CN210790154U - 一种异形面产品加工的吸附装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及机床加工技术领域，具体涉及一种异形面产品加工的吸附装置，包括第一吸附座、第二吸附座及真空发生器，所述第一吸附座的中部设有容腔，所述容腔与所述真空发生器相连通，所述第二吸附座固定安装于所述第一吸附座的顶部，所述第二吸附座上与所述第一吸附座的容腔对应处设有至少一个密封槽，所述密封槽与待吸附产品的形状相同，所述密封槽的底部设有气孔，并通过所述气孔与所述第一吸附座的容腔相连通，所述气孔的周侧设有若干个向上凸起的导流体，以此使得待加工的异形面产品位置保持稳定，便于产品加工时定位，可使异形面产品一次性完成加工，提高生产效率，降低加工成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及机床加工技术领域，具体涉及一种异形面产品加工的吸附装置。
背景技术
在CNC(数控机床)加工的行业中，如遇到无规则异形外形多面的产品加工时，在加工时靠外形无法对待加工产品进行定位装夹或会出现待加工产品装夹不稳定现象，因此，现有的异形面产品加工需采用多种加工方式配合，不能在同一种加工设备上一次性完成所有加工，无形中造成加工成本的上升，同时产品加工的品质也无法保证。
因此，行业内亟需一种能解决上述问题的方案。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对现有技术的不足而提供一种异形面产品加工的吸附装置，可实现异形面产品的吸附定位。本实用新型的目的可以通过如下所述技术方案来实现。
一种异形面产品加工的吸附装置，包括第一吸附座、第二吸附座及真空发生器，所述第一吸附座的中部设有容腔，所述容腔与所述真空发生器相连通，所述第二吸附座固定安装于所述第一吸附座的顶部，所述第二吸附座上与所述第一吸附座的容腔对应处设有至少一个密封槽，所述密封槽与待吸附产品的形状相同，所述密封槽的底部设有气孔，并且所述密封槽通过所述气孔与所述第一吸附座的容腔相连通，所述气孔的周侧且位于所述密封槽内设有若干个向上凸起的导流体。
作为优选地，所述容腔与所述真空发生器之间设有真空控制阀门。
作为优选地，所述第二吸附座上设有若干个定位块，且所述定位块环绕设置于所述密封槽的周侧。
作为优选地，所述导流体凸起的高度小于所述密封槽的深度。
作为优选地，所述密封槽对应待吸附产品安装孔处设有让位区域。
作为优选地，所述容腔的腔口处设有第一安装槽，所述第一安装槽内设置有第一密封圈。
作为优选地，所述密封槽的槽口处设有第二安装槽，所述第二安装槽内设置有第二密封圈。
与现有技术比，本实用新型的有益效果：
本实用新型研发了一种异形面产品加工的吸附装置，将待吸附的异形面产品放置在第二吸附座的密封槽上，利有真空发生器在第一吸附座的容腔内产生真空环境，真空流随着密封槽的底部的气孔进入密封槽中，并在向上凸起的导流体作用下均匀稳定地流动，使得异形面产品受到均匀稳定的吸附力，以此使得待加工的异形面产品位置保持稳定，便于产品加工时定位，可使异形面产品一次性完成加工，提高生产效率，降低加工成本。
附图说明
图1为本实用新型实施例的结构示意图。
图2为本实用新型实施例的结构爆炸图。
具体实施方式
下面将结合具体实施例，对本实用新型的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通的技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型的保护范围。
针对异形面产品9加工时无法定位装夹、以及夹持不稳定的问题，本实用新型提供一种异形面产品9加工的吸附装置，不再夹持异形面产品9表面进行加工，而是采用真空发生技术并对真空流进行导流产生稳定均衡的吸附力，以将异形面产品9进行位置固定加工。
一种异形面产品9加工的吸附装置，如图1及图2所示，包括第一吸附座1、第二吸附座2及真空发生器(图中未示)，所述第一吸附座1的中部设有容腔11，所述容腔11与所述真空发生器相连通，在真空发生器的作用下，可以使第一吸附座1的容腔11内产生可紧紧吸附异形面产品9的真空条件。所述第二吸附座2固定安装于所述第一吸附座1的顶部，形成对外密封的结构，防止对真空吸附环境造成不利的影响。所述第二吸附座2上与所述第一吸附座1的容腔11对应处设有至少一个密封槽21，其中密封槽21优选为两个，但密封槽21的个数不应作为对本实用新型的限制。所述密封槽21与待吸附产品9的形状相同，以便于与产品9对应吸附。所述密封槽21的底部设有气孔24，并且密封槽21通过所述气孔24与所述第一吸附座1的容腔11相连通，密封槽21用于放置异形面的产品9，第一吸附座1的容腔11内的真空流通过密封槽21底部的气孔24进入密封槽21，从而吸附异形面产品9的底部，使得异形面产品9的位置固定。所述气孔24的周侧且位于所述密封槽内设有若干个向上凸起的导流体22，导流体22一方面可以起到支撑作用，另一方面可以在异形面产品底面与密封槽底面之间形成真空腔体，对真空流进行导向以对异形面产品9产生稳定的、均匀的吸附力，避免异形面产品9因受力不均而位置不稳定。
本实施例中提供的一种异形面产品9加工的吸附装置，将待吸附的异形面产品9放置在第二吸附座2的密封槽21上，利有真空发生器在第一吸附座1的容腔11内产生真空环境，真空流随着密封槽21的底部的气孔24进入密封槽21中，并在向上凸起的导流体22作用下均匀稳定地流动，使得异形面产品9受到均匀稳定的吸附力，以此使得待加工的异形面产品9位置保持稳定，便于产品9加工时定位，可使异形面产品9一次性完成加工，提高生产效率，降低加工成本。
本实施例中提供的一种异形面产品9加工的吸附装置，如图1及图2所示，所述容腔11与所述真空发生器之间设有真空控制阀门3，可以通过真空控制阀门3对容腔11内的真空流量进行控制，便于对异形面产品9的吸附力大小进行调节，便于掌控吸附力大小。
本实施例中提供的一种异形面产品9加工的吸附装置，如图1及图2所示，所述第二吸附座2上设有若干个定位块23，且所述定位块23环绕设置于所述密封槽21的周侧，由于密封槽21的形状与待吸附产品9的形状相同，待吸附异形面产品9放置在密封槽21时，各个定位块23紧贴吸附异形面产品9的侧面，从而使吸附异形面产品9位置对准密封槽21放置，便于进行吸附。
本实施例中提供的一种异形面产品9加工的吸附装置，如图1所示，所述导流体22凸起的高度小于所述密封槽21的深度，一方面可以起到支撑作用，另一方面可以在异形面产品底面与密封槽底面之间形成真空腔体起到导流的作用。当待吸附产品9放置于密封槽21时，密封槽21的侧壁能限制待吸附的产品9的位置，避免其发生侧移，而导流体22凸起形成的通道可容置真空流来对产品9产生真空的吸附力。
本实施例中提供的一种异形面产品9加工的吸附装置，如图1及图2所示，由于吸附产品9安装孔处会发生漏气现象，因此在密封槽21对应待吸附产品9安装孔处设有让位区域25，也即放置产品9于密封槽21时，吸附产品9安装孔位于密封槽21之外，此时无需对吸附产品9安装孔进行密封也可避免因气密性的问题对真空环境造成的破坏。
本实施例中提供的一种异形面产品9加工的吸附装置，如图1及图2所示，所述容腔11的腔口处设有第一安装槽5，所述第一安装槽5内设置有第一密封圈4，所述密封槽21的槽口处设有第二安装槽7，所述第二安装槽7内设置有第二密封圈6，可以保障吸附装置的气密性，避免影响吸附力。
以上借助具体实施例对本实用新型做了进一步描述，但是应该理解的是，这里具体的描述，不应理解为对本实用新型的实质和范围的限定，本领域内的普通技术人员在阅读本说明书后对上述实施例做出的各种修改，都属于本实用新型所保护的范围。
Claims (7)
1.一种异形面产品加工的吸附装置，其特征在于，包括第一吸附座、第二吸附座及真空发生器，所述第一吸附座的中部设有容腔，所述容腔与所述真空发生器相连通，所述第二吸附座固定安装于所述第一吸附座的顶部，所述第二吸附座上与所述第一吸附座的容腔对应处设有至少一个密封槽，所述密封槽与待吸附产品的形状相同，所述密封槽的底部设有气孔，并且所述密封槽通过所述气孔与所述第一吸附座的容腔相连通，所述气孔的周侧且位于所述密封槽内设有若干个向上凸起的导流体。
2.根据权利要求1所述的一种异形面产品加工的吸附装置，其特征在于，所述容腔与所述真空发生器之间设有真空控制阀门。
3.根据权利要求1所述的一种异形面产品加工的吸附装置，其特征在于，所述第二吸附座上设有若干个定位块，且所述定位块环绕设置于所述密封槽的周侧。
4.根据权利要求1所述的一种异形面产品加工的吸附装置，其特征在于，所述导流体凸起的高度小于所述密封槽的深度。
5.根据权利要求1所述的一种异形面产品加工的吸附装置，其特征在于，所述密封槽对应待吸附产品安装孔处设有让位区域。
6.根据权利要求1所述的一种异形面产品加工的吸附装置，其特征在于，所述容腔的腔口处设有第一安装槽，所述第一安装槽内设置有第一密封圈。
7.根据权利要求1所述的一种异形面产品加工的吸附装置，其特征在于，所述密封槽的槽口处设有第二安装槽，所述第二安装槽内设置有第二密封圈。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113561081A (zh) * | 2021-06-23 | 2021-10-29 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种异形镜片加工定位装置 |
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- 2019-10-21 CN CN201921767752.5U patent/CN210790154U/zh not_active Expired - Fee Related
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