CN211069731U - 镀膜原料制备装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种镀膜原料制备装置，包括：搅拌罐、承载板、承压板、旋转板、驱动电机及驱动气缸。驱动电机与搅拌罐连接，驱动电机与承载板驱动连接，承载板与搅拌罐的内壁转动连接。驱动气缸与搅拌罐连接，驱动气缸与承压板驱动连接，承压板与搅拌罐滑动连接。承压板开设有旋转槽，旋转板收容于旋转槽中并与承压板转动连接。承载板设置有若干搅拌片，旋转板开设有若干连接孔，搅拌片插设于连接孔中与旋转板滑动连接。上述镀膜原料制备装置，通过驱动电机转动承载板，使各搅拌片旋转搅拌。通过驱动气缸推动承压板，承压板带动旋转板朝承接板运动，使得搅拌腔压强增大。以利于溶质充分溶解于溶剂中，从而提升搅拌效率，提高搅拌的均匀程度。

Description

镀膜原料制备装置

技术领域

本实用新型涉及溶液制备的技术领域，特别是涉及一种镀膜原料制备装置。

背景技术

镀膜是指在产品表面涂镀一层或多层镀膜原料，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求的方法。镀膜原料即镀膜液，镀膜液由溶质与溶剂经搅拌混合制备而成。根据不同的溶质与溶剂可制备成不同功能的镀膜液，溶质与溶剂的混合于镀膜原料制备装置中完成，镀膜原料制备装置对溶质与溶剂进行搅拌，使得溶质充分溶于溶剂中，从而制得镀膜液。

然而，目前的镀膜原料制备装置的搅拌效率低，需要经过长时间的搅拌才足以将溶质完成溶于溶剂中。其次，搅拌的均匀程度低，易发生部分溶剂未充分溶解的情况，从而影响镀膜液的品质，弱化镀膜功效。

实用新型内容

基于此，有必要针对搅拌效率低以及搅拌均匀程度低的技术问题，提供一种镀膜原料制备装置。

一种镀膜原料制备装置，该镀膜原料制备装置包括：搅拌罐、承载板、承压板、旋转板、驱动电机以及驱动气缸。所述承载板、所述承压板、所述旋转板、所述驱动电机以及所述驱动气缸均收容于所述搅拌罐内。所述驱动电机与所述搅拌罐的底部连接，所述驱动电机与所述承载板驱动连接，所述承载板与所述搅拌罐的内壁转动连接。所述驱动电机用于驱动所述承载板旋转。所述驱动气缸与所述搅拌罐的顶部连接，所述驱动气缸与所述承压板驱动连接，所述承压板与所述搅拌罐的内壁滑动连接。所述驱动气缸用于驱动所述承压板靠近或远离所述承载板运动。所述承压板与所述承载板间隔设置，所述承压板开设有旋转槽，所述旋转板收容于所述旋转槽中并与所述承压板转动连接。所述承载板设置有若干搅拌片，所述旋转板开设有若干连接孔，每一所述搅拌片插设于一所述连接孔中并与所述旋转板滑动连接。所述搅拌罐、所述承载板、所述旋转板以及所述承压板共同围成搅拌腔，所述搅拌罐的侧壁设置有溶质输入门、溶剂输入阀以及镀膜液输出阀。所述溶质输入门、所述溶剂输入阀以及所述镀膜液输出阀分别与所述搅拌腔连通。

在其中一个实施例中，所述旋转板的侧壁设置有环形滑块，所述承压板于所述旋转槽的槽壁开设有环形滑槽，所述环形滑块与所述环形滑槽相适配，所述环形滑块插设于所述环形滑槽中并所述承压板转动连接。

在其中一个实施例中，所述环形滑块的横截面呈半圆形。

在其中一个实施例中，若干所述搅拌片环绕所述承载板的中心均匀分布。

在其中一个实施例中，所述搅拌片呈勺形结构，所述搅拌片的勺形凸起部分朝向所述搅拌罐的侧壁。

在其中一个实施例中，所述搅拌罐的内壁开设有环形转动槽，所述承载板的边缘区域插设于所述环形转动槽中并与所述搅拌罐转动连接。

在其中一个实施例中，设置若干所述驱动气缸，各所述驱动气缸均与所述承压板驱动连接。

在其中一个实施例中，若干所述驱动气缸环绕所述承压板的中心均匀分布。

在其中一个实施例中，所述搅拌罐设置有压力监测器，所述压力监测器收容于所述搅拌腔中。

在其中一个实施例中，所述搅拌罐设置有液位监测器，所述液位监测器收容于所述搅拌腔中。

上述镀膜原料制备装置，通过溶质输入门使镀膜原料的溶质投入搅拌腔内，溶剂通过溶剂输入阀进入搅拌腔中，通过驱动电机转动承载板，以使得各搅拌片旋转，从而对溶质与溶剂进行搅拌。通过驱动气缸推动承压板，承压板带动旋转板一并朝向承接板运动，从而使得搅拌腔内的压强增大。这样，利于溶质充分溶解于溶剂中，从而提升搅拌效率，缩减搅拌时间，进一步提高搅拌的均匀程度，以提升镀膜液的品质。

附图说明

图1为一个实施例中镀膜原料制备装置的结构示意图；

图2为图1所示实施例中镀膜原料制备装置的剖视结构示意图；

图3为一个实施例中镀膜原料制备装置的剖视结构示意图；

图4为另一个实施例中镀膜原料制备装置的剖视结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

请一并参阅图1至图3，本实用新型提供了一种镀膜原料制备装置10，该镀膜原料制备装置10包括：搅拌罐100、承载板200、承压板300、旋转板400、驱动电机500以及驱动气缸600。承载板200、承压板300、旋转板400、驱动电机500以及驱动气缸600均收容于搅拌罐100内。驱动电机500与搅拌罐100的底部连接，驱动电机500与承载板200驱动连接，承载板200与搅拌罐100的内壁转动连接。驱动电机500用于驱动承载板200旋转。驱动气缸600与搅拌罐100的顶部连接，驱动气缸600与承压板300驱动连接，承压板300与搅拌罐100的内壁滑动连接。驱动气缸600用于驱动承压板300靠近或远离承载板200运动。承压板300与承载板200间隔设置，承压板300开设有旋转槽310，旋转板400收容于旋转槽310中并与承压板300转动连接。承载板200设置有若干搅拌片210，旋转板400开设有若干连接孔410，每一搅拌片210插设于一连接孔410中并与旋转板400滑动连接。搅拌罐100、承载板200、旋转板400以及承压板300共同围成搅拌腔110，搅拌罐100的侧壁设置有溶质输入门120、溶剂输入阀130以及镀膜液输出阀140。溶质输入门120、溶剂输入阀130以及镀膜液输出阀140分别与搅拌腔110连通。

上述镀膜原料制备装置10，通过溶质输入门120使镀膜原料的溶质投入搅拌腔110内，溶剂通过溶剂输入阀130进入搅拌腔110中，通过驱动电机500转动承载板200，以使得各搅拌片210旋转，从而对溶质与溶剂进行搅拌。通过驱动气缸600推动承压板300，承压板300带动旋转板400一并朝向承载板200运动，从而使得搅拌腔110内的压强增大。这样，利于溶质充分溶解于溶剂中，从而提升搅拌效率，缩减搅拌时间，进一步提高搅拌的均匀程度，以提升镀膜液的品质。

搅拌罐100为镀膜原料制备装置的主体部件，镀膜原料的制备于搅拌罐100内完成。可以理解为，搅拌罐100于搅拌腔110的侧壁设置溶质输入门120、溶剂输入阀130以及镀膜液输出阀140。溶质输入门120用于投放镀膜液溶质，用户可通过溶质输入门120将溶质投入搅拌腔110中。溶剂输入阀130用于输入镀膜液溶剂，用户可通过溶剂输入阀130将溶剂输入搅拌腔110中。镀膜液输出阀140用于向外输出制备完成的镀膜液，用户可通过镀膜液输出阀140将搅拌腔110中的镀膜液向外输出。

承载板200用于执行搅拌动作。在驱动电机500的驱动作用下，承载板200的边壁贴合搅拌罐100的内壁旋转，设置于承载板200上的各搅拌片210将对溶质与溶剂进行搅拌，从而完成镀膜液的制备工作。

为了提升搅拌的均匀程度，在其中一个实施例中，若干搅拌片210环绕承载板200的中心均匀分布。本实施例中，承载板200设置有四个搅拌片210，各搅拌片210于承载板200上的分布均匀。这样，各搅拌片210在对镀膜液进行搅拌的过程中，镀膜液的整体均匀程度一致。进一步地，为了提升搅拌效率，缩减搅拌时间，在其中一个实施例中，搅拌片210呈勺形结构，搅拌片210的勺形凸起部分朝向搅拌罐100的侧壁。这样，各搅拌片210对镀膜液的搅拌覆盖面更大，从而提高搅拌效率，进而缩减搅拌时间。由于各搅拌片210呈勺形，也就是说，搅拌片210插入连接孔410的部分结构呈一字型。即搅拌片210并不阻碍旋转板400靠近或远离承载板200运动适当距离。搅拌片210呈一字型的部分结构能够插入连接孔410中与旋转板400滑动连接，不阻碍旋转片的执行动作。还需注意的是，本实施例中，搅拌片210插入连接孔410的部分结构始终与旋转板400紧密贴合，也就是说，搅拌片210贴合着旋转板400于连接孔410中滑动。如此，进一步提升了搅拌效率。

请参阅图4，为了提升承载板200的转动稳定性，在其中一个实施例中，搅拌罐100的内壁开设有环形转动槽150，承载板200的边缘区域插设于环形转动槽150中并与搅拌罐100转动连接。环形转动槽150的开设为承载板200的旋转起到了支撑以及限位的作用。这样，承载板200的旋转更为稳定性，另外，提升了承载板200与搅拌罐100转动连接的紧密程度。如此，提升了承载板200的转动稳定性，提高了镀膜原料制备装置的工作稳定性。

承压板300用于带动旋转板400一并靠近承载板200运动，从而增大搅拌腔110内的压强，以提升搅拌效率。旋转板400用于确保该镀膜原料制备装置的搅拌动作与增压动作得以同步进行。旋转板400与承压板300为转动连接的关系，从而使得旋转板400不会限制搅拌片210的搅拌动作，各旋转片的转动将一并带动旋转片的旋转。另外，各搅拌片210与旋转片为滑动连接的关系，每一搅拌片210插设于一连接孔410中并与旋转板400滑动连接，从而确保旋转板400靠近或远离承载板200运动的过程中不影响各搅拌片210的转动。

为了提升旋转板400与承压板300转动连接的稳定性，在其中一个实施例中，旋转板400的侧壁设置有环形滑块420，承压板300于旋转槽310的槽壁开设有环形滑槽311，环形滑块420与环形滑槽311相适配，环形滑块420插设于环形滑槽311中并承压板300转动连接。这样，环形滑槽311对旋转板400起到了限位的作用，旋转板400通过环形滑块420嵌入该环形滑槽311中，从而避免旋转板400脱离承压板300中的旋转槽310。如此，提升了旋转板400与承压板300转动连接的稳定性，提高了该镀膜原料制备装置的工作稳定性。进一步地，为了提升环形滑块420在滑动过程中的流畅程度，在其中一个实施例中，环形滑块420的横截面呈半圆形。这样，环形滑块420于环形滑槽311中的旋转过程更为顺滑、流畅。如此，提升了旋转板400与承压板300的转动稳定性。

驱动电机500用于驱动承载板200旋转，从而使得各搅拌片210执行搅拌动作。本实施例中，驱动电机500为伺服电机。伺服电机可使控制速度，位置精度非常准确，可以将电压信号转化为转矩和转速以驱动控制对象。伺服电机转子转速受输入信号控制，并能快速反应，在自动控制系统中，用作执行元件，且具有机电时间常数小、线性度高、始动电压等特性，可把所收到的电信号转换成电动机轴上的角位移或角速度输出。

驱动气缸600用于驱动承压板300朝向承载板200运动。本实施例中，驱动气缸600为SC复动型气缸。为了提升承压板300运动过程的稳定性，在其中一个实施例中，设置若干驱动气缸600，各驱动气缸600均与承压板300驱动连接。具体的，设置四个驱动气缸600，各各驱动气缸600均与承压板300驱动连接。这样，承压板300在靠近承载板200的过程中，其动作更为稳定性。进一步地，一实施例中，若干驱动气缸600环绕承压板300的中心均匀分布。进一步保证运动过程的平稳性。另外，当某个驱动气缸600故障时，其余的驱动气缸600仍能保证增压动作的继续完成。如此，进一步保障了该镀膜原料制备装置的工作稳定性。

需要说明的是，搅拌罐100、承载板200、搅拌片210、承压板300以及旋转板400之间连接紧密，无连接缝隙。一实施例中，搅拌腔110内为真空环境，镀膜液的溶质与溶剂进入搅拌腔110后，承压板300与旋转板400通过之间按压镀膜液以达成增压功能。在另一实施例中，搅拌腔110内充入有惰性气体，该惰性气体不与溶质或溶剂发生任何化学反应。承压板300与旋转板400通过向搅拌腔110内的惰性气体按压，以增大搅拌腔110内的压强。

为了便于用户获知搅拌罐100内的压强情况，在其中一个实施例中，搅拌罐100设置有压力监测器160，压力监测器160收容于搅拌腔110中。在本实施例中，压力监测器160为SP-80/82系列压力变送器。SP-80/82系列压力变送器采用扩散硅压力芯体作为敏感元件，全不锈钢一体激光焊接成型，内置放大转换电路，将传感器受压的毫伏信号转换为标准电压、电流信号输出，可方便地远距离传送控制。如此，方便了用户获知搅拌罐100内的压强情况。

进一步地，为了便于用户获知搅拌罐100内的液位情况，在其中一个实施例中，搅拌罐100设置有液位监测器170，液位监测器170收容于搅拌腔110中。本实施例中，液位监测器170为SP-81系列投入式静压液位计。SP-81系列投入式静压液位计采用耐腐蚀不锈钢或陶瓷膜片，通过测量探头处液体自重产生的压力，根据液体的密度，间接测得液体的高度，并转换成标准电源、电流信号输出。如此，方便了用户获知搅拌罐100内的液位情况。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种镀膜原料制备装置，其特征在于，包括：搅拌罐、承载板、承压板、旋转板、驱动电机以及驱动气缸；所述承载板、所述承压板、所述旋转板、所述驱动电机以及所述驱动气缸均收容于所述搅拌罐内；

所述驱动电机与所述搅拌罐的底部连接，所述驱动电机与所述承载板驱动连接，所述承载板与所述搅拌罐的内壁转动连接；所述驱动电机用于驱动所述承载板旋转；

所述驱动气缸与所述搅拌罐的顶部连接，所述驱动气缸与所述承压板驱动连接，所述承压板与所述搅拌罐的内壁滑动连接；所述驱动气缸用于驱动所述承压板靠近或远离所述承载板运动；

所述承压板与所述承载板间隔设置，所述承压板开设有旋转槽，所述旋转板收容于所述旋转槽中并与所述承压板转动连接；所述承载板设置有若干搅拌片，所述旋转板开设有若干连接孔，每一所述搅拌片插设于一所述连接孔中并与所述旋转板滑动连接；

所述搅拌罐、所述承载板、所述旋转板以及所述承压板共同围成搅拌腔，所述搅拌罐的侧壁设置有溶质输入门、溶剂输入阀以及镀膜液输出阀；所述溶质输入门、所述溶剂输入阀以及所述镀膜液输出阀分别与所述搅拌腔连通。

2.根据权利要求1所述的镀膜原料制备装置，其特征在于，所述旋转板的侧壁设置有环形滑块，所述承压板于所述旋转槽的槽壁开设有环形滑槽，所述环形滑块与所述环形滑槽相适配，所述环形滑块插设于所述环形滑槽中并所述承压板转动连接。

3.根据权利要求2所述的镀膜原料制备装置，其特征在于，所述环形滑块的横截面呈半圆形。

4.根据权利要求1所述的镀膜原料制备装置，其特征在于，若干所述搅拌片环绕所述承载板的中心均匀分布。

5.根据权利要求1所述的镀膜原料制备装置，其特征在于，所述搅拌片呈勺形结构，所述搅拌片的勺形凸起部分朝向所述搅拌罐的侧壁。

6.根据权利要求1所述的镀膜原料制备装置，其特征在于，所述搅拌罐的内壁开设有环形转动槽，所述承载板的边缘区域插设于所述环形转动槽中并与所述搅拌罐转动连接。

7.根据权利要求1所述的镀膜原料制备装置，其特征在于，设置若干所述驱动气缸，各所述驱动气缸均与所述承压板驱动连接。

8.根据权利要求7所述的镀膜原料制备装置，其特征在于，若干所述驱动气缸环绕所述承压板的中心均匀分布。

9.根据权利要求1所述的镀膜原料制备装置，其特征在于，所述搅拌罐设置有压力监测器，所述压力监测器收容于所述搅拌腔中。

10.根据权利要求1所述的镀膜原料制备装置，其特征在于，所述搅拌罐设置有液位监测器，所述液位监测器收容于所述搅拌腔中。

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