管1的侧面与外部真空筒3连接，进气管1与气流导向盘2同轴设置。

气流导向盘2包括为腔体结构的圆盘体21，圆盘体21的中部设有与进气管1连通的聚气腔211，圆盘体21上设有多个呈曲线延伸的分流导向通道212，分流导向通道212的一端与聚气腔211连通，分流导向通道212的另一端穿过圆盘体21与真空筒3连通，且分流导向通道212远离聚气腔211的一端靠近真空筒1的内筒壁设置。其中，分流导向通道212向靠近进气管1的一侧凹陷设置。

通过设置进气分配结构，气流经过进气管1后会先聚集在聚气腔211内，然后沿着分流导向通道212曲线移动，行进气流最终从圆盘体21进入到真空筒3的筒内空间。可对气流进行导向分散和冲击弱化，使得气体更平稳地充满真空筒3，有利于提高气相沉积的平稳性，最终得到更好的等离子沉积效果。

优选地，分流导向通道212连通聚气腔211的一端到与真空筒3连通的一端的宽度逐渐变大。分流导向通道212与聚气腔211连通的一端宽度较小，分流导向通道212与真空筒3 连通的一端宽度较大，且分流导向通道212呈曲线延伸，有利于降低气体的流速，提升气流的平稳性。

优选地，分流导向通道212沿聚气腔211的周向呈等间距环形分布，且分流导向通道212 设有15-20个。使流入到真空筒3内的气体分布地更加均匀。

进气管1远离气流导向盘2的一端安装有滤尘组件4，滤尘组件4包括缓流管41，缓流管41的一端设有第一环形板42，第一环形板42的一侧与进气管1固定，缓流管41内设有与第一环形板42另一侧固定的过滤架43，过滤架43的外表面上可拆卸设有第一过滤罩44。

优选地，过滤架43对第一过滤罩44形成有效支撑，过滤架43包括一环形架和一端固定在环形架上的多个支杆，支杆的另一端与第一环形板42固定。

过滤架43的外表面上还可拆卸设有与第一过滤罩44保持间隙设置的第二过滤罩45，第二过滤罩45位于第一过滤罩44外，且第二过滤罩45的滤孔直径大于第一过滤罩44的滤孔直径。

在进气管1端部设置缓流管41，进一步减缓接入的气体的流速，设置第一过滤罩44除了能过滤气体中的杂质，起到净化气流的作用，能保证气相沉积的质量，还能协调降低气体的流速；设置第二过滤罩45，除了可避免大直径异物进入进气管1，起到保护型拦截的作用，还能对第一过滤罩44起到防护的作用。

优选地，第一过滤罩44、第二过滤罩45均为锥形罩，且第一过滤罩44为柔性布罩，第二过滤罩45为金属网罩。

本实用新型还提供了等离子体设备，包括真空筒3，还包括上述进气分配结构。

优选地，真空筒3的内壁上还设有第二环形板，气流导向盘2的边缘均匀分布有多个安装孔5。第二环形板可通过螺栓等紧固件配合安装孔5，对气流导向盘2进行可拆卸安装固定，用于安装进气分配结构。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (7)

1.一种进气分配结构，其特征在于：包括进气管(1)，所述进气管(1)的一端设有气流导向盘(2)，所述气流导向盘(2)的远离进气管(1)的侧面与外部真空筒(3)连接，所述进气管(1)与气流导向盘(2)同轴设置；

所述气流导向盘(2)包括为腔体结构的圆盘体(21)，所述圆盘体(21)的中部设有与进气管(1)连通的聚气腔(211)，所述圆盘体(21)上设有多个呈曲线延伸的分流导向通道(212)，所述分流导向通道(212)的一端与聚气腔(211)连通，所述分流导向通道(212)的另一端穿过圆盘体(21)与真空筒(3)连通。

2.如权利要求1所述的进气分配结构，其特征在于：所述分流导向通道(212)连通聚气腔(211)的一端到与真空筒(3)连通的一端的宽度逐渐变大。

3.如权利要求1所述的进气分配结构，其特征在于：所述分流导向通道(212)沿聚气腔(211)的周向呈等间距环形分布，且所述分流导向通道(212)设有15-20个。

4.如权利要求1所述的进气分配结构，其特征在于：所述进气管(1)远离气流导向盘(2)的一端安装有滤尘组件(4)，所述滤尘组件(4)包括缓流管(41)，所述缓流管(41)的一端设有第一环形板(42)，所述第一环形板(42)的一侧与进气管(1)固定，所述缓流管(41)内设有与第一环形板(42)另一侧固定的过滤架(43)，所述过滤架(43)的外表面上可拆卸设有第一过滤罩(44)。

5.如权利要求4所述的进气分配结构，其特征在于：所述过滤架(43)的外表面上还可拆卸设有与第一过滤罩(44)保持间隙设置的第二过滤罩(45)，所述第二过滤罩(45)位于第一过滤罩(44)外，且第二过滤罩(45)的滤孔直径大于第一过滤罩(44)的滤孔直径。

6.如权利要求5所述的进气分配结构，其特征在于：所述第一过滤罩(44)、第二过滤罩(45)均为锥形罩，且所述第一过滤罩(44)为柔性布罩，所述第二过滤罩(45)为金属网罩。

7.一种等离子体设备，其特征在于：包括如权利要求1-6任一项所述的进气分配结构。

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