CN210954499U - 一种带磁吸的镜架翻转机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种带磁吸的镜架翻转机构，包括连接梁，呈水平布置并且垂直连接两根鼻垫架；翻转臂，设在连接梁的下方，翻转臂带有第一销轴且具备绕第一销轴的摆动自由度，第一销轴的自身轴线与连接梁的长度方向平行；磁吸机构，连接梁、翻转臂上分别具备贯通自身一对对面的上容纳坑、下容纳坑，上容纳坑、下容纳坑占据的空间呈四棱台状，磁吸机构包括长方体状的上永磁体、下永磁体，上容纳坑、下容纳坑内分别装配有上永磁体、下永磁体；翻转臂上翻至水平时，上永磁体与下永磁体相互吸引贴合，并且上容纳坑、下容纳坑相互贴合的底面为每个四棱台两个底面中相对小的底面。采用此实用新型利用磁吸力实现限位，同时永磁体装配方便，不易脱落。

Description

一种带磁吸的镜架翻转机构

技术领域

本实用新型涉及眼镜框领域，具体涉及一种带磁吸的镜架翻转机构。

背景技术

有些眼镜的镜片有两个极限位置，一种即是镜片的下放状态，即为常规状态，人员的视野穿过镜片进行观察；一种是镜片上翻状态，镜片比下放状态上翻约90°，视野不经过镜片。镜片为了达到这两种极限位置，有时候是借助一些卡接机构来固定，因为卡接结构的先天原因，长久使用后可能会出现磨损。

实用新型内容

本实用新型要解决的问题在于提供一种带磁吸的镜架翻转机构，利用磁吸力实现限位，同时永磁体装配方便，不易脱落。

为解决上述问题，本实用新型提供一种带磁吸的镜架翻转机构，为达到上述目的，本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种带磁吸的镜架翻转机构，包括：连接梁，呈水平布置并且垂直连接两根鼻垫架；翻转臂，设在连接梁的下方，翻转臂带有空间位置固定的第一销轴且具备绕第一销轴的摆动自由度，第一销轴的自身轴线与连接梁的长度方向平行；磁吸机构，连接梁、翻转臂上分别具备贯通自身一对对面的上容纳坑、下容纳坑，上容纳坑、下容纳坑占据的空间呈四棱台状，磁吸机构包括上永磁体、下永磁体，上永磁体、下永磁体外表均呈长方体，上容纳坑、下容纳坑内分别装配有上永磁体、下永磁体；翻转臂上翻至水平时，上永磁体与下永磁体因相互的吸引力而贴合，并且上容纳坑、下容纳坑相互贴合的底面为每个四棱台两个底面中相对小的底面。

采用上述技术方案的有益效果是：利用两块永磁体的吸附贴合来代替传统物理接触的卡接方式，从而避免了卡接方式在长久使用后松动磨损等缺点。永磁体的吸附贴合能够产生足够的限位力，保证翻转臂与连接梁之间极限位置的稳定。永磁体因为一般选用市面上的现成产品，所以永磁体的自身形状一般是通用统一的长方体，难以对其提出太复杂的形状要求。对应的容纳坑则可以加工出相对复杂的形状，来使得永磁体与容纳坑装配牢固。因为上永磁体、下永磁体有相互靠近的趋势，为了避免它们长久使用后从连接梁、翻转臂上脱离，利用容纳坑自身横断面面积单向渐变的四棱台空间，永磁体越往相互贴合的方向靠近，容纳坑对永磁体的挤压夹紧效果就越好，防止永磁体的脱落，同时永磁体在初始装配时又可以方便得从容纳坑的大口装入。整个翻转机构适宜用于带镜片翻转的眼镜架中。

作为本实用新型的进一步改进，上永磁体、下永磁体材质为钕磁体。

采用上述技术方案的有益效果是：钕磁体的相对体积小，产生的磁吸力足够大，能够起到限位作用。

作为本实用新型的更进一步改进，上永磁体与下永磁体的尺寸相等，并且各自的长宽高分别为3mm、2mm、1mm，上容纳坑与下容纳坑的尺寸也相等。

采用上述技术方案的有益效果是：永磁体的尺寸规格比较通用统一，上永磁体与下永磁体尺寸相同，上容纳坑与下容纳坑尺寸相同，降低了制造的难度。

作为本实用新型的又进一步改进，上永磁体、下永磁体的厚度等于连接梁、翻转臂的厚度。

采用上述技术方案的有益效果是：保证永磁体的上表面、下表面均与连接梁、翻转臂的上表面、下表面齐平。

作为本实用新型的又进一步改进，上永磁体、下永磁体的底面的长宽数值等于上容纳坑、下容纳坑中相互贴合的底面的长宽数值。

采用上述技术方案的有益效果是：保证永磁体与容纳坑的一个端口正好挤压装配。

作为本实用新型的又进一步改进，上永磁体与上容纳坑之间以及下永磁体与下容纳坑之间存在缝隙，缝隙内填充有树脂。

采用上述技术方案的有益效果是：四棱柱状的容纳坑内容纳长方体，必然会存在缝隙，为树脂的填充提供了空间，树脂能够加强永磁体与容纳坑的装配牢固度。

作为本实用新型的又进一步改进，每个鼻垫架具备分别上下连接的水平杆、斜向杆，斜向杆的底部连接有鼻托垫，连接梁与水平杆垂直连接。

采用上述技术方案的有益效果是：水平杆保证连接梁能够水平布置，同时斜向杆与鼻托垫保证鼻垫架初始的功能。

作为本实用新型的又进一步改进，第一销轴位于翻转臂上背离斜向杆的一端，翻转臂上靠近斜向杆的一端具备与第一销轴平行布置的第二销轴。

采用上述技术方案的有益效果是：第一销轴可以与固定的镜架主体连接，第二销轴用于与镜圈连接。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型一种实施方式的立体图。

图2是本实用新型一种实施方式的立体图。

图3是本实用新型一种实施方式的立体图。

图4是本实用新型一种实施方式的立体图。

1-鼻垫架；1a-水平杆；1b-斜向杆；2-连接梁；2a-上容纳坑；3-翻转臂；3a-下容纳坑；4-上永磁体；5-下永磁体；6-第一销轴；7-第二销轴。

具体实施方式

下面结合具体实施例，对本实用新型的内容做进一步的详细说明：

为了达到本实用新型的目的，一种带磁吸的镜架翻转机构，包括：连接梁2，呈水平布置并且垂直连接两根鼻垫架1；翻转臂3，设在连接梁2的下方，翻转臂3带有空间位置固定的第一销轴6且具备绕第一销轴6的摆动自由度，第一销轴6的自身轴线与连接梁3的长度方向平行；磁吸机构，连接梁3、翻转臂4上分别具备贯通自身一对对面的上容纳坑2a、下容纳坑3a，上容纳坑2a、下容纳坑3a占据的空间呈四棱台状，磁吸机构包括上永磁体4、下永磁体5，上永磁体4、下永磁体5外表均呈长方体，上容纳坑2a、下容纳坑3a内分别装配有上永磁体4、下永磁体5；翻转臂3上翻至水平时，上永磁体4与下永磁体5因相互的吸引力而贴合，并且上容纳坑2a、下容纳坑3a相互贴合的底面为每个四棱台两个底面中相对小的底面。

采用上述技术方案的有益效果是：利用两块永磁体的吸附贴合来代替传统物理接触的卡接方式，从而避免了卡接方式在长久使用后松动磨损等缺点。永磁体的吸附贴合能够产生足够的限位力，保证翻转臂与连接梁之间极限位置的稳定。永磁体因为一般选用市面上的现成产品，所以永磁体的自身形状一般是通用统一的长方体，难以对其提出太复杂的形状要求。对应的容纳坑则可以加工出相对复杂的形状，来使得永磁体与容纳坑装配牢固。因为上永磁体、下永磁体有相互靠近的趋势，为了避免它们长久使用后从连接梁、翻转臂上脱离，利用容纳坑自身横断面面积单向渐变的四棱台空间，永磁体越往相互贴合的方向靠近，容纳坑对永磁体的挤压夹紧效果就越好，防止永磁体的脱落，同时永磁体在初始装配时又可以方便得从容纳坑的大口装入。整个翻转机构适宜用于带镜片翻转的眼镜架中。

在本实用新型的另一些实施方式中，上永磁体4、下永磁体5材质为钕磁体。

采用上述技术方案的有益效果是：钕磁体的相对体积小，产生的磁吸力足够大，能够起到限位作用。

在本实用新型的另一些实施方式中，上永磁体4与下永磁体5的尺寸相等，并且各自的长宽高分别为3mm、2mm、1mm，上容纳坑2a与下容纳坑3a的尺寸也相等。

采用上述技术方案的有益效果是：永磁体的尺寸规格比较通用统一，上永磁体与下永磁体尺寸相同，上容纳坑与下容纳坑尺寸相同，降低了制造的难度。

在本实用新型的另一些实施方式中，上永磁体4、下永磁体5的厚度等于连接梁2、翻转臂3的厚度。

采用上述技术方案的有益效果是：保证永磁体的上表面、下表面均与连接梁、翻转臂的上表面、下表面齐平。

在本实用新型的另一些实施方式中，上永磁体4、下永磁体5的底面的长宽数值等于上容纳坑2a、下容纳坑3a中相互贴合的底面的长宽数值。

采用上述技术方案的有益效果是：保证永磁体与容纳坑的一个端口正好挤压装配。

在本实用新型的另一些实施方式中，上永磁体4与上容纳坑2a之间以及下永磁体5与下容纳坑3a之间存在缝隙，缝隙内填充有树脂。

采用上述技术方案的有益效果是：四棱柱状的容纳坑内容纳长方体，必然会存在缝隙，为树脂的填充提供了空间，树脂能够加强永磁体与容纳坑的装配牢固度。

在本实用新型的另一些实施方式中，每个鼻垫架1具备分别上下连接的水平杆1a、斜向杆1b，斜向杆1b的底部连接有鼻托垫，连接梁2与水平杆1a垂直连接。

采用上述技术方案的有益效果是：水平杆保证连接梁能够水平布置，同时斜向杆与鼻托垫保证鼻垫架初始的功能。

在本实用新型的另一些实施方式中，第一销轴6位于翻转臂3上背离斜向杆1b的一端，翻转臂3上靠近斜向杆1b的一端具备与第一销轴6平行布置的第二销轴7。

采用上述技术方案的有益效果是：第一销轴可以与固定的镜架主体连接，第二销轴用于与镜圈连接。

图1中为了方便显示上容纳坑2a、下容纳坑3a，从而隐藏了上永磁体4、下永磁体5。为了方便显示上容纳坑2a、下容纳坑3a、上永磁体4、下永磁体5各自的轮廓，用虚线表示了它们被遮挡的轮廓。图1、图3、图4中翻转臂3为下放状态，图2中翻转臂3为上翻状态。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

Claims (8)

1.一种带磁吸的镜架翻转机构，其特征在于，包括：

连接梁，呈水平布置并且垂直连接两根鼻垫架；

翻转臂，设在连接梁的下方，所述翻转臂带有空间位置固定的第一销轴且具备绕第一销轴的摆动自由度，所述第一销轴的自身轴线与连接梁的长度方向平行；

磁吸机构，所述连接梁、翻转臂上分别具备贯通自身一对对面的上容纳坑、下容纳坑，所述上容纳坑、下容纳坑占据的空间呈四棱台状，所述磁吸机构包括上永磁体、下永磁体，所述上永磁体、下永磁体外表均呈长方体，所述上容纳坑、下容纳坑内分别装配有上永磁体、下永磁体；所述翻转臂上翻至水平时，所述上永磁体与下永磁体因相互的吸引力而贴合，并且上容纳坑、下容纳坑相互贴合的底面为每个四棱台两个底面中相对小的底面。

2.根据权利要求1所述的带磁吸的镜架翻转机构，其特征在于：所述上永磁体、下永磁体材质为钕磁体。

3.根据权利要求1所述的带磁吸的镜架翻转机构，其特征在于：所述上永磁体与下永磁体的尺寸相等，并且各自的长宽高分别为3mm、2mm、1mm，所述上容纳坑与下容纳坑的尺寸也相等。

4.根据权利要求3所述的带磁吸的镜架翻转机构，其特征在于：所述上永磁体、下永磁体的厚度等于连接梁、翻转臂的厚度。

5.根据权利要求4所述的带磁吸的镜架翻转机构，其特征在于：所述上永磁体、下永磁体的底面的长宽数值等于上容纳坑、下容纳坑中相互贴合的底面的长宽数值。

6.根据权利要求5所述的带磁吸的镜架翻转机构，其特征在于：所述上永磁体与上容纳坑之间以及下永磁体与下容纳坑之间存在缝隙，所述缝隙内填充有树脂。

7.根据权利要求1所述的带磁吸的镜架翻转机构，其特征在于：每个鼻垫架具备分别上下连接的水平杆、斜向杆，所述斜向杆的底部连接有鼻托垫，所述连接梁与水平杆垂直连接。

8.根据权利要求7所述的带磁吸的镜架翻转机构，其特征在于：所述第一销轴位于翻转臂上背离斜向杆的一端，所述翻转臂上靠近斜向杆的一端具备与第一销轴平行布置的第二销轴。

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