CN211546718U - 一种区熔炉热量反射装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种区熔炉热量反射装置，包括底盘、立柱以及设置在立柱上的反射片；所述底盘为圆环结构，底盘上设有不少于一个立柱；每个所述立柱上设有不少于一个反射片，反射片朝向底盘轴线方向放置。本实用新型所述的一种区熔炉热量反射装置通过利用单晶硅片将单晶硅棒向外辐射的热量再反射到单晶硅棒上，能降低单晶硅棒表面轴向和径向温度梯度，可以避免单晶硅棒因冷却过快而产生裂纹，同时使单晶硅棒表面轴向温度梯度减小，缩小了单晶表面与单晶中心的温度差，使单晶硅棒的径向电阻率更均匀，提升单晶硅的产品质量。
Description
技术领域
本实用新型属于区熔炉加工设备技术领域，尤其是涉及一种区熔炉热量反射装置。
背景技术
使用区熔炉拉制单晶硅棒时，单晶硅棒常因冷却过快而导致轴向以及径向温度梯度较大，进而导致单晶出现裂纹甚至炸裂，以及单晶的径向电阻率不均匀。为解决这一问题，本项目设计了一种区熔炉热量反射装置，将单晶硅棒向外辐射的热量，再反射到单晶硅棒上，使单晶硅棒缓慢降温，实现了单晶硅棒的保温效果。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型所述的一种区熔炉热量反射装置通过利用单晶硅片将单晶硅棒向外辐射的热量再反射到单晶硅棒上，能降低单晶硅棒表面轴向和径向温度梯度，可以避免单晶硅棒因冷却过快而产生裂纹，同时使单晶硅棒表面轴向温度梯度减小，缩小了单晶表面与单晶中心的温度差，使单晶硅棒的径向电阻率更均匀，提升单晶硅的产品质量。
为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：
一种区熔炉热量反射装置，用于反射区熔炉内反应物向外辐射的热量，包括底盘、立柱以及设置在立柱上的反射片。
进一步的，所述底盘为圆环结构，底盘上设有不少于一个立柱。
进一步的，每个所述立柱上设有不少于一个反射片，反射片朝向底盘轴线方向放置。
进一步的，沿所述立柱长度方向还设有多个固定架；固定架顶部与立柱内侧固定连接，底部向内部弯折设有挂钩，挂钩为“八”字形；所述固定架用于放置反射片。
进一步的，所述底盘由两个便于拆装的半圆环结构组合而成。
进一步的，沿所述底盘周向还设有用于固定底盘的支撑螺杆，所述支撑螺杆用于调节底盘与区熔炉的位置。
进一步的，所述支撑螺杆沿底盘外柱面向外侧设有多个。
进一步的，所述立柱沿底盘周向对称设置，立柱数量为偶数个。
进一步的，所述反射片为单晶硅片，每个立柱上设有3个单晶硅片。
进一步的，所述底盘的上底面设有多个螺纹孔，立柱底部通过螺栓与底盘固定连接；沿所述立柱侧表面的长度方向设有多个螺纹孔，固定架与立柱通过螺栓固定连接。
相对于现有技术，本实用新型所述的一种区熔炉热量反射装置具有以下优势：
本实用新型所述的一种区熔炉热量反射装置通过利用单晶硅片将单晶硅棒向外辐射的热量再反射到单晶硅棒上，能降低单晶硅棒表面轴向和径向温度梯度，可以避免单晶硅棒因冷却过快而产生裂纹，同时使单晶硅棒表面轴向温度梯度减小，缩小了单晶表面与单晶中心的温度差，使单晶硅棒的径向电阻率更均匀，提升单晶硅的产品质量。
附图说明
构成本实用新型的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
图1为本实用新型实施例所述的一种区熔炉热量反射装置示意图。
附图标记说明：
1-底盘；2-支撑螺杆；3-立柱；4-固定架；5-反射片；6-立柱安装孔；7-固定架安装孔。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“项”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
如图1所示，一种区熔炉热量反射装置包括底盘1、立柱3、固定架4和安装在固定架4上的单晶硅片；所述底盘1为圆环结构，底盘1上表面设有多对用于安装立柱3的立柱安装孔6；所述立柱3底部通过螺栓与底盘1固定连接，立柱3侧表面还设有用于安装固定架4的固定架安装孔7；所述固定架4用于放置单晶硅片，所述固定架4与立柱3通过螺栓固定连接；每个所述固定架4上设有单晶硅片，各个所述单晶硅片表面朝向底盘1圆环的轴线方向设置。
区熔炉热量反射装置将单晶硅棒向外辐射的热量，利用单晶硅片(或者其他具有光滑表面的材料)再反射到单晶硅棒上，使单晶硅棒缓慢降温，实现了单晶硅棒的保温效果。之所以首选单晶硅片作为反射片5，其一是因为单晶硅片具有光滑的表面质量，能够充分地反射热量。其二是因为单晶硅片与生产的单晶硅棒是同一种材料，避免在拉制单晶硅棒的过程中引入新杂质。
在具体实施过程中将底盘1两个便于安装拆卸的半圆环依次放到炉室的平板上，将两个半圆环拼接到一起，组成一个完整的圆环型底盘1。
将底盘1上的4个支撑螺杆2向外旋转，直至4个支撑螺杆2全部顶到垂直的圆桶型炉壁内壁上；4个支撑螺杆2向外旋转的长度相同，保证了圆环型底盘1与圆桶型炉壁同心。
按照实际需要，确定立柱3的安装个数与安装间距，利用螺钉和立柱安装孔6，将立柱3安装到底盘11上。
松开固定架安装孔7上的螺栓，按照实际需要，确定每根立柱3上固定架4的安装个数与安装间距。调整好每个固定架安装孔7上的固定架4之间的角度后，将单晶硅反射片(或其他材料的反射片)挂装在固定架4上，拧紧固定架4螺栓，使固定架4不再转动；安装完毕后，即可进行拉制区熔的工作。
沿底盘1设有偶数对立柱3，每个立柱3上设有3个及其以上反射片5可以达到最佳效果，立柱3对称设置保证了热量反射的最佳效果。
本装置所述各部件之间均通过便于快速拆装的螺栓等方式连接。
将热量反射装置从区熔炉中拆卸时，按照上述步骤的相反顺序进行拆卸即可。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种区熔炉热量反射装置，用于反射区熔炉内反应物向外辐射的热量，其特征在于：包括底盘(1)、立柱(3)以及设置在立柱(3)上的反射片(5)；
所述底盘(1)为圆环结构，底盘(1)上设有不少于一个立柱(3)；
每个所述立柱(3)上设有不少于一个反射片(5)，反射片(5)朝向底盘(1)轴线方向放置。
2.根据权利要求1所述的一种区熔炉热量反射装置，其特征在于：沿所述立柱(3)长度方向还设有多个固定架(4)；固定架(4)顶部与立柱(3)内侧固定连接，底部向内部弯折设有挂钩，挂钩为“八”字形；所述固定架(4)用于放置反射片(5)。
3.根据权利要求1所述的一种区熔炉热量反射装置，其特征在于：所述底盘(1)由两个便于拆装的半圆环结构组合而成。
4.根据权利要求1所述的一种区熔炉热量反射装置，其特征在于：沿所述底盘(1)周向还设有用于固定底盘(1)的支撑螺杆(2)，所述支撑螺杆(2)用于调节底盘(1)与区熔炉的位置。
5.根据权利要求4所述的一种区熔炉热量反射装置，其特征在于：所述支撑螺杆(2)沿底盘(1)外柱面向外侧设有多个。
6.根据权利要求1所述的一种区熔炉热量反射装置，其特征在于：所述立柱(3)沿底盘(1)周向对称设置，立柱(3)数量为偶数个。
7.根据权利要求6所述的一种区熔炉热量反射装置，其特征在于：所述反射片(5)为单晶硅片，每个立柱(3)上设有3个单晶硅片。
8.根据权利要求1或2所述的一种区熔炉热量反射装置，其特征在于：所述底盘(1)的上底面设有多个螺纹孔，立柱(3)底部通过螺栓与底盘(1)固定连接；沿所述立柱(3)侧表面的长度方向设有多个螺纹孔，固定架(4)与立柱(3)通过螺栓固定连接。
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