CN211497755U - 一种qpq氧化炉坩埚 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种QPQ氧化炉坩埚，包括氧化炉和坩埚本体，所述坩埚本体的顶部固定连接有防护罩，所述防护罩的底部与坩埚本体连通，并且防护罩的内侧底表壁转动连接有活动板。本实用新型中，氧化炉的内部设置了坩埚本体，坩埚本体上设置了防护罩，防护罩的底部设置了下料管，并且防护罩的外壁上设置了防腐层，采用此设计的好处在于：防护罩呈漏斗状结构，反应产生的氧化盐溅出后可落在防护罩上，由于防腐层的设置，使防护罩不易被腐蚀，并且防护罩的底部为弧面结构，溅落的液体可顺着弧面向下滑动并且通过下料管回到坩埚本中，进而通过此设计防止腐蚀物溅落在氧化炉上，从而延长了设备的使用寿命。

Description

一种QPQ氧化炉坩埚

技术领域

本实用新型涉及氧化炉坩埚技术领域，尤其涉及一种QPQ氧化炉坩埚。

背景技术

QPQ处理是指将黑色金属零件放入两种性质不同的盐浴中，通过多种元素渗入金属表面形成复合渗层，从而达到使零件表面改性的目的。它没有经过淬火，但达到了表面淬火的效果，因此国内外称之为QPQ。最新改良工艺叫光中氮化。该工艺相比QPQ优点在于完全不变形，硬度更高，深度更深，效率高，不需要抛光，可氮化精度高，非标及大型零部件。

现有的QPQ氧化炉坩埚在使用中仍然存在不足之处，其主要原因是氮化完成后进行氧化时，氧化盐产生反应外溅，溅出氧化盐从坩锅口顺着法兰盘边慢慢渗入炉内，对电阻进行腐蚀造成熔断。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：为了解决现有QPQ氧化炉坩埚在进行加工时易造成氧化炉被腐蚀的问题，而提出的一种QPQ氧化炉坩埚。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种QPQ氧化炉坩埚，包括氧化炉和坩埚本体，所述坩埚本体的顶部固定连接有防护罩，所述防护罩的底部与坩埚本体连通，并且防护罩的内侧底表壁转动连接有活动板，所述防护罩的底部连通有下料管。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述防护罩的内侧底表壁为四周高中间低的弧面结构。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述防护罩为漏斗状结构。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述活动板设有多个，且多个活动板均为弧面结构，所述多个活动板绕防护罩的竖直中轴线等角度圆周排列，并且相邻的活动板的侧端面可相互贴合。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述下料管设有多个，且多个下料管绕防护罩的竖直中轴线等角度圆周排列。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述防护罩和下料管的内表壁上均敷设有防腐层。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型中，氧化炉的内部设置了坩埚本体，坩埚本体上设置了防护罩，防护罩的底部设置了下料管，并且防护罩的外壁上设置了防腐层，采用此设计的好处在于：防护罩呈漏斗状结构，反应产生的氧化盐溅出后可落在防护罩上，由于防腐层的设置，使防护罩不易被腐蚀，并且防护罩的底部为弧面结构，溅落的液体可顺着弧面向下滑动并且通过下料管回到坩埚本中，进而通过此设计防止腐蚀物溅落在氧化炉上，从而延长了设备的使用寿命。

2、本实用新型中，防护罩的内部设置了活动板，采用此设计的好处在于：活动板可旋转至相互贴合，进而减小防护罩与坩埚本体的连通大小，通过旋转活动板球可起到防反应物飞溅的问题。

附图说明

图1示出了根据本实用新型实施例提供的坩埚本体与防护罩的连接结构示意图；

图2示出了根据本实用新型实施例提供的多个活动板的拼接结构示意图；

图3示出了根据本实用新型实施例提供的防护罩底部结构示意图。

图例说明：

1、氧化炉；2、坩埚本体；3、防护罩；4、活动板；5、下料管；6、防腐层。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种QPQ氧化炉坩埚，包括氧化炉1和坩埚本体2，坩埚本体2的顶部固定连接有防护罩3，防护罩3的底部与坩埚本体2连通，并且防护罩3的内侧底表壁转动连接有活动板4，防护罩3的底部连通有下料管5，通过防护罩3的设置使腐蚀性物质把无法接触氧化炉1，进而减少氧化炉1的俯视，延长其使用寿命。

具体的，如图1所示，防护罩3的内侧底表壁为四周高中间低的弧面结构，防护罩3为漏斗状结构，使飞溅的氧化盐不会接触氧化炉1。

具体的，如图2所示，活动板4设有多个，且多个活动板4均为弧面结构，多个活动板4绕防护罩3的竖直中轴线等角度圆周排列，并且相邻的活动板4的侧端面可相互贴合，活动板4打开方便往坩埚本体2加原料，活动板4关闭可以防止反应物反应飞溅。

具体的，如图3所示，下料管5设有多个，且多个下料管5绕防护罩3的竖直中轴线等角度圆周排列，多个下料管5方便溅落在防护罩3内的腐蚀性液体流回坩埚本体2。

具体的，如图1所示，防护罩3和下料管5的内表壁上均敷设有防腐层6，防腐层6可提高防护罩3的防腐蚀性能，进而延长使用寿命。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种QPQ氧化炉坩埚，包括氧化炉(1)和坩埚本体(2)，其特征在于，所述坩埚本体(2)的顶部固定连接有防护罩(3)，所述防护罩(3)的底部与坩埚本体(2)连通，并且防护罩(3)的内侧底表壁转动连接有活动板(4)，所述防护罩(3)的底部连通有下料管(5)。

2.根据权利要求1所述的一种QPQ氧化炉坩埚，其特征在于，所述防护罩(3)的内侧底表壁为四周高中间低的弧面结构。

3.根据权利要求1所述的一种QPQ氧化炉坩埚，其特征在于，所述防护罩(3)为漏斗状结构。

4.根据权利要求1所述的一种QPQ氧化炉坩埚，其特征在于，所述活动板(4)设有多个，且多个活动板(4)均为弧面结构，所述多个活动板(4)绕防护罩(3)的竖直中轴线等角度圆周排列，并且相邻的活动板(4)的侧端面可相互贴合。

5.根据权利要求1所述的一种QPQ氧化炉坩埚，其特征在于，所述下料管(5)设有多个，且多个下料管(5)绕防护罩(3)的竖直中轴线等角度圆周排列。

6.根据权利要求1所述的一种QPQ氧化炉坩埚，其特征在于，所述防护罩(3)和下料管(5)的内表壁上均敷设有防腐层(6)。

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