CN210787454U - 一种大米抛光装置 - Google Patents

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徐育建
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Abstract

本实用新型公开了一种大米抛光装置,主要包括箱体、进料斗和出料口,其特征在于,所述的箱体按照从上到下的顺序依次设置一组粗抛光压辊、一组精抛光压辊和传送带,传送带传送方向上的一侧下方设置出料口;粗抛光压辊、精抛光压辊之间一侧的箱体设置风机,另一侧设置出尘口,风机的风向对准出尘口。本实用新型采用二次抛光,可以提升抛光效果,同时可以减少对大米的过度加工带来的营养流失;采用二次抛光,粗抛光时产生的灰尘也便于清除。

Description

一种大米抛光装置
技术领域
本实用新型涉及大米加工设备技术领域,具体涉及一种大米抛光装置。
背景技术
糙米碾成大米后,米粒的表面还带有少量糠粉,影响大米的外观品质、储存性和制成米饭的口感。通过抛光,有利于彻底去除米粒表面上的米糠,还能使米粒表面淀粉胶质化,提高大米的光洁度,既改善大米外观效果,同时利于保存。目前的大米抛光装置一般采用一次抛光,这样存在抛光效果欠佳和不便于除杂的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对上述问题,提供一种大米抛光装置,采用二次抛光,提升抛光效果,同时也便于清除抛光过程产生的灰尘。
本实用新型是这样实现的,一种大米抛光装置,主要包括箱体、进料斗和出料口,其特征在于,所述的箱体按照从上到下的顺序依次设置一组粗抛光压辊、一组精抛光压辊和传送带,传送带传送方向上的一侧下方设置出料口;粗抛光压辊、精抛光压辊之间一侧的箱体设置风机,另一侧设置出尘口,风机的风向对准出尘口。
进一步的,上述的大米抛光装置,其特征在于,所述的精抛光压辊间距小于粗抛光压辊间距。
进一步的,上述的大米抛光装置,其特征在于,所述的传送带表面为布满细孔的网状结构。
进一步的,上述的大米抛光装置,其特征在于,所述的传送带向出料口方向倾斜,有利于减少米粒之间的挤压力。
进一步的,上述的大米抛光装置,其特征在于,所述的箱体装有传送带部分的宽度大于上部的宽度。
本实用新型的有益效果是,1、采用二次抛光,可以提升抛光效果,同时可以减少对大米的过度加工带来的营养流失。2、二次抛光,粗抛光时产生的灰尘也便于清除。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
在图中,1、箱体,2、进料斗,3、出料口,4、粗抛光压辊,5、精抛光压辊,6、风机,7、出尘口,8、传送带。
具体实施方式
如图1所示,一种大米抛光装置,主要包括箱体1、进料斗2和出料口3,所述的箱体1按照从上到下的顺序依次设置一组粗抛光压辊4、一组精抛光压辊5和传送带8,传送带8传送方向上的一侧下方设置出料口3;粗抛光压辊4、精抛光压辊5之间左侧的箱体1设置风机6,右侧设置出尘口7,风机6的风向对准出尘口7。
所述的精抛光压辊5间距小于粗抛光压辊4间距。所述的传送带8向出料口3方向倾斜,利用自身重力滚动,有利于减少米粒之间的挤压力。所述的传送带8表面为布满细孔的网状结构,且箱体1装有传送带8部分的宽度是上部的宽度的2倍,有利于抛光的大米在传送带8上自然风干。
以上所述是本实用新型的优选实施例,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

Claims (5)

1.一种大米抛光装置,主要包括箱体、进料斗和出料口,其特征在于,所述的箱体按照从上到下的顺序依次设置一组粗抛光压辊、一组精抛光压辊和传送带,传送带传送方向上的一侧下方设置出料口;粗抛光压辊、精抛光压辊之间一侧的箱体设置风机,另一侧设置出尘口,风机的风向对准出尘口。
2.根据权利要求1所述的大米抛光装置,其特征在于,所述的精抛光压辊间距小于粗抛光压辊间距。
3.根据权利要求1所述的大米抛光装置,其特征在于,所述的传送带表面为布满细孔的网状结构。
4.根据权利要求1所述的大米抛光装置,其特征在于,所述的传送带向出料口方向倾斜。
5.根据权利要求1所述的大米抛光装置,其特征在于,所述的箱体装有传送带部分的宽度大于上部的宽度。
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